[發明專利]鎳及鎳合金錠表面氧化層處理裝置

在審

• 申請號: 201910657911.4
• 申請日: 2019-07-20
• 公開（公告）號: CN112317832A
• 公開（公告）日: 2021-02-05
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 江蘇華美特金屬科技有限公司
• 主分類號: B23D7/00
• 分類號: B23D7/00;B23Q3/08
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明公開了鎳及鎳合金錠表面氧化層處理裝置，包括底箱、操作臺、定位板、油壓缸和放置板，所述底箱的內部固定有等間距的油壓缸，所述底箱的頂端焊接有操作臺，且操作臺的內部均勻設置有定位板，并且定位板的一端延伸至操作臺的外部，且氣缸的輸出端與凸臺的頂端固定連接，所述凸臺的內部鉸接有螺桿，且螺桿的表面套裝有進給螺母，并且進給螺母的一端焊接有電機，所述擋板表面的一側安裝有控制面板，且控制面板的內部單片機的輸出端分別與氣缸、電機以及油壓缸的輸入端電性連接。本發明不僅提高了處理裝置使用時的穩定程度，避免處理裝置使用時出現裂縫現象，而且提高了處理裝置使用時的便利程度。

技術領域

本發明涉及氧化層處理裝置技術領域，具體為鎳及鎳合金錠表面氧化層處理裝置。

背景技術

隨著人們生產科技水平的不斷提高，各種機械類的生產工廠都實現了人工機械一體化生產，其中鎳及鎳合金錠表面氧化層處理裝置在鎳合金生產加工中應用都較為重要。

現今市場上的此類氧化層處理裝置種類繁多，基本可以滿足人們的使用需求，但是依然存在一定的問題，具體問題有以下幾點：

（1）傳統的此類氧化層處理裝置使用時夾持效果差，從而嚴重的影響了氧化層處理裝置使用時的穩定程度；

（2）傳統的此類氧化層處理裝置使用時加工板會出現裂紋等現象，從而大大的影響了氧化層處理裝置使用時的實用性；

（3）傳統的此類氧化層處理裝置使用時角度方位等調節較為繁瑣，從而給人們的使用帶來了很大的困擾。

發明內容

本發明的目的在于提供鎳及鎳合金錠表面氧化層處理裝置，以解決上述背景技術中提出氧化層處理裝置不便于調節方位、實用性以及夾持效果差的問題。

為實現上述目的，本發明提供如下技術方案：鎳及鎳合金錠表面氧化層處理裝置，包括底箱、操作臺、定位板、油壓缸和放置板，所述底箱的內部固定有等間距的油壓缸，所述底箱的頂端焊接有操作臺，且操作臺的內部均勻設置有定位板，并且定位板的一端延伸至操作臺的外部，所述操作臺頂端的定位板位置處設置有放置板，且放置板的表面均勻固定有調節孔，所述放置板的兩端皆設置有回彈結構，所述操作臺頂端的邊緣位置處焊接有擋板，所述操作臺頂部的一端固定有動力箱，且表面的兩側皆設置有滑動槽，并且滑動槽位置處的動力箱一側通過滑輪安裝有凸臺，所述動力箱表面的一側安裝有氣缸，且氣缸的輸出端與凸臺的頂端固定連接，所述凸臺的內部鉸接有螺桿，且螺桿的表面套裝有進給螺母，并且進給螺母的一端焊接有電機，所述擋板表面的一側安裝有控制面板，且控制面板的內部單片機的輸出端分別與氣缸、電機以及油壓缸的輸入端電性連接。

優選的，所述螺桿的一端安裝有旋轉手柄，且旋轉手柄的一端延伸至凸臺的外部。

優選的，所述電機的輸出端通過聯軸器安裝有轉軸，且轉軸遠離電機的一端延伸至凸臺的外部，并且凸臺外部的轉軸底端固定有刨刀。

優選的，所述調節孔位置處上的操作臺內部固定有穩固柱，且穩固柱的一端延伸至操作臺的外部，并且操作臺外部的穩固柱一端固定有調節栓。

優選的，所述回彈結構的內部依次設置有接觸墊、壓縮架、換氣腔、通孔、軟膠腔、硅膠顆粒、彈簧以及凸塊，所述接觸墊的內部均勻固定有壓縮架，且壓縮架的一側安裝有等間距的凸塊，并且凸塊的頂端設置有換氣腔，所述換氣腔的內部設置有通孔，且通孔的兩端皆延伸至換氣腔的外部。

優選的，所述凸塊內部的頂端均勻填充有硅膠顆粒，且硅膠顆粒的一側安裝有等間距的軟膠腔，并且軟膠腔一側的凸塊底端均勻固定有彈簧。

與現有技術相比，本發明的有益效果是：該鎳及鎳合金錠表面氧化層處理裝置不僅提高了處理裝置使用時的穩定程度，避免處理裝置使用時出現裂縫現象，而且提高了處理裝置使用時的便利程度；