[發明專利]一種主動消除光學系統外界震動干擾的裝置

有效

• 申請號: 201910645739.0
• 申請日: 2019-07-17
• 公開（公告）號: CN110360267B
• 公開（公告）日: 2021-05-21
• 發明（設計）人: 劉曉銘;張政;張曉南;王飛
• 申請（專利權）人: 山東圣海光纖科技有限公司
• 主分類號: F16F15/02
• 分類號: F16F15/02;G02B7/00;G01H17/00
• 代理公司: 濟南鼎信專利商標代理事務所(普通合伙) 37245
• 代理人: 劉海艷

本發明提供一種主動消除光學系統外界震動干擾的裝置，包括光學平臺、光學設備，光學平臺下方設有平臺支架，光學設備上具有外部觸發信號接口，在平臺支架和光學平臺之間設有主動震動組件，在平臺支架上設有外部震動傳感模塊，外部震動傳感模塊、外部觸發信號接口、主動震動組件均連接綜合處理主機，綜合處理主機用于通過外部震動傳感模塊采集環境作用于平臺支架上的震動信號，并根據震動信號同步觸發主動震動組件使其做出反向等振幅震動用來抵消環境震動。本裝置應用于環境中震動復雜的情況下，能夠主動采集環境震動情況，并同步觸發主動震動組件做出反向等振幅震動，以此抵消環境震動，能夠極大程度的降低環境震動對光學平臺的影響。

技術領域

本發明主要涉及精密加工光學平臺相關技術領域，具體是一種主動消除光學系統外界震動干擾的裝置。

背景技術

對于精密加工光學平臺的隔振處理目前主要是被動式隔振，包含隔振橡膠、隔振氣墊等方式。受限于隔振材料的固有頻率影響，以上隔振方式在同一時刻只能對單一震動頻率范圍的震動有效減輕，而對于超出其隔振頻率范圍的震動這種方式的隔振效果較差。

由于精密加工光學平臺的隔振效果直接影響到加工精度，因此，如何能夠最大程度的避免外界環境震動對光學平臺的干擾是本領域技術人員亟需解決的一項技術問題。

發明內容

為解決目前技術的不足，本發明結合現有技術，從實際應用出發，提供一種主動消除光學系統外界震動干擾的裝置，本裝置應用于環境中震動復雜的情況下，能夠主動采集環境震動情況，并同步觸發主動震動組件做出反向等振幅震動，以此抵消環境震動，能夠極大程度的降低環境震動對光學平臺的影響。

本發明的技術方案如下：

一種主動消除光學系統外界震動干擾的裝置，包括光學平臺、設置于光學平臺上的光學設備，所述光學平臺下方設有平臺支架，所述光學設備上具有外部觸發信號接口，在所述平臺支架和光學平臺之間設有主動震動組件，在所述平臺支架上設有外部震動傳感模塊，所述外部震動傳感模塊、外部觸發信號接口、主動震動組件均連接綜合處理主機，所述綜合處理主機用于通過外部震動傳感模塊采集環境作用于平臺支架上的震動信號，并根據震動信號同步觸發主動震動組件使其做出反向等振幅震動用來抵消環境震動。

進一步的，所述光學平臺上設有平臺臺面震動傳感模塊，所述平臺臺面震動傳感模塊連接綜合處理主機，所述綜合處理主機通過平臺臺面震動傳感模塊判定環境震動無法有效抵消時，將聯動外部觸發信號，觸發光學系統為光學設備提供與震動頻率相同的外部工作信號。

進一步的，在所述光學平臺下方設置的平臺支架為多個，每個平臺支架對應設置有外部震動傳感模塊以及主動震動組件。

進一步的，所述主動震動組件包括上支撐板、下支撐板，所述上支撐板與光學平臺底部連接，所述下支撐板與平臺支架連接，上支撐板和下支撐板之間通過多軸震動機構連接。

進一步的，所述多軸震動機構為三軸震動機構，其包括X軸震動器、Y軸震動器以及Z軸震動器，分別用于實現X軸主動震動、Y軸主動震動以及Z軸主動震動。

進一步的，所述Z軸震動器安裝于下支撐板的上表面，所述X軸震動器、Y軸震動器分別安裝于下支撐板兩個相互垂直的側面上。

進一步的，所述Z軸震動器包括震動生成器以及能夠實現X軸、Y軸方向水平移動的雙軸滑動組件，所述Y軸震動器包括震動生成器以及能夠實現X軸、Z軸方向水平移動的雙軸滑動組件，所述X軸震動器包括震動生成器以及能夠實現Y軸、Z軸方向水平移動的雙軸滑動組件，X軸震動器、Y軸震動器、Z軸震動器的震動生成器以及雙軸滑動組件結構相同、安裝方向不同。

進一步的，所述上支撐板上具有三個安裝面，三個安裝面分別用于固定安裝X軸震動器、Y軸震動器、Z軸震動器的震動生成器，X軸震動器、Y軸震動器、Z軸震動器的雙軸滑動組件固定在下支撐板對應位置上。