[發(fā)明專利]一種純氧化釕電極的極片制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910659097.X | 申請日： | 2019-07-22 |
| 公開（公告）號： | CN110379644A | 公開（公告）日： | 2019-10-25 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 盧云;柯建成;王莉;王若男 | 申請（專利權(quán)）人： | 電子科技大學(xué) |
| 主分類號： | H01G11/46 | 分類號： | H01G11/46;H01G11/28;H01G11/86 |
| 代理公司： | 成都點睛專利代理事務(wù)所(普通合伙) 51232 | 代理人： | 葛啟函 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 國省代碼： | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 金屬基片 極片 制備 氧化釕電極 氧化釕 粘結(jié)劑 附著力 電極活性物質(zhì) 交流等效阻抗 電化學(xué)特性 循環(huán)穩(wěn)定性 表面反應(yīng) 干燥處理 穩(wěn)定因素 氧化釕層 陰極沉積 直接附著 制作工藝 電極 比容量 電解液 釕化物 省略 儲能 沉積 脫水 沉淀 保證 | ||
1.一種純氧化釕電極的極片制備方法，其特征在于，包括以下步驟:
以釕化物溶液作為電解液，采用陰極電沉積法在金屬基片的表面反應(yīng)生成RuOx(H2O)沉淀，然后將沉積有RuOx(H2O)的金屬基片進(jìn)行干燥處理，使得RuOx(H2O)脫水生成氧化釕直接附著在金屬基片的表面，至此制備得到以氧化釕為電極活性物質(zhì)的極片。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種純氧化釕電極的極片制備方法，其特征在于，所述金屬基片包括金屬銅、金屬鋁或者金屬鉭。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種純氧化釕電極的極片制備方法，其特征在于，所述釕化物包括醋酸釕，碘化釕，氯釕酸鉀，或者釕的醇化物。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種純氧化釕電極的極片制備方法，其特征在于，當(dāng)金屬基片為金屬鋁時，釕化物溶液選擇釕的醇化物。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種純氧化釕電極的極片制備方法，其特征在于，所述釕的醇化物具體由金屬醇鹽和釕化物在有機溶劑中反應(yīng)生成。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種純氧化釕電極的極片制備方法，其特征在于，所述有機溶劑為丙酮、苯、乙醚、乙二醇或者甘油；所述金屬醇鹽包括乙醇鈉、乙醇鉀、丙醇鈉或者丁醇鈉。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種純氧化釕電極的極片制備方法，其特征在于，所述釕的醇化物為(C2H5O)3Ru，其濃度范圍為0.1mol/L～0.6mol/L。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種純氧化釕電極的極片制備方法，其特征在于，所述(C2H5O)3Ru的濃度范圍為0.1mol/L～0.6mol/L。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種純氧化釕電極的極片制備方法，其特征在于，所述陰極沉積法具體采用恒流電沉積，電流大小為50～100mA，沉積時間為20～120分鐘。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種純氧化釕電極的極片制備方法，其特征在于，所述干燥處理中干燥溫度為110℃～150℃，干燥時間為8～10小時。
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