[發明專利]電鍍裝置

在審

• 申請號: 201910654789.5
• 申請日: 2019-07-19
• 公開（公告）號: CN110777422A
• 公開（公告）日: 2020-02-11
• 發明（設計）人: 興村良輔
• 申請（專利權）人: 富士施樂株式會社
• 主分類號: C25D21/18
• 分類號: C25D21/18;C25D17/02;C25D17/10;C25D5/06
• 代理公司: 11127 北京三友知識產權代理有限公司
• 代理人: 崔成哲

1.一種電鍍裝置，其中，具備：

槽，其具有電解液，所述電解液浸漬有多個基材和多個金屬，所述多個基材至少表面具有導電性且沿著一個方向配置，所述多個金屬沿著該一個方向與該各基材對置配置；

電源，其向該基材與該金屬之間施加電壓；

配管，其在該基材的下方側沿著該一個方向延伸，供氣體流動；以及

該氣體的排出口，與該各基材對應地形成有多個所述排出口，所述排出口形成于該配管的靠下側的部分。

2.根據權利要求1所述的電鍍裝置，其中，

該排出口相對于從該配管的截面中心向下方延伸的垂線而形成在0～50度的范圍內。

3.根據權利要求2所述的電鍍裝置，其中，

該排出口相對于從該配管的截面中心向下方延伸的垂線形成在20～50度的范圍內。

4.根據權利要求1至3中的任一項所述的電鍍裝置，其中，具有：

液管，其沿著該配管延伸，供該電解液流動；

容器，其設置在該槽的該一個方向上的一端側，從該槽回收該電解液；

泵，其從該容器向該液管加壓輸送該電解液；以及

噴出口，它是該電解液的噴出口，與該各基材對應地在該液管形成有多個所述噴出口，所述噴出口相對于所對應的該基材位于該一個方向上的靠另一端的位置。

5.根據權利要求4所述的電鍍裝置，其中，

該各排出口相對于所對應的該基材位于該一個方向上的靠該另一端的位置，

該排出口設置在比該噴出口靠近該基材的位置。

6.根據權利要求4或5所述的電鍍裝置，其中，

在俯視觀察該槽時，該液管設置在該基材與該金屬之間，

與一個該基材對應的該噴出口分別形成在該基材側和該金屬側。

7.根據權利要求4至6中的任一項所述的電鍍裝置，其中，

該液管的該一個方向兩端的該噴出口的開口面積大于該一個方向中央側的該噴出口的開口面積。

8.根據權利要求4至7中的任一項所述的電鍍裝置，其中，

該液管配置有多個，各液管的終端部被連結在一起。

9.根據權利要求8所述的電鍍裝置，其中，

針對多個該液管分別設有用于調整該電解液的流量的調整閥。

10.根據權利要求1至9中的任一項所述的電鍍裝置，其中，

該氣體從該配管的該一個方向上的兩端被加壓輸送。

11.根據權利要求10所述的電鍍裝置，其中，

在與該配管的該一個方向上的兩端連接的導入管中分別設有用于調整該氣體的壓力的調壓閥。

12.根據權利要求1至11中的任一項所述的電鍍裝置，其中，

還具備追加口，該追加口分別設置在配管的比該一個方向上的兩端的該排出口靠外側的位置，并形成在該配管的截面的靠下側的部分。

13.根據權利要求1至12中的任一項所述的電鍍裝置，其中，具有：

陽極，其設置于該電源，使電流朝向該金屬流動；以及

控制部，其連接在該電源的陰極與該基材之間，將從該基材返回到該電源的該電流控制為預先規定的值。

14.根據權利要求13所述的電鍍裝置，其中，

該控制部針對該各基材控制該電流。

15.根據權利要求1至14中的任一項所述的電鍍裝置，其中，

具備使該基材旋轉的旋轉部。

16.根據權利要求15所述的電鍍裝置，其中，

該旋轉部具備刷，該刷具有多個觸點。