[發(fā)明專(zhuān)利]實(shí)現(xiàn)均勻排氣的雙工位處理器及等離子體處理設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910630160.7
• 申請(qǐng)日: 2019-07-12
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112216586B
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-03-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 雷仲禮
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01J37/32
• 分類(lèi)號(hào): H01J37/32
• 代理公司: 上海元好知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31323
• 代理人: 張妍;張靜潔

1.一種實(shí)現(xiàn)均勻排氣的雙工位處理器，所述的雙工位處理器包含：兩個(gè)相鄰排列的等離子體處理腔室，以及一個(gè)共享的排氣泵，每個(gè)所述的等離子體處理腔室內(nèi)設(shè)置一氣體注入裝置和一用于支撐基片的基座，每個(gè)所述的等離子體處理腔室內(nèi)環(huán)繞所述基座的外圍設(shè)置一等離子體約束裝置，每個(gè)所述的等離子體約束裝置下方設(shè)有排氣區(qū)域，所述的等離子體約束裝置上設(shè)置若干氣體通道，用于將氣體排放至排氣區(qū)域，其特征在于，每一個(gè)等離子體處理腔室與排氣泵之間具有兩個(gè)排氣通道，每一個(gè)排氣通道具有進(jìn)氣口和出氣口，所述的進(jìn)氣口連接等離子體處理腔室中的排氣區(qū)域，所述的出氣口連接排氣泵。

2.如權(quán)利要求1所述的實(shí)現(xiàn)均勻排氣的雙工位處理器，其特征在于，所述的排氣通道為長(zhǎng)直通道。

3.如權(quán)利要求1所述的實(shí)現(xiàn)均勻排氣的雙工位處理器，其特征在于，所述的兩個(gè)排氣通道水平地設(shè)置在每一個(gè)等離子體處理腔室與排氣泵之間。

4.如權(quán)利要求1所述的實(shí)現(xiàn)均勻排氣的雙工位處理器，其特征在于，所述的兩個(gè)排氣通道的進(jìn)氣口之間的最小距離大于等于100mm。

5.如權(quán)利要求3所述的實(shí)現(xiàn)均勻排氣的雙工位處理器，其特征在于，所述的兩個(gè)排氣通道的進(jìn)氣口之間的最大距離小于等于圓形等離子體處理腔室的直徑。

6.如權(quán)利要求3所述的實(shí)現(xiàn)均勻排氣的雙工位處理器，其特征在于，所述的兩個(gè)排氣通道的進(jìn)氣口之間的最大距離小于等于矩形等離子體處理腔室的對(duì)角線長(zhǎng)度。

7.如權(quán)利要求1所述的實(shí)現(xiàn)均勻排氣的雙工位處理器，其特征在于，在豎直方向上，所述的排氣泵設(shè)置在兩個(gè)等離子體處理腔室的下方，在水平方向上，所述的排氣泵與兩個(gè)等離子體處理腔室的位置關(guān)系滿(mǎn)足：排氣泵的中心點(diǎn)與兩個(gè)等離子體處理腔室的中心點(diǎn)組成一個(gè)三角形。

8.一種實(shí)現(xiàn)均勻排氣的等離子體處理設(shè)備，其特征在于，所述的等離子體處理設(shè)備包含至少一個(gè)如權(quán)利要求1-6中任意一項(xiàng)所述的雙工位處理器，每一個(gè)雙工位處理器中的每一個(gè)等離子體處理腔室中的氣體注入裝置都連接到反應(yīng)氣體源。