[發明專利]一種渦輪盤盤緣位置出口氣流流量的測量裝置及方法

有效

• 申請號: 201910690226.1
• 申請日: 2019-07-29
• 公開（公告）號: CN110656984B
• 公開（公告）日: 2022-04-01
• 發明（設計）人: 林志輝;吳小軍;田申
• 申請（專利權）人: 中國航發沈陽發動機研究所
• 主分類號: F01D21/00
• 分類號: F01D21/00
• 代理公司: 北京航信高科知識產權代理事務所(普通合伙) 11526
• 代理人: 劉傳準

1.一種渦輪盤盤緣位置出口氣流流量的測量方法，其特征在于，所述渦輪盤包括盤腔，沿渦輪盤軸向位于盤腔前側的前腔及位于盤腔后側的后腔，通過測量裝置對渦輪盤盤緣位置出口氣流流量進行測量，所述測量裝置包括與所述前腔通過篦齒密封連接的第一腔，與盤腔連通的第二腔，以及與所述后腔通過篦齒密封連接的第三腔，所述第一腔與所述第二腔之間設置有篦齒密封結構，所述第三腔與所述第二腔之間設置有篦齒密封結構，所述第一腔、第二腔、第三腔、前腔以及后腔各自連接有壓力調節管道，所述壓力調節管道包括進氣管與出氣管，所述進氣管連通氣源，其上設置有流量計及閥門，所述出氣管連通大氣，其上設置有閥門及流量計，所述進氣管上設置有壓氣機，所述方法包括：

步驟一、調節所述第一腔及所述前腔內的氣體壓力使其達到發動機試驗目標值；

步驟二、調節所述第三腔及所述后腔內的氣體壓力使其達到發動機試驗目標值；

步驟三、調節第二腔內的氣體壓力使其達到發動機試驗目標值，同時，調節所述第一腔及第三腔內的壓力，使其維持步驟一及步驟二內的壓力；

步驟四、計算所述前腔向所述第一腔的第一出口流量，所述后腔向所述第三腔的第二出口流量，以及所述盤腔向所述第二腔的第三出口流量。

2.如權利要求1所述的渦輪盤盤緣位置出口氣流流量的測量方法，其特征在于，所述步驟一包括：

調節所述前腔內的氣體壓力使其達到發動機試驗目標值；

調節所述第一腔的氣體壓力使其接近所述前腔內的氣體壓力。

3.如權利要求1所述的渦輪盤盤緣位置出口氣流流量的測量方法，其特征在于，所述步驟二包括：

調節所述后腔內的氣體壓力使其達到發動機試驗目標值；

調節所述第三腔的氣體壓力使其接近所述后腔內的氣體壓力。