[發明專利]小微站選址方法、裝置及電子設備

有效

• 申請號: 201910642004.2
• 申請日: 2019-07-16
• 公開（公告）號: CN112243237B
• 公開（公告）日: 2022-07-01
• 發明（設計）人: 楊占軍;王國治;張士聰;姜奇華
• 申請（專利權）人: 中國移動通信集團浙江有限公司;中國移動通信集團有限公司
• 主分類號: H04W16/18
• 分類號: H04W16/18;H04W24/10
• 代理公司: 北京市浩天知識產權代理事務所(普通合伙) 11276
• 代理人: 王廣濤

1.一種小微站選址方法，其特征在于，所述方法包括：

根據第一柵格的MR采樣點、所述第一柵格被微站覆蓋的面積以及柵格總面積，確定沒有被微站重復覆蓋的采樣點之和，其中，所述第一柵格為被單個微站覆蓋的柵格；所述采樣點表征業務量的多少；

根據第二柵格的MR采樣點、所述第二柵格被所有微站覆蓋的面積之和、所述第二柵格被任意兩個微站重復覆蓋的面積之和以及柵格總面積，確定被微站重復覆蓋的采樣點之和，其中，所述第二柵格為至少被兩個微站重復覆蓋的柵格；

采用線性遞減權值的微粒尋優算法確定所述沒有被微站重復覆蓋的采樣點之和與所述被微站重復覆蓋的采樣點之和的總和最大時的微站建站位置。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法基于微站的建站模型圖進行，在所述根據第一柵格的MR采樣點、所述第一柵格被微站覆蓋的面積以及柵格總面積，確定沒有被微站重復覆蓋的采樣點之和之前，所述方法還包括：

將所述微站的建站模型圖的經緯度轉換成墨卡托坐標系。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述沒有被微站重復覆蓋的采樣點為其中a_i表示第i柵格上的MR采樣點，S_i表示第i柵格被微站覆蓋的面積，S_a表示柵格總面積，所述第i柵格屬于第一柵格。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述被微站重復覆蓋的采樣點為其中a_j表示第j柵格上的MR采樣點，C_j表示第j柵格被所有微站覆蓋的面積，D_j表示第j柵格被任意兩個微站重復覆蓋的面積，S_a表示柵格總面積，所述第j柵格屬于第二柵格。

5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述采用線性遞減權值的微粒尋優算法確定所述沒有被微站重復覆蓋的采樣點之和與所述被微站重復覆蓋的采樣點之和的總和最大時的微站建站位置之前，所述方法還包括：

根據所述沒有被微站重復覆蓋的采樣點之和與所述被微站重復覆蓋的采樣點之和的總和建立目標函數。

6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述采用線性遞減權值的微粒尋優算法確定所述沒有被微站重復覆蓋的采樣點之和與所述被微站重復覆蓋的采樣點之和的總和最大時的微站建站位置，進一步包括：

初始化符合微站建站約束條件的微粒及其參數，其中所述微粒為微站隨機點；

評價每個所述微粒的適應值，根據所述目標函數比較每個微粒的所述適應值與該微粒經過的最好位置，選擇二者中最好的位置作為當前該微粒經過的最好位置，以及根據所述目標函數比較每個微粒的所述適應值與所有微粒中經過的最好位置，選擇二者中最好的位置作為當前所有微粒中經過的最好位置；

調整所述微粒的速度和位置，并重復計算微粒的適應值，直至滿足建站要求；

輸出微站建站位置。