[發(fā)明專利]測量線膨脹系數(shù)用高溫爐、應用其的測量裝置和方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910679997.0 | 申請日: | 2019-07-26 |
| 公開(公告)號: | CN110487841A | 公開(公告)日: | 2019-11-22 |
| 發(fā)明(設計)人: | 劉少坤;魏耀武;白喻 | 申請(專利權)人: | 武漢科技大學 |
| 主分類號: | G01N25/16 | 分類號: | G01N25/16;F27B17/00 |
| 代理公司: | 42222 武漢科皓知識產(chǎn)權代理事務所(特殊普通合伙) | 代理人: | 齊晨潔<國際申請>=<國際公布>=<進入 |
| 地址: | 430081 湖北*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 支撐架 爐體 待測試樣 固定設置 承載 上端 通孔 測量線膨脹系數(shù) 偏移 高溫爐 爐襯 伸入 下端 架設 穿過 膨脹 傳遞 支撐 | ||
本發(fā)明提供一種測量線膨脹系數(shù)的高溫爐,包括基座(10)、爐體(20)和支撐架(30),所述爐體(20)和支撐架(30)均固定設置在所述基座(10)上,所述爐體(20)的底部開設有通孔(21),所述支撐架(30)的上端穿過所述通孔(21)伸入在爐體(20)內(nèi),在支撐架(30)上端設有承載部(31),支撐架(30)的下端固定設置在所述基座(10)上;所述承載部(21)用于承載待測試樣。本發(fā)明將支撐架設置于爐體外,避免了爐襯的膨脹傳遞給待測試樣而使待測試樣發(fā)生偏移。
技術領域
本發(fā)明屬于實驗測量領域,尤其涉及測量線膨脹系數(shù)用高溫爐、應用其的測量裝置和方法。
背景技術
在材料線膨脹系數(shù)測量過程中,微小的變化往往能引起較大的測量誤差,所以測量裝置總需要盡量減少誤差因素的引入。現(xiàn)有的測量裝置,樣品支撐架直接放置在高溫爐的爐襯上,而高溫爐爐襯往往用耐火磚制成,在高溫下會發(fā)生膨脹,而該膨脹變化通過樣品支撐架傳遞給待測試樣則表現(xiàn)為待測試樣發(fā)生偏移,同時由于耐火磚本身的不均質(zhì)性,由耐火磚膨脹引起的偏移變化量也存在不確定性,總之由于高溫爐爐襯的膨脹引入了測量偏差。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述技術問題,本發(fā)明提供了測量線膨脹系數(shù)用高溫爐及應用其的線膨脹測量裝置。
本發(fā)明采用的技術方案如下:
一種測量線膨脹系數(shù)用高溫爐,包括基座(10)、爐體(20)和支撐架(30),其特征在于,所述爐體(20)和支撐架(30)均固定設置在所述基座(10)上,所述爐體(20)的底部開設有通孔(21),所述支撐架(30)的上端穿過所述通孔(21)伸入在爐體(20)內(nèi),在支撐架(30)上端設有承載部(31),支撐架(30)的下端固定設置在所述基座(10)上;所述承載部(21)用于承載待測試樣。
進一步,所述通孔(21)的數(shù)量為2個以上,所述支撐架(30)由2個以上支撐桿組成,每個支撐桿的上端均一對一穿過所述通孔伸入在爐體內(nèi),支撐桿的上端設有水平的承載桿,所述承載桿構成所述承載部(31)。
一種應用所述高溫爐的線膨脹系數(shù)測量裝置,包括激光位移傳感器(40),其特征在于,所述高溫爐的爐體(20)相對的兩側側壁上開設有測量窗口(22),測量窗口(22)上設有耐高溫玻璃,所述激光位移傳感器(40)設置在高溫爐兩側并正對所述測量窗口(22);所述高溫爐用于為待測試樣加熱并記錄其溫度數(shù)值,激光位移傳感器(40)用于測量其到待測試樣端部的距離數(shù)值。
進一步,還包括主控計算機(50),所述主控計算機(50)分別與所述高溫爐、所述激光位移傳感器(40)線路連接;主控計算機(50)采集由所述高溫爐傳送的溫度數(shù)值和所述激光位移傳感器(40)傳送的距離數(shù)值。
一種所述線膨脹系數(shù)測量裝置的使用方法,其特征在于,包括如下步驟:
步驟1):在室溫T0下,測量待測試樣的長度并記作l0;
步驟2):在室溫T0下,將待測試樣放入高溫爐的承載部(21)上,啟動激光位移傳感器(40),測得兩側的激光位移傳感器(40)距待測試樣(A)兩端的距離分別為S10、S20;啟動高溫爐,設定最高溫度為Tmax,設定高溫爐升溫速率為ΔT/min,開始升溫;
步驟3):采集溫度數(shù)值為Tt1時,高溫爐兩側的激光位移傳感器(40)距待測試樣兩端的距離分別為S1t1、S2t1,得到Tt1溫度下的熱膨脹系數(shù):
從而得到一組標定值依此方法,高溫爐繼續(xù)升溫,采集待測試樣的n-1組標定值Ttn≤Tmax;
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于武漢科技大學,未經(jīng)武漢科技大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910679997.0/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





