[發明專利]一種改善諧波性能的介質波導濾波器、射頻模塊及基站在審
| 申請號: | 201910615496.6 | 申請日: | 2019-07-09 |
| 公開(公告)號: | CN110336102A | 公開(公告)日: | 2019-10-15 |
| 發明(設計)人: | 何進軍;蔡文新;陳鵬;韋俊杰 | 申請(專利權)人: | 重慶思睿創瓷電科技有限公司 |
| 主分類號: | H01P1/20 | 分類號: | H01P1/20 |
| 代理公司: | 重慶強大凱創專利代理事務所(普通合伙) 50217 | 代理人: | 黃書凱 |
| 地址: | 401346 重慶市巴*** | 國省代碼: | 重慶;50 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 耦合窗口 濾波器 介質波導 介質體 諧波 射頻模塊 基站 諧振部 濾波器技術 濾波器通帶 對稱分布 交叉耦合 制造工藝 耦合 中軸線 耦合的 匚型 | ||
1.一種改善諧波性能的介質波導濾波器,其特征在于:包括介質體以及至少兩個位于不同介質體上的諧振部,諧振部之間通過耦合窗口耦合在一起,所述耦合窗口設置在介質體的邊緣。
2.根據權利要求1所述的一種改善諧波性能的介質波導濾波器,其特征在于:所述耦合窗口為主路耦合的耦合窗口或交叉耦合的耦合窗口。
3.根據權利要求2所述的一種改善諧波性能的介質波導濾波器,其特征在于:所述介質體包括第一本體和第二本體,所述第一本體包括依次排列設置的第六諧振部、第一諧振部和第二諧振部,所述第二本體包括與第一本體上的諧振部對應設置的第五諧振部、第四諧振部和第三諧振部;
所述耦合窗口包括第一耦合窗口、第二耦合窗口和第三耦合窗口,所述第一耦合窗口設置在第一諧振部的表面和第四諧振部的表面,所述第二耦合窗口設置在第二諧振部的表面和第三諧振部的表面,所述第三耦合窗口設置在第五諧振部的表面和第六諧振部的表面,所述第二耦合窗口以及第三耦合窗口為主路耦合窗口。
4.根據權利要求3所述的一種改善諧波性能的介質波導濾波器,其特征在于:所述第一耦合窗口為副路耦合窗口,所述第一耦合窗口設置在第一諧振部和第四諧振部的表面的中間位置。
5.根據權利要求3所述的一種改善諧波性能的介質波導濾波器,其特征在于:還包括第四耦合窗口,所述第四耦合窗口設置在第一本體位于第一諧振部和第二諧振部連接處的表面上以及第二本體位于第三諧振部和第四諧振部連接處的表面上,所述第四耦合窗口為交叉耦合窗口。
6.根據權利要求3所述的一種改善諧波性能的介質波導濾波器,其特征在于:所述介質體上設有輸入接口和輸出接口,所述輸入接口設置在第一諧振部,所述輸出接口設置在第六諧振部。
7.根據權利要求1所述的一種改善諧波性能的介質波導濾波器,其特征在于:所述耦合窗口為條形、L型或匚型。
8.根據權利要求1所述的一種改善諧波性能的介質波導濾波器,其特征在于:所述耦合窗口沿介質體的中軸線對稱分布。
9.一種射頻模塊,其特征在于:包括如權利要求1-8任一項所述的改善諧波性能的介質波導濾波器。
10.一種基站,其特征在于:包括如權利要求9所述的射頻模塊。
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