[發(fā)明專利]一種高抗拉鋰電銅箔的制造方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910606427.9
• 申請(qǐng)日: 2019-07-05
• 公開（公告）號(hào): CN110629257A
• 公開（公告）日: 2019-12-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊紅光;江泱
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 九江德福科技股份有限公司
• 主分類號(hào): C25D1/04
• 分類號(hào): C25D1/04;C25D3/38
• 代理公司: 11210 北京紐樂(lè)康知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)
• 代理人: 覃莉

1.一種高抗拉鋰電銅箔的制造方法，其特征在于，包括如下步驟：

（1）將金屬銅單質(zhì)加入含有硫酸的溶銅罐中，用螺桿風(fēng)機(jī)鼓入高溫空氣，將銅溶解制備主電解液；主電解液經(jīng)多級(jí)過(guò)濾后與添加劑溶液混合得到電解液；電解液經(jīng)換熱器換熱到30-70 ^oC，打入電解槽；電解陰極為無(wú)縫滾筒式鈦輥，電解槽陽(yáng)極為尺寸穩(wěn)定陽(yáng)極；

（2）在30-70 ^oC溫度及30-85 A/dm²的電流密度下進(jìn)行電解制備原箔；

（3）制備的原箔采用常規(guī)的鉻酐水溶液進(jìn)行防氧化處理后即為未切割的成品鋰電銅箔；

所述添加劑包含A劑、B劑、C劑、氯離子，A劑為有機(jī)二價(jià)硫化合物，B劑為含氮天然或合成高分子化合物，C劑為硫脲類化合物；所述電解液中的銅離子、硫酸、氯離子、A劑、B劑、C劑的濃度分別為50-100 g/L、80-140 g/L、30-100 mg/L、3-70 mg/L、5-80 mg/L、5-70 mg/L。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高抗拉鋰電銅箔的制造方法，其特征在于，所述高抗拉鋰電銅箔的厚度為6-9μm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高抗拉鋰電銅箔的制造方法，其特征在于，所述A劑選自以下至少一種：聚二硫二丙烷磺酸鈉、硫醇基丙烷磺酸鈉、3-巰基-1-丙烷磺酸鈉、巰基苯并咪唑。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高抗拉鋰電銅箔的制造方法，其特征在于，所述B劑選自以下至少一種：膠原蛋白、聚乙烯亞胺、聚醚氨。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高抗拉鋰電銅箔的制造方法，其特征在于，所述C劑選自以下至少一種：硫脲、乙烯硫脲、二乙基硫脲、四甲基硫脲、氨基硫脲。