[發明專利]一種廢水軟化處理器

在審

• 申請號: 201910632043.4
• 申請日: 2019-07-12
• 公開（公告）號: CN110240294A
• 公開（公告）日: 2019-09-17
• 發明（設計）人: 周軍;黃宗秋;馮俊;馬銀山;張永龍;李自兵;金華;董進前
• 申請（專利權）人: 新疆天業（集團）有限公司;新疆天業匯合新材料有限公司
• 主分類號: C02F5/02
• 分類號: C02F5/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明提供了一種廢水軟化處理器，包括混凝反應區和沉淀分離區置于同一容器自上而下順序布置，由廢水下降管聯通；還包括設置在容器頂端的藥劑加入管和廢水進水管、設置在容器底部的廢水出水管及污泥排出管；混凝反應區上部設有折流槽、攪拌，混凝反應區中部設有絮凝劑加入管；混凝反應區下部設置廢水下降管；沉淀分離區設置在混凝反應區下方，包括設置在頂部的廢水出水管，設置在沉淀分離區中部的廢水回流管，設置在沉淀分離區底端的污泥排出管。解決了廢水處理為解決廢水軟化處理過程中絮凝沉淀時間長、設備成本高的問題，特別適用于煤化工生產廢水的回用處理。

技術領域

本發明屬于廢水處理領域，尤其涉及一種廢水軟化處理器。

背景技術

長期以來，高鹽度廢水的污染治理一直未受到足夠的重視，隨著化工、冶金、電力等行業和城市建設的快速發展，為了節約利用水資源，工業廢水、城市廢水等大多采用反滲透技術處理后回用，由此產生的各種反滲透濃水，以及工業循環水排水等的高鹽廢水帶來的環境污染問題越來越嚴重。

針對這些含鹽量較高的廢水主要以反滲透和蒸發結晶兩種技術為主。不論是反滲透還是蒸發結晶，含鹽廢水中存在的大量鈣、鎂離子以及硅等結垢成分均對裝置的正常運行存在嚴重的結垢危害。這些無機鹽垢可以導致反滲透膜堵塞，產水量下降，甚至膜的永久性損壞。在蒸發結晶設備中，結垢同樣會導致設備傳熱效率降低，設備腐蝕等問題。因此，廢水處理前的除硬除硅預處理工作非常重要。

常用的除硬除硅工藝路線為：加藥反應(可加入石灰、NaOH、碳酸鈉、硫酸鈉、鎂劑等)軟化加入一級或多級澄清，再加入介質過濾，此工藝在實際運行中存在一些問題；當自來水含有的鎂、鈣和硅濃度較高時，生成的沉淀物不容易分離，澄清池占地面積很大，并且出水水質難以保證，加藥量巨大且容易發生加入的石灰和碳酸鈉直接反應，容易出現各種污堵和結垢的問題，過濾器和膜分離系統反洗和化學清洗頻繁。

綜上所述，現有的絮凝沉淀設備的缺陷如下：（1）設備占地面積大；（2）生產運行成本高；（3）絮凝沉淀時間長；（4）設備成本高。

發明內容

為解決廢水軟化處理過程中設備占地面積大、生產運行成本高、絮凝沉淀時間長、設備成本高的問題，本發明提供一種廢水軟化處理器，特別適用于煤化工生產廢水的回用處理。

主要技術方案包括：混凝反應區和沉淀分離區置于同一容器自上而下順序布置，由廢水下降管聯通；還包括設置在容器頂端的藥劑加入管和廢水進水管、設置在容器底部的廢水出水管及污泥排出管；混凝反應區上部設有折流槽、攪拌，混凝反應區中部設有絮凝劑加入管；混凝反應區下部設置廢水下降管；沉淀分離區設置在混凝反應區下方，包括設置在沉淀分離區頂部的廢水出水管，設置在沉淀分離區中部的廢水回流管，設置在沉淀分離區底端的污泥排出管；所述藥劑加入管設置若干個，在折流槽的不同位置，所述藥劑加入管包括藥劑a加入管、藥劑b加入管、藥劑c加入管。

如上所述的折流槽呈環形設置在容器內壁，并按廢水流動方向依次設置廢水進水管及廢水回流管、藥劑a加入管、藥劑b加入管、藥劑c加入管，或依次設置廢水回流管及廢水進水管、藥劑a加入管、藥劑b加入管、藥劑c加入管。廢水進水管與廢水回流管可以互換設置不影響處理效果，藥劑加入管依次設置的目的防止藥劑間互相反應，同時根據藥劑與離子反應時間將藥劑加入管設置一定的距離。

如上所述的折流槽尾部設置折流槽下降管，并伸入混凝反應區；讓廢水下降的同時產生旋轉，并在液面處能產生徑向運動，利于廢水與藥劑混合；即，折流槽廢水流動方向尾部設有折流槽下降管，折流槽下降管始終處于容器液面的上方或剛剛與液面接觸。

如上所述的廢水下降管的出口設有廢水分布器，防止廢水將沉淀分離區底部的污泥沖起，影響沉淀效果。

如上所述的混凝區中部還設有徑向折流板，用來強化廢水與藥劑反應，沿容器壁設置若干個。

如上所述的混凝反應區的中下部設置絮凝劑加入管。