[發(fā)明專利]基板承載臺及蒸鍍設(shè)備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910634528.7
• 申請日: 2019-07-15
• 公開（公告）號: CN110205599A
• 公開（公告）日: 2019-09-06
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳營營;賈松霖
• 申請（專利權(quán)）人: 云谷（固安）科技有限公司
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50;C23C14/24
• 代理公司: 北京東方億思知識產(chǎn)權(quán)代理有限責任公司 11258
• 代理人: 娜拉

1.一種基板承載臺，其特征在于，包括：

基臺，包括支撐面，所述支撐面具有支撐區(qū)域和位于所述支撐區(qū)域外周的限位區(qū)域，所述支撐區(qū)域用于承載基板；

定位組件，所述定位組件與所述基臺連接并凸出于所述支撐面，所述定位組件與所述基臺一并形成限位容納部，所述基板能夠設(shè)置于所述限位容納部中，至少部分所述定位組件在所述支撐區(qū)域上具有第一極限位置，在所述限位區(qū)域具有第二極限位置，至少部分所述定位組件在所述第一極限位置及所述第二極限位置之間變換，以適應(yīng)所述基板的尺寸。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板承載臺，其特征在于，所述定位組件圍合形成所述限位容納部的側(cè)邊界，所述定位組件在所述側(cè)邊界的周向上間隔分布。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板承載臺，其特征在于，所述基板承載臺進一步包括滑動組件，所述定位組件和所述基臺通過所述滑動組件彼此滑動連接；

優(yōu)選地，在所述第一極限位置與所述第二極限位置的排布方向上，所述滑動組件包括沿所述排布方向延伸并彼此滑動連接的滑軌以及滑塊，所述滑軌及所述滑塊在垂直于所述排布方向上的截面均呈“L”形且彼此相互扣合，所述滑軌和所述滑塊的其中一者連接于所述基臺，所述滑軌和所述滑塊的另一者連接于所述定位組件。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板承載臺，其特征在于，所述基板承載臺進一步包括多個驅(qū)動件，所述驅(qū)動件包括本體和伸縮桿，所述本體固定在所述基臺上，所述伸縮桿與所述定位組件連接。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板承載臺，其特征在于，所述定位組件設(shè)置在所述支撐面且與所述基臺鉸接，所述基板承載臺進一步包括緩沖件，所述緩沖件設(shè)置在所述基臺上，所述緩沖件與所述定位組件連接，通過所述緩沖件使所述定位組件轉(zhuǎn)動連接在所述基臺上。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板承載臺，其特征在于，所述基臺的所述支撐區(qū)域設(shè)置有凹槽，所述凹槽由靠近所述支撐面起始向背離所述支撐面方向凹陷預(yù)定距離形成，所述緩沖件設(shè)置在所述凹槽內(nèi)；

優(yōu)選地，所述緩沖件的極限壓縮尺寸小于或等于所述預(yù)定距離。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至6任一項所述的基板承載臺，其特征在于，所述定位組件包括相互連接的撐托部和定位部，所述撐托部能夠與所述支撐面接觸，所述定位部與所述撐托部之間呈預(yù)設(shè)角度設(shè)置。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至6任一項所述的基板承載臺，其特征在于，所述定位組件包括定位塊和套設(shè)在所述定位塊上的調(diào)節(jié)件，在所述定位塊的軸向上，所述調(diào)節(jié)件的投影環(huán)繞所述定位塊的投影設(shè)置；

優(yōu)選地，在所述定位塊的軸向上，所述調(diào)節(jié)件的外輪廓的投影為圓形。

9.一種蒸鍍設(shè)備，其特征在于，包括：

蒸鍍腔室，基板置于所述蒸鍍腔室內(nèi)進行蒸鍍；

基板承載臺，如權(quán)利要求1至8所述的基板承載臺，所述基板承載臺設(shè)置在所述蒸鍍腔室中，對置于所述蒸鍍腔室內(nèi)的所述基板進行定位。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的蒸鍍設(shè)備，其特征在于，所述定位組件包括定位塊和套設(shè)在所述定位塊上的調(diào)節(jié)件，在所述定位塊的軸向上，所述調(diào)節(jié)件的投影環(huán)繞所述定位塊的投影設(shè)置，所述調(diào)節(jié)件與所述基板的膨脹系數(shù)相同。