[發明專利]圓偏光片及制造圓偏光片的方法、發光裝置在審
| 申請號: | 201910656916.5 | 申請日: | 2019-07-19 |
| 公開(公告)號: | CN110501774A | 公開(公告)日: | 2019-11-26 |
| 發明(設計)人: | 李孟庭;李朝強;賈龍昌 | 申請(專利權)人: | 華為機器有限公司 |
| 主分類號: | G02B5/30 | 分類號: | G02B5/30;G09F9/30 |
| 代理公司: | 11138 北京三高永信知識產權代理有限責任公司 | 代理人: | 顏晶<國際申請>=<國際公布>=<進入國 |
| 地址: | 523808 廣東省東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 圓偏光 波片 四分之一波片 入射光 線偏光 液晶層 破裂 申請 發光裝置 干燥處理 組件包括 偏光片 正相關 波長 涂覆 制造 | ||
1.一種制造圓偏光片的方法,其特征在于,所述方法包括:
在波片組件的一個表面沿第一方向涂覆液晶層,所述波片組件包括:四分之一波片,且所述四分之一波片對入射光的面內補償值與所述入射光的波長正相關;
對所述液晶層進行干燥處理,以形成線偏光片;
其中,所述波片組件和所述線偏光片層疊形成所述圓偏光片。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,在所述在波片組件的表面沿第一方向涂覆液晶層之前,所述方法還包括:
控制所述波片組件沿與所述第一方向相反的第二方向平移;
所述在波片組件的表面沿第一方向涂覆液晶層,包括:
在所述波片組件沿所述第二方向平移的過程中,向所述波片組件的表面涂覆所述液晶層。
3.根據權利要求2所述的方法,其特征在于,所述控制所述波片組件沿與所述第一方向相反的第二方向平移,包括:
將所述四分之一波片的第一端卷繞在第一卷軸上,以及將所述四分之一波片的第二端固定在第二卷軸上;
控制所述第二卷軸相對于所述第一卷軸轉動,以帶動所述四分之一波片沿所述第二方向平移,且所述四分之一波片的第二端卷繞在所述第二卷軸上;
所述在波片組件的表面沿第一方向涂覆液晶層,包括:
在所述波片組件位于所述第一卷軸和所述第二卷軸之間的至少部分表面涂覆所述液晶層。
4.根據權利要求1至3任一所述的方法,其特征在于,所述波片組件還包括中間層,所述中間層與所述四分之一波片層疊,且位于所述四分之一波片的一側,所述波片組件被涂覆液晶層的表面為所述中間層背離所述四分之一波片的表面;
則在所述在波片組件的表面沿第一方向涂覆液晶層之前,所述方法還包括:
在所述四分之一波片的一側上形成中間層,以得到所述波片組件,其中,所述中間層遠離所述四分之一波片的表面的達因值大于第一閾值。
5.根據權利要求4所述的方法,其特征在于,在所述四分之一波片的一側上形成中間層,包括:
向所述四分之一波片的一個表面涂覆用于形成中間層的溶液;
對所述用于形成中間層的溶液進行干燥處理,形成中間層。
6.根據權利要求1至5任一所述的方法,其特征在于,在所述在波片組件的表面沿第一方向涂覆液晶層之前,所述方法還包括:
對所述四分之一波片的第一表面進行電暈處理,使所述第一表面的達因值大于第二閾值,所述第一表面為所述四分之一波片中靠近待形成的所述線偏光片的表面。
7.根據權利要求1至6任一所述的方法,其特征在于,所述液晶層包括:沿遠離所述波片組件的方向依次排布的液晶子層和固化層,所述在波片組件的一個表面沿第一方向涂覆液晶層,包括:
在所述波片組件的一個表面沿第一方向涂覆液晶子層;
在所述液晶子層遠離所述波片組件的一個表面形成所述固化層。
8.一種圓偏光片,其特征在于,包括:層疊設置的波片組件和線偏光片,且所述線偏光片位于所述波片組件的表面;
所述波片組件包括:四分之一波片,所述四分之一波片對入射光的面內補償值與所述入射光的波長正相關;所述線偏光片由液晶層組成。
9.根據權利要求8所述的圓偏光片,其特征在于,所述波片組件還包括:中間層,所述中間層與所述四分之一波片層疊設置,所述線偏光片位于所述中間層背離所述四分之一波片的一側,所述中間層背離所述四分之一波片的表面與所述四分之一波片相接觸;
所述中間層遠離所述四分之一波片的表面的達因值大于第一閾值。
10.根據權利要求9所述的圓偏光片,其特征在于,所述中間層的材質包括:硅烷或硅烷的衍生物。
11.根據權利要求8至10任一所述的圓偏光片,其特征在于,所述四分之一波片的第一表面的達因值大于第二閾值,所述第一表面為所述四分之一波片中靠近所述線偏光片的表面。
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