[發(fā)明專利]高密度養(yǎng)殖環(huán)境副產(chǎn)物消解處理方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910634129.0 | 申請日: | 2019-07-15 |
| 公開(公告)號: | CN110438038B | 公開(公告)日: | 2021-05-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李鐵軍;郭遠(yuǎn)明;朱劍;張玉榮 | 申請(專利權(quán))人: | 浙江省海洋水產(chǎn)研究所 |
| 主分類號: | C12N1/20 | 分類號: | C12N1/20;C02F11/02;C02F11/12;C02F11/00;C12R1/05 |
| 代理公司: | 北京國翰知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11696 | 代理人: | 呂彩霞 |
| 地址: | 316000 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 高密度 養(yǎng)殖 環(huán)境 副產(chǎn)物 消解 處理 方法 | ||
1.一種高密度養(yǎng)殖環(huán)境副產(chǎn)物消解處理方法,其特征在于:包括下述步驟:
i)高密度養(yǎng)殖環(huán)境副產(chǎn)物經(jīng)除雜干燥后加入0.05~5.0wt%的發(fā)酵液并調(diào)整含水量至45~60wt%得發(fā)酵原料;
ii)在外加電場中,使所述發(fā)酵原料在異位發(fā)酵床中進(jìn)行異位發(fā)酵處理,得到發(fā)酵產(chǎn)物;
所述發(fā)酵液具體經(jīng)由下述方法得到:
1)種子培養(yǎng):取已活化的瓊脂斜面培養(yǎng)基黏乳產(chǎn)堿桿菌菌種一環(huán)接種到種子管中培養(yǎng),然后以10%的接種量接種到液體種子培養(yǎng)基中培養(yǎng);
2)發(fā)酵:以10~15%的接種量將種子接種到已滅菌且含有氮摻雜碳點(diǎn)復(fù)合納米顆粒的發(fā)酵培養(yǎng)基中,發(fā)酵培養(yǎng)得發(fā)酵液;
其中,所述氮摻雜碳點(diǎn)復(fù)合納米顆粒是Fe3O4-CDs復(fù)合納米顆粒;
所述步驟1)中的液體種子培養(yǎng)基含有Fe3O4-CDs復(fù)合納米顆粒;
所述液體種子培養(yǎng)基中Fe3O4-CDs復(fù)合納米顆粒的含量是0.01-0.05g/L;
所述發(fā)酵培養(yǎng)基中氮摻雜碳點(diǎn)復(fù)合納米顆粒的含量是0.03~0.5g/L。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于:所述外加電場的電壓強(qiáng)度為0.1~1V/cm,電流密度為0.025~0.05mA/cm2。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于:所述Fe3O4-CDs復(fù)合納米顆粒粒徑是9~13nm,平均粒徑是11nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于:所述步驟2)中的發(fā)酵培養(yǎng)基包括:葡萄糖33~40g/L、硫酸銨3.0~5.0g/L、氮摻雜碳點(diǎn)復(fù)合納米顆粒0.03~0.5g/L、微量元素液2~5mL/L、無機(jī)元素液10~25mL/L,余量蒸餾水,滅菌。
5.根據(jù)權(quán)利要求1~4任一項(xiàng)所述的方法,其特征在于:所述Fe3O4-CDs復(fù)合納米顆粒的制備方法包括:
I)檸檬酸鐵銨溶解在二次水中,再加入三乙烯四胺攪拌均勻,將混合溶液轉(zhuǎn)移至高壓反應(yīng)釜中,密封后加壓并加熱至210~230℃,保持至少4h;
II)高壓反應(yīng)釜中的混合液體自然冷卻至室溫,離心丟棄液相;
III)將獲得的固相產(chǎn)品分散在丙酮中超聲分散3min然后進(jìn)行磁選分離,過程重復(fù)3~5次以去除游離的碳點(diǎn)和三乙烯四胺,所得固體干燥即得;
其中,檸檬酸鐵銨、二次水、三乙烯四胺與丙酮的添加量之比是0.15~0.18g:10~12mL:1.2~1.5mL:10mL。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其特征在于:所述步驟I)的加壓壓強(qiáng)是1.02~1.03bar。
7. 權(quán)利要求1~6任一項(xiàng)所述方法在處理高密度養(yǎng)殖環(huán)境副產(chǎn)物中的應(yīng)用,其特征在于所述應(yīng)用包括:
a)在降解高密度養(yǎng)殖環(huán)境副產(chǎn)物中的抗生素類藥物殘留中的用途;和/或
b)在消減重金屬高密度養(yǎng)殖環(huán)境副產(chǎn)物中的重金屬離子殘留中的用途;
所述重金屬離子包括Hg2+、Cd2+、Pb2+、Cr6+。
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