[發(fā)明專利]一種斜入射線聚焦SV波曲面曲折線圈的設(shè)計(jì)方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910671410.1 | 申請日: | 2019-07-24 |
| 公開(公告)號: | CN110414122B | 公開(公告)日: | 2020-04-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 涂君;蔡卓越;宋小春;張旭;徐煦源;文輝 | 申請(專利權(quán))人: | 湖北工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號: | G06F30/20 | 分類號: | G06F30/20;G06F30/17 |
| 代理公司: | 武漢開元知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 42104 | 代理人: | 涂潔;劉代樂 |
| 地址: | 430068 湖*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 入射線 聚焦 sv 曲面 曲折 線圈 設(shè)計(jì) 方法 | ||
1.一種斜入射線聚焦SV波曲面曲折線圈的設(shè)計(jì)方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟S1,以工件曲面圓心為原點(diǎn)O,以原點(diǎn)O與曲折線圈的首根導(dǎo)線截面中心點(diǎn)的連線為y軸,構(gòu)建二維直角坐標(biāo)系,并使曲折線圈其余各根導(dǎo)線截面中心點(diǎn)沿順時針方向分布在所述二維直角坐標(biāo)系第一象限內(nèi)的工件曲面外壁上;
步驟S2,根據(jù)曲折線圈產(chǎn)生的SV波在二維直角坐標(biāo)系中的聚焦點(diǎn)坐標(biāo)計(jì)算曲折線圈的最大寬度設(shè)計(jì)極限值;
步驟S3,根據(jù)最大寬度設(shè)計(jì)極限值計(jì)算曲折線圈各根導(dǎo)線截面中心點(diǎn)坐標(biāo);
步驟S4,根據(jù)計(jì)算出的曲折線圈各根導(dǎo)線截面中心點(diǎn)坐標(biāo)完成曲面曲折線圈的設(shè)計(jì);
所述步驟S2中,根據(jù)曲折線圈產(chǎn)生的SV波在二維直角坐標(biāo)系中的聚焦點(diǎn)坐標(biāo)計(jì)算曲折線圈的最大寬度設(shè)計(jì)極限值包括:
步驟S21,計(jì)算經(jīng)過原點(diǎn)O與聚焦點(diǎn)坐標(biāo)(xF,yF)的直線l1:
步驟S22,計(jì)算直線l1與工件曲面外壁的相交點(diǎn)(xmax,y),所述相交點(diǎn)(xmax,y)為曲折線圈的最大寬度設(shè)計(jì)極限值。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的斜入射線聚焦SV波曲面曲折線圈的設(shè)計(jì)方法,其特征在于,所述步驟S3中,根據(jù)最大寬度設(shè)計(jì)極限值計(jì)算曲折線圈各根導(dǎo)線截面中心點(diǎn)坐標(biāo)包括:
步驟S31,根據(jù)工件的曲面半徑R1和聚焦點(diǎn)坐標(biāo)(xF,yF)計(jì)算曲折線圈首根導(dǎo)線截面中心點(diǎn)到聚焦點(diǎn)的距離r1,所述
步驟S32:根據(jù)首根導(dǎo)線截面中心點(diǎn)到聚焦點(diǎn)的距離r1計(jì)算第i根導(dǎo)線截面中心點(diǎn)到聚焦點(diǎn)的距離ri,所述其中,c為橫波在工件中的傳播速度,所述f為線圈激勵頻率;
步驟S33,根據(jù)第i根導(dǎo)線截面中心點(diǎn)到聚焦點(diǎn)的距離ri和最大寬度設(shè)計(jì)極限值(xmax,y)計(jì)算第i根導(dǎo)線截面中心點(diǎn)橫坐標(biāo)xi,并結(jié)合外圓方程計(jì)算出第i根導(dǎo)線截面中心點(diǎn)坐標(biāo)(xi,yi),其中
當(dāng)0≤xi≤xF時,第i根導(dǎo)線截面中心點(diǎn)橫坐標(biāo)
當(dāng)xFxi≤xmax時,第i根導(dǎo)線截面中心點(diǎn)橫坐標(biāo)
3.如權(quán)利要求1所述的斜入射線聚焦SV波曲面曲折線圈的設(shè)計(jì)方法,其特征在于,還包括步驟S5:通過坐標(biāo)旋轉(zhuǎn)將曲折線圈在曲面上的各根導(dǎo)線截面中心點(diǎn)坐標(biāo)展開為平面坐標(biāo),并根據(jù)所述平面坐標(biāo)設(shè)計(jì)平面曲折線圈。
4.如權(quán)利要求3所述的斜入射線聚焦SV波曲面曲折線圈的設(shè)計(jì)方法,其特征在于,所述步驟S5中,所述旋轉(zhuǎn)為逆時針旋轉(zhuǎn),所述曲折線圈在曲面上的第i根導(dǎo)線截面中心點(diǎn)坐標(biāo)與其展開后的平面坐標(biāo)對應(yīng)關(guān)系為:展開后的橫坐標(biāo)為:Li=R1*αi,展開后的縱坐標(biāo)為R1,所述xi、yi為曲折線圈在曲面上的第i根導(dǎo)線截面中心點(diǎn)坐標(biāo),αi為原點(diǎn)和第i根導(dǎo)線截面中心點(diǎn)連線與y軸的夾角。
5.如權(quán)利要求1所述的斜入射線聚焦SV波曲面曲折線圈的設(shè)計(jì)方法,其特征在于,所述曲折線圈的長度方向與曲面金屬工件的長度方向平行。
6.如權(quán)利要求1所述的斜入射線聚焦SV波曲面曲折線圈的設(shè)計(jì)方法,其特征在于,所述曲折線圈為單或多層,單匝或多匝。
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