[發(fā)明專利]顯示面板及其制作方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201910672175.X
• 申請日: 2019-07-24
• 公開（公告）號: CN110415607A
• 公開（公告）日: 2019-11-05
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 尹易彪
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號: G09F9/00
• 分類號: G09F9/00
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44300
• 代理人: 黃威

一種顯示面板及其制作方法，所述顯示面板制作方法用于改善金屬漏光，包括將基板通過蝕刻方法進行蝕刻，將基板通過蝕刻方法進行蝕刻后，在所述基板的金屬線側(cè)邊緣設(shè)置改性層，在所述基板的金屬線側(cè)邊緣設(shè)置改性層后，移除所述基板上的光阻層。通過設(shè)置改性層吸收衍射光的反射，達到減少金屬線側(cè)邊緣漏光，提升顯示畫面對比度的效果。

【技術(shù)領(lǐng)域】

本揭示涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及顯示面板及其制作方法。

【背景技術(shù)】

請一并參閱圖1及圖2，其分別為現(xiàn)有技術(shù)的顯示面板的上視示意圖與圖1中R1位置的橫截面示意圖，如圖所示，由基板S下方向上照射的入射光IR1為線偏振光，且面板上的金屬線ML交叉處不是直角，因此金屬線ML邊緣會產(chǎn)生衍射SC1，衍射SC1再被金屬線ML邊緣的金屬錐(Metal Taper)反射，從而產(chǎn)生反射光RF1，導(dǎo)致現(xiàn)有顯示面板普遍存在的漏光問題。

故，有需要提供一種顯示面板及其制作方法，以解決現(xiàn)有技術(shù)存在的問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

為解決上述問題，本揭示提出一種顯示面板及其制作方法，其可達到減少金屬線側(cè)邊緣漏光，提升顯示畫面對比度的效果。

為達成上述目的，本揭示提供一種顯示面板制作方法，用于改善金屬漏光，包括將基板通過蝕刻方法進行蝕刻，將基板通過蝕刻方法進行蝕刻后，在所述基板的金屬線側(cè)邊緣設(shè)置改性層，在所述基板的金屬線側(cè)邊緣設(shè)置改性層后，移除所述基板上的光阻層。

于本揭示其中的一實施例中，所述改性層是通過氧化方法設(shè)置在所述金屬線上。

于本揭示其中的一實施例中，所述改性層是通過熱處理方法設(shè)置在所述金屬線上。

于本揭示其中的一實施例中，所述改性層是通過離子注入方法設(shè)置在所述金屬線上。

于本揭示其中的一實施例中，所述金屬線的材料包含銅。

為達成上述目的，本揭示還提供一種顯示面板，用于改善金屬漏光，包括基板；金屬線，設(shè)置在所述基板上，其中所述金屬線的側(cè)邊緣設(shè)置有改性層。

于本揭示其中的一實施例中，所述改性層的含氧量高于所述金屬線的側(cè)邊緣的含氧量。

于本揭示其中的一實施例中，所述改性層的含碳量高于所述金屬線的側(cè)邊緣的含碳量。

于本揭示其中的一實施例中，所述改性層的離子含量高于所述金屬線的側(cè)邊緣的離子含量。

由于本揭示的顯示面板及其制作方法，所述顯示面板制作方法用于改善金屬漏光，包括將基板通過蝕刻方法進行蝕刻，將基板通過蝕刻方法進行蝕刻后，在所述基板的金屬線側(cè)邊緣設(shè)置改性層，在所述基板的金屬線側(cè)邊緣設(shè)置改性層后，移除所述基板上的光阻層。通過設(shè)置改性層吸收衍射光的反射，達到減少金屬線側(cè)邊緣漏光，提升顯示畫面對比度的效果。

為讓本揭示的上述內(nèi)容能更明顯易懂，下文特舉優(yōu)選實施例，并配合所附圖式，作詳細(xì)說明如下：

【附圖說明】

圖1顯示現(xiàn)有技術(shù)的顯示面板的俯視示意圖；

圖2顯示圖1中R1位置的橫截面示意圖；

圖3顯示根據(jù)本揭示的一實施例的顯示面板制作方法流程圖；

圖4顯示根據(jù)本揭示的一實施例的顯示面板的第一狀態(tài)的方塊示意圖；

圖5顯示根據(jù)本揭示的一實施例的顯示面板的第二狀態(tài)的方塊示意圖；

圖6顯示根據(jù)本揭示的一實施例的顯示面板的第三狀態(tài)的方塊示意圖；

【具體實施方式】