[發明專利]一種曝氣掛膜裝置

在審

• 申請號: 201910619785.3
• 申請日: 2019-07-10
• 公開（公告）號: CN110294535A
• 公開（公告）日: 2019-10-01
• 發明（設計）人: 楊盛林;鄭向勇;毛宇軒;鄭楊飛;徐亮;夏秧巧;施凡;張琦;黃先鋒;趙敏;孔海南
• 申請（專利權）人: 溫州大學
• 主分類號: C02F3/34
• 分類號: C02F3/34;C02F3/30
• 代理公司: 溫州共信知識產權代理有限公司 33284
• 代理人: 傅敏華

1.一種曝氣掛膜裝置，包括有依次設置的厭氧沉淀池、接觸氧化池、污泥沉淀池，厭氧沉淀池上設有進水管，污泥沉淀池上設有出水管，所述的厭氧沉淀池和接觸氧化池經第一隔板隔開，接觸氧化池和污泥沉淀池經第二隔板隔開，第一隔板和第二隔板上均設有透水孔，所述的曝氣掛膜裝置還包括有曝氣裝置和污泥回流裝置，其特征在于，所述的曝氣裝置還包括有曝氣板、曝氣泵以及連接曝氣板和曝氣泵的曝氣管，所述的曝氣板設置在第一隔板靠近接觸氧化池一側的側面上，所述曝氣板內部具有若干氣室,氣室孔徑為2-3mm,在氣室與曝氣泵之間設有用以控制曝氣量大小的氣體流量計，曝氣板上設置掛膜填料，所述厭氧沉淀池和接觸氧化池內均設有污泥破碎器，所述的污泥回流裝置包括有分別對應設置在污泥沉淀池與接觸氧化池底部的支排污管、設置在厭氧沉淀池底部的回流管以及用于連接支排污管和回流管的總排污管，所述的總排污管內設置有污泥泵，污泥泵位于回流管和支排污管之間。

2.根據權利要求1所述的曝氣掛膜裝置，其特征在于，所述第一隔板靠近厭氧沉淀池一側上設置污泥沉淀裝置，所述的污泥沉淀裝置由若干個斜板沿豎直方向依次平行間隔形成，所述的斜板向下傾斜設置，所述的透水孔露出斜板外。

3.根據權利要求2所述的曝氣掛膜裝置，其特征在于，斜板的相對于水平方向的傾角在55-60°，且相鄰斜板的間距在0.8-1.2cm，斜板的橫向寬度占厭氧沉淀池橫向寬度的1/3-2/5。

4.根據權利要求3所述的曝氣掛膜裝置，其特征在于，所述掛膜填料由若干個塑料纖維沿豎直方向依次平行間隔形成，塑料纖維的橫向寬度占接觸氧化池橫向寬度的1/3-2/5。

5.根據權利要求4所述的曝氣掛膜裝置，其特征在于，第二隔板靠近接觸氧化池一側設有污泥沉淀裝置，第二隔板靠近污泥沉淀池一側設有掛膜填料，污泥沉淀池另一側上也設有掛膜填料。

6.根據權利要求1-5中任意一項所述的曝氣掛膜裝置，其特征在于，所述的污泥破碎器包括有轉軸、設置在轉軸上的刀片以及驅動轉軸轉動的電機。

7.根據權利要求6所述的曝氣掛膜裝置，其特征在于，所述的接觸氧化池設有兩個，分別為一級接觸氧化池和二級接觸氧化池，所述的一級接觸氧化池與厭氧沉淀池連接，二級接觸氧化池與污泥沉淀池連接，所述的一級接觸氧化池和二級接觸氧化池經第三隔板隔開，所述第三隔板靠近二級接觸氧化池一側的側面上設置曝氣板，曝氣板上設置掛膜填料，第三隔板靠近一級接觸氧化池一側的側面上設置污泥沉淀裝置。

8.根據權利要求7所述的曝氣掛膜裝置，其特征在于，所述厭氧沉淀池、接觸氧化池以及污泥沉淀池底部均設置有斜坡，所述的斜坡中部凹陷設置形成供支排污管和回流管放置的缺槽，所述的缺槽沿縱向設置，所述斜坡相對于水平方向的傾角在30-45°。

9.根據權利要求8所述的曝氣掛膜裝置，其特征在于，總排污管包括有與支排流管導通的回流段、與外界導通的排污段，在回流段、排污段和回流管之間設有三通閥。

10.根據權利要求9所述的曝氣掛膜裝置，其特征在于，支排污管的管徑在32-45mm，支排污管上設有與若干間隔設置的排污孔，所述排污孔的孔徑為5mm，相鄰排污孔的間距為50mm。