[發(fā)明專利]高電子移動(dòng)率晶體管與其制作方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910618705.2 | 申請日: | 2019-07-10 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112216736A | 公開(公告)日: | 2021-01-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊柏宇 | 申請(專利權(quán))人: | 聯(lián)華電子股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L29/06 | 分類號(hào): | H01L29/06;H01L29/778;H01L21/335 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 陳小雯 |
| 地址: | 中國臺(tái)*** | 國省代碼: | 臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電子 移動(dòng) 晶體管 與其 制作方法 | ||
本發(fā)明公開一種高電子移動(dòng)率晶體管與其制作方法,其中該高電子移動(dòng)率晶體管包括:主動(dòng)區(qū)、緩沖層,位于該主動(dòng)區(qū)上、通道層,位于該緩沖層上、阻障層,位于該通道層上、以及柵極、源極與漏極,位于該阻障層上、以及溝槽隔離結(jié)構(gòu),鄰接并圍繞該通道層以及該阻障層,以施加應(yīng)力來改變該高電子移動(dòng)率晶體管的二維電子氣(2DEG)或二維空穴氣(2DHG)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種高電子移動(dòng)率晶體管(high electron mobility transistor,HEMT),更具體言之,其涉及一種具有能夠施加應(yīng)力的溝槽隔離結(jié)構(gòu)的高電子移動(dòng)率晶體管。
背景技術(shù)
隨著近年來無線通訊市場的火熱以及功率元件應(yīng)用的穩(wěn)定進(jìn)展,微波晶體管在人類活動(dòng)的許多層面上都扮演了重要的角色,對于其效能的需求也越來越迫切。在個(gè)人行動(dòng)通訊的應(yīng)用方面,下一世代的手機(jī)會(huì)有更高的頻寬與效能需求,而因?yàn)椴粩嘣隹斓乃俣扰c數(shù)據(jù)傳輸率,寬頻無線網(wǎng)絡(luò)同樣也有此需求。由于這類需求,現(xiàn)今業(yè)界大量投資在開發(fā)以硅/硅鍺(Si/SiGe)、砷化鎵(GaAs)、碳化硅(SiC)等半導(dǎo)體材料為主的高效能微波晶體管與放大器,其兼具大的擊穿電壓與高電子速度特點(diǎn)。
其中,形成異質(zhì)結(jié)的能力使得氮化鎵成為了用來制作高電子移動(dòng)率晶體管(highelectron mobility transistor,HEMT)的優(yōu)異材料,高電子移動(dòng)率晶體管的優(yōu)點(diǎn)包含其高載流子濃度以及因?yàn)橛坞x雜質(zhì)散射較少所導(dǎo)致的高電子移動(dòng)率。高載流子濃度與高電子移動(dòng)率的結(jié)合也導(dǎo)致了其具備高電流密度與低通道電阻的特性,這兩者在高頻運(yùn)作與電源切換的應(yīng)用方面都十分重要。
在空乏模式的高電子移動(dòng)率晶體管場合,柵極所產(chǎn)生的電場會(huì)用來耗盡半導(dǎo)體寬帶隙與窄帶隙界面處的二維電子氣(two-dimension electron gas,2DEG)通道,如氮化鋁/氮化鎵(AlN/GaN)或氮化鋁鎵/氮化鎵(AlGaN/GaN)之間的界面,在柵極施加控制電壓可直接影響與控制流經(jīng)該通道的電流量。空乏型晶體管在作為開關(guān)時(shí)是以正常開啟(normally-on)元件的型態(tài)運(yùn)作的。在增強(qiáng)模式下的高電子移動(dòng)率晶體管,其晶體管在被施加偏壓運(yùn)作之前不會(huì)有通道與電流存在,其特別之處在于晶體管會(huì)被施加偏壓來使其二維電子氣通道移動(dòng)到費(fèi)米能級(jí)以下,此時(shí)一旦源極與漏極之間有施加電壓,二維電子氣通道中的電子就會(huì)從源極移動(dòng)到漏極。增強(qiáng)型晶體管一般用在數(shù)字與模擬集成電路中作為正常關(guān)閉(normally-off)元件。增強(qiáng)型晶體管在模擬電路應(yīng)用方面也很有用處,例如作為射頻/微波功率放大器或開關(guān)。
現(xiàn)今氮化鋁鎵/氮化鎵高電子移動(dòng)率晶體管在高功率、高溫應(yīng)用方面的研究有所展望。此外,正常關(guān)閉或增強(qiáng)模式運(yùn)作的這類晶體管元件也可望用來作為開關(guān)或耐高溫的集成電路。故此,相關(guān)領(lǐng)域與業(yè)界仍然持續(xù)在高功率、高壓、高速、以及/高溫應(yīng)用方面改善這類元件的制作方法與結(jié)構(gòu)。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于上述現(xiàn)今對于正常關(guān)閉(normally-off)或增強(qiáng)模式運(yùn)作的高電子移動(dòng)率晶體管的需求,本發(fā)明于此提出了一種新穎的高電子移動(dòng)率晶體管,其特點(diǎn)在于具備可提供應(yīng)力的溝槽隔離結(jié)構(gòu)來改變二維電子氣(two-dimension electron gas,2DEG)或二維空穴氣(two-dimension hole gas,2DHG)的濃度,進(jìn)而達(dá)到調(diào)整元件的臨限電壓的功效。
本發(fā)明的其一面向在于提出一種高電子移動(dòng)率晶體管結(jié)構(gòu),包含至少一個(gè)高電子移動(dòng)率晶體管,每個(gè)該高電子移動(dòng)率晶體管包括:基底,具有主動(dòng)區(qū)、緩沖層,位于該主動(dòng)區(qū)上、通道層,位于該緩沖層上、阻障層,位于該通道層上、以及柵極、源極與漏極,位于該阻障層上、以及溝槽隔離結(jié)構(gòu),鄰接并圍繞該通道層以及該阻障層,以對該通道層以及該阻障層施加應(yīng)力來改變該高電子移動(dòng)率晶體管的二維電子氣或二維空穴氣。
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- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個(gè)電位躍變勢壘或表面勢壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個(gè)電位躍變勢壘或表面勢壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過對一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過施加于器件的磁場變化可控的
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- 移動(dòng)支付裝置、移動(dòng)終端POS以及移動(dòng)終端
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