[發(fā)明專利]場(chǎng)發(fā)射中和器有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910642707.5 | 申請(qǐng)日: | 2019-07-16 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112242277B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-03-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 柳鵬;周段亮;張春海;潛力;王昱權(quán);郭雪偉;馬麗永;王福軍;范守善 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 清華大學(xué);鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01J1/304 | 分類號(hào): | H01J1/304;H01J1/00 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 100084 北京市海淀區(qū)清*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 發(fā)射 中和 | ||
1.一種場(chǎng)發(fā)射中和器,包括一底板以及至少一個(gè)陰極發(fā)射單元,該至少一個(gè)陰極發(fā)射單元固定在所述底板的表面,所述陰極發(fā)射單元包括一基板,一殼體,至少一個(gè)陰極發(fā)射體,一柵網(wǎng),以及一屏蔽層,所述殼體位于所述基板上,所述至少一個(gè)陰極發(fā)射體固定在所述殼體內(nèi)部并與所述柵網(wǎng)絕緣間隔設(shè)置,所述柵網(wǎng)與所述屏蔽層絕緣間隔設(shè)置,所述殼體具有一開(kāi)口,所述柵網(wǎng)包括多個(gè)柵孔,所述屏蔽層具有一屏蔽層通孔,所述殼體的開(kāi)口、柵網(wǎng)的柵孔以及屏蔽層通孔貫穿設(shè)置,其特征在于:所述陰極發(fā)射體包括兩個(gè)陰極電極片以及一石墨化的碳納米管結(jié)構(gòu),所述兩個(gè)陰極電極片層疊設(shè)置并夾持所述石墨化的碳納米管結(jié)構(gòu),使所述石墨化的碳納米管結(jié)構(gòu)分為第一部分和第二部分,該第一部分夾持在兩個(gè)陰極電極片之間,第二部分暴露在所述陰極電極片的外部,所述碳納米管結(jié)構(gòu)包括至少一層碳納米管膜,該碳納米管膜包括多個(gè)碳納米管,該多個(gè)碳納米管的延伸方向基本垂直于所述基板,該碳納米管膜遠(yuǎn)離所述基板的一端具有多個(gè)毛刺,該多個(gè)毛刺為從碳納米管膜中豎直突出的碳納米管,該多個(gè)毛刺為場(chǎng)發(fā)射尖端,該碳納米管膜的密度大于等于1.6g/m3,該多個(gè)毛刺采用一膠帶粘暴露在外部的碳納米管膜,使所述碳納米管膜中的部分碳納米管被豎立拉出,進(jìn)而在碳納米管膜的邊緣形成。
2.如權(quán)利要求1所述的場(chǎng)發(fā)射中和器,其特征在于,所述陰極發(fā)射單元包括至少兩個(gè)陰極發(fā)射體,該至少兩個(gè)陰極發(fā)射體中的陰極電極片焊接在一起。
3.如權(quán)利要求1所述的場(chǎng)發(fā)射中和器,其特征在于,采用一L形金屬片將所述陰極發(fā)射體固定在所述殼體的內(nèi)部,具體地,將焊接在一起的兩個(gè)陰極電極片焊接在L形金屬片豎直方向的側(cè)壁上,然后將L形金屬片水平方向的側(cè)壁采用螺絲釘固定在所述殼體的一個(gè)側(cè)壁上,進(jìn)而將所述陰極發(fā)射體固定在所述殼體的內(nèi)部。
4.如權(quán)利要求3所述的場(chǎng)發(fā)射中和器,其特征在于,在所述基板和殼體之間設(shè)置一導(dǎo)電層,該導(dǎo)電層與所述L形金屬片豎直方向的側(cè)壁接觸,將一電極線連接到該導(dǎo)電層上,通過(guò)該電極線向陰極電極片輸送電壓。
5.如權(quán)利要求1所述的場(chǎng)發(fā)射中和器,其特征在于,所述殼體的材料為導(dǎo)電材料時(shí),所述殼體和柵網(wǎng)通過(guò)一第一絕緣板絕緣,該第一絕緣板設(shè)置在所述殼體和柵網(wǎng)之間,該第一絕緣板包括一第一通孔,該第一通孔與所述殼體的開(kāi)口貫穿設(shè)置。
6.如權(quán)利要求1所述的場(chǎng)發(fā)射中和器,其特征在于,所述柵網(wǎng)與所述屏蔽層通過(guò)一第二絕緣板絕緣,該第二絕緣板設(shè)置在所述柵網(wǎng)與所述屏蔽層之間,該第二絕緣板包括一第二通孔,該第二通孔與所述柵網(wǎng)上的柵孔貫穿設(shè)置。
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