[發明專利]用于磁瓦檢測的照明裝置及用于磁瓦檢測的檢測系統在審
| 申請號: | 201910632005.9 | 申請日: | 2019-07-12 |
| 公開(公告)號: | CN110286129A | 公開(公告)日: | 2019-09-27 |
| 發明(設計)人: | 張發恩;郝磊;袁智超;閻鶴凌 | 申請(專利權)人: | 創新奇智(廣州)科技有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/88 | 分類號: | G01N21/88;G01N21/95 |
| 代理公司: | 深圳市智享知識產權代理有限公司 44361 | 代理人: | 王琴;蔣慧 |
| 地址: | 510000 廣東省廣州市高新技*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 磁瓦檢測 照明裝置 連接板 檢測系統 通孔 開口 補光燈 固定部 中垂線 底部連接 固定設置 均勻設置 外殼連接 重合 磁瓦 曝光 | ||
本發明提供一種用于磁瓦檢測的照明裝置,包括一半球形的外殼及與外殼底部連接的連接板,所述外殼底部具有一開口,在所述連接板上開設有小于開口尺寸的第二通孔,所述外殼連接在連接板的一面且開口的中垂線與第二通孔的中垂線重合,在連接板的另一面固定設置有固定部,所述固定部上設置有至少兩補光燈,所述補光燈沿第二通孔均勻設置。本發明還提供一種用于磁瓦檢測的檢測系統,包括上述的用于磁瓦檢測的照明裝置。本發明的用于磁瓦檢測的照明裝置及用于磁瓦檢測的檢測系統可對磁瓦進行較好地曝光。
【技術領域】
本發明涉及磁瓦檢測技術領域,特別涉及用于磁瓦檢測的照明裝置及用于磁瓦檢測的檢測系統。
【背景技術】
磁瓦是主要用在永磁直流電機上的瓦狀磁鐵,在永磁電機制造中,電機使用質量不合格的磁瓦而造成的回收維修成本是十分昂貴的;磁瓦的代表性缺陷有開裂、圈裂、掉角和平面不平等,由于磁瓦尺寸較多且不規則使用人工檢測很難把不合格的磁瓦剔除出,因此人們需要借助機器幫助人們準確識別出不合格的磁瓦。
機器通過拍攝的磁瓦圖像結合人工智能來確認磁瓦圖像中是否存在不合格的缺陷以分揀出不合格的磁瓦,藉此來增加磁瓦的良率。對于通過機器視覺檢測磁瓦圖像確認所拍攝的磁瓦是否有缺陷來說,最為關鍵的就是所拍攝的磁瓦圖像的質量,而磁瓦圖像的質量很大程度上取決于磁瓦的曝光程度。曝光程度較好的磁瓦可清楚地將缺陷呈現在磁瓦圖像上,可較大程度地增加機器視覺檢測的準確性。如在磁瓦生產過程中,難免會出現一些“條狀光滑劃痕”,這種不影響磁瓦質量但由于劃痕區域光滑,非常容易發生鏡面反射。如果劃痕在受到光源照射發生鏡面反射且反射出的光未能進入工業相機,那么劃痕在圖像中顯現出的特征與磁瓦的圈裂、開裂缺陷在圖像中顯現的特征一模一樣,即使人眼也不能區分出它們,最終導致劃痕會被誤識別為圈裂或開裂缺陷,造成大量誤檢,影響生產效率。又例如,利用直徑150mm 的白色LED碗狀無影漫射光源垂直照射,對內弧面中心區域和外弧面中心區域可以達到比較滿意的效果,但是兩側區域依然存在光照不均勻,“長條狀光滑劃痕”被誤識別為圈裂或開裂缺陷的風險非常大。再例如,使用一種用于磁瓦檢測的可調均勻成像光源裝置,可以降低誤減的概率,但是這種裝置是一次同時獲取磁瓦倒角面與弧形平面的圖像,雖然可以減小檢測工位,但是犧牲了檢測精度和穩定性。當磁瓦較大而開裂較小,且開裂缺陷出現在圓弧面邊界附近,幾乎會百分之百漏檢,除此外,當細小圈裂缺陷出現在倒角面時,也幾乎會百分之百漏檢,分揀不出帶有缺陷的磁瓦,最終影響系統的檢測精度。因此,如何解決磁瓦曝光程度不足的問題,便成了解決的重點。
【發明內容】
為克服上述的技術問題,本發明提供了一種用于磁瓦檢測的照明裝置及用于磁瓦檢測的檢測系統。
本發明解決技術問題的方案是提供一種用于磁瓦檢測的照明裝置,其包括一半球形的外殼及與外殼底部連接的連接板,所述外殼底部具有一開口,在所述連接板上開設有小于開口尺寸的第二通孔,所述外殼連接在連接板的一面且開口的中垂線與第二通孔的中垂線重合,在連接板的另一面固定設置有固定部,所述固定部上設置有至少兩補光燈,所述補光燈沿第二通孔均勻設置。
優選地,所述固定部包括固定架與固定板,所述固定架一端與連接部固定連接,另一端與固定板固定連接,每一所述補光燈對應兩塊所述固定板,所述補光燈的兩端分別與固定板連接。
優選地,所述補光燈包括燈體與連接在燈體兩端的螺栓,所述螺栓可旋進或旋離燈體,在固定板上設置有槽孔,所述螺栓包括固定連接的頭部與螺桿,所述螺桿部分位于槽孔中,部分位于燈體中,所述頭部位于固定板遠離燈體的一端,通過螺桿旋離燈體減少頭部對固定板的壓緊力以調節補光燈所處固定板的位置,通過螺桿旋近燈體增加頭部對固定板的壓緊力以將補光燈與固定板固定連接。
優選地,所述槽孔在固定板上呈直線形或曲線形。
優選地,所述補光燈包括殼體、條形光源與漫反射板,所述殼體具有一開口,所述條形光源位于殼體中,所述漫反射板固定于殼體的開口處,所述條形光源發出的光經由漫反射板從殼體中均勻發射出。
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