[發(fā)明專利]一種高分辨率衍射成像方法及裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910684751.2 | 申請(qǐng)日: | 2019-07-26 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110411983B | 公開(公告)日: | 2022-05-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張福才;王航宇;何振飛;許文慧 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 南方科技大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01N21/47 | 分類號(hào): | G01N21/47 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
| 地址: | 518000 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 高分辨率 衍射 成像 方法 裝置 | ||
1.一種高分辨率衍射成像方法,其特征在于,包括:
步驟S110、根據(jù)待測(cè)物體的預(yù)設(shè)透過率函數(shù)和預(yù)設(shè)照明光波函數(shù),以及待測(cè)物體與檢測(cè)器之間的距離,獲取所述檢測(cè)器位置處光的波函數(shù);
步驟S120、分離所述檢測(cè)器位置處光的波函數(shù)得到第一振幅和第一相位;
步驟S130、根據(jù)所述檢測(cè)器接收到的光強(qiáng)度,第二波函數(shù)的強(qiáng)度以及所述檢測(cè)器的物理像素和計(jì)算樣本的尺寸對(duì)應(yīng)關(guān)系對(duì)所述第一振幅進(jìn)行修正得到第二振幅;其中,所述第二波函數(shù)的強(qiáng)度根據(jù)所述檢測(cè)器的相鄰兩個(gè)物理像素之間的間隔對(duì)第一波函數(shù)進(jìn)行重新采樣獲得,其中,所述第一波函數(shù)為對(duì)所述檢測(cè)器位置處光的波函數(shù)做平滑處理得到;
步驟S140、將所述第二振幅與所述第一相位合并形成所述檢測(cè)器位置處的波前估計(jì);
其中,所述計(jì)算樣本為模擬計(jì)算中一個(gè)計(jì)算像素,所述計(jì)算像素的尺寸小于所述檢測(cè)器的物理像素尺寸;
步驟S150、根據(jù)所述檢測(cè)器位置處的波前估計(jì),以及待測(cè)物體與所述檢測(cè)器之間的距離,獲取反向傳播所述波前估計(jì)至待測(cè)物體表面時(shí)的第三波函數(shù);
步驟S160、根據(jù)所述第三波函數(shù)獲取待測(cè)物體的實(shí)際透過率函數(shù)和實(shí)際照明光波函數(shù);
步驟S170、改變照明光在待測(cè)物體所在平面的位置,并重復(fù)所述步驟S110、所述步驟S120、所述步驟S130、所述步驟S140、所述步驟S150和所述步驟S160,直至遍歷了所有的測(cè)量位置,以完成一次迭代;
步驟S180、判斷是否滿足迭代終止條件,并在不符合迭代終止條件時(shí)進(jìn)行下一次迭代。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高分辨率衍射成像方法,其特征在于,所述步驟S130包括:
步驟S131、對(duì)所述檢測(cè)器位置處光的波函數(shù)做平滑處理得到第一波函數(shù);
步驟S132、根據(jù)所述檢測(cè)器的相鄰兩個(gè)物理像素之間的間隔對(duì)所述第一波函數(shù)進(jìn)行重新采樣,得到第二波函數(shù);
步驟S133、根據(jù)所述檢測(cè)器接收到的光強(qiáng)度以及所述第二波函數(shù)的強(qiáng)度得到第一比例系數(shù);
步驟S134、根據(jù)所述第一比例系數(shù)以及所述檢測(cè)器的物理像素和計(jì)算樣本的尺寸對(duì)應(yīng)關(guān)系,通過數(shù)據(jù)內(nèi)插法得到第二比例系數(shù);
步驟S135、根據(jù)所述第二比例系數(shù)對(duì)所述第一振幅進(jìn)行修正得到第二振幅。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高分辨率衍射成像方法,其特征在于,所述步驟S110包括:
步驟S111、給定待測(cè)物體的預(yù)設(shè)透過率函數(shù)和預(yù)設(shè)照明光波函數(shù);
步驟S112、根據(jù)待測(cè)物體的預(yù)設(shè)透過率函數(shù)和預(yù)設(shè)照明光波函數(shù),計(jì)算得到透過待測(cè)物體后的出波的波函數(shù);
步驟S113、根據(jù)所述出波的波函數(shù),以及待測(cè)物體與檢測(cè)器之間的距離,獲取檢測(cè)器位置處光的波函數(shù)。
4.一種高分辨率衍射成像裝置,其特征在于,包括:
檢測(cè)器位置處光的波函數(shù)獲取模塊,用于根據(jù)待測(cè)物體的預(yù)設(shè)透過率函數(shù)和預(yù)設(shè)照明光波函數(shù),以及待測(cè)物體與檢測(cè)器之間的距離,獲取所述檢測(cè)器位置處光的波函數(shù);
振幅相位分離模塊,用于分離所述檢測(cè)器位置處光的波函數(shù)得到第一振幅和第一相位;
第二振幅獲取模塊,用于根據(jù)所述檢測(cè)器接收到的光強(qiáng)度,第二波函數(shù)的強(qiáng)度以及所述檢測(cè)器的物理像素和計(jì)算樣本的尺寸對(duì)應(yīng)關(guān)系對(duì)所述第一振幅進(jìn)行修正得到第二振幅;其中,所述第二波函數(shù)的強(qiáng)度根據(jù)所述檢測(cè)器的相鄰兩個(gè)物理像素之間的間隔對(duì)第一波函數(shù)進(jìn)行重新采樣獲得,其中,所述第一波函數(shù)為對(duì)所述檢測(cè)器位置處光的波函數(shù)做平滑處理得到;
波前估計(jì)獲取模塊,用于將所述第二振幅與所述第一相位合并形成的所述檢測(cè)器位置處的波前估計(jì);
其中,所述計(jì)算樣本為模擬計(jì)算中一個(gè)計(jì)算像素,所述計(jì)算像素的尺寸小于所述檢測(cè)器的物理像素尺寸;
第三波函數(shù)獲取模塊,用于根據(jù)所述檢測(cè)器位置處的波前估計(jì),以及待測(cè)物體與所述檢測(cè)器之間的距離,獲取反向傳播所述波前估計(jì)至待測(cè)物體表面時(shí)的第三波函數(shù);
透過率函數(shù)及照明光波函數(shù)獲取模塊,用于根據(jù)所述第三波函數(shù)獲取待測(cè)物體的實(shí)際透過率函數(shù)和實(shí)際照明光波函數(shù);
迭代模塊,用于改變照明光在待測(cè)物體所在平面的位置,直至遍歷了所有的測(cè)量位置,以完成一次迭代;
重復(fù)計(jì)算判斷模塊,用于判斷是否滿足迭代終止條件,并在不符合迭代終止條件時(shí)進(jìn)行下一次迭代。
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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