[發明專利]陣列基板、顯示裝置及其顯示方法

有效

• 申請號: 201910605630.4
• 申請日: 2019-07-05
• 公開（公告）號: CN110262118B
• 公開（公告）日: 2022-09-09
• 發明（設計）人: 陳偉雄;張樂;劉漢青;李鑫;宋勇
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335;G02F1/1362;H01L27/12
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 焦玉恒

1.一種陣列基板，包括：

襯底基板；

多個像素單元，位于所述襯底基板上，所述多個像素單元的至少之一包括反射層；以及

介電彈性體，位于所述反射層靠近所述襯底基板的一側，且被配置為在電壓的作用下改變靠近所述反射層一側表面的不平坦度，從而改變所述反射層的不平坦度，

其中，所述反射層共形地形成在所述介電彈性體上，

所述陣列基板還包括第一絕緣層，位于反射層和介電彈性體之間且被配置為使反射層和介電彈性體相互絕緣，介電彈性體包括層疊設置的導電層和介電彈性材料層，導電層包括彼此絕緣的第一導電層和第二導電層，第一導電層位于介電彈性材料層靠近襯底基板的一側，第二導電層位于介電彈性材料層遠離襯底基板的一側。

2.根據權利要求1所述的陣列基板，其中，所述多個像素單元的至少之一還包括位于所述反射層之外的透射區。

3.根據權利要求1所述的陣列基板，還包括控制線，與所述介電彈性體電連接，被配置為向所述介電彈性體施加電壓。

4.根據權利要求3所述的陣列基板，其中，所述介電彈性體包括多個矩陣排列的介電彈性體塊，每個介電彈性體塊位于至少一個像素單元所在的區域內，所述控制線包括多條控制線，每個所述介電彈性體塊連接至少一條所述控制線。

5.根據權利要求2所述的陣列基板，其中，所述介電彈性體在對應于所述透射區的區域開設有透光區。

6.根據權利要求3所述的陣列基板，其中，所述導電層與所述控制線電連接，被配置為向所述介電彈性材料層施加電壓，

所述介電彈性材料層被配置為根據所述導電層施加的電壓而改變遠離所述襯底基板的一側的不平坦度。

7.根據權利要求6所述的陣列基板，其中，所述第一導電層與所述第二導電層之一與所述控制線電連接，另一個被配置為施加公共電壓。

8.根據權利要求1所述的陣列基板，其中，所述反射層為彩色反射層。

9.根據權利要求1所述的陣列基板，其中，所述介電彈性體與所述反射層彼此絕緣。

10.一種顯示裝置，包括根據權利要求1-9中任一項所述的陣列基板。

11.根據權利要求10所述的顯示裝置，還包括控制器以及感光元件，所述控制器分別與所述感光元件和所述介電彈性體電連接，

所述感光元件配置為檢測環境光照強度并向所述控制器提供光照強度信號，所述控制器根據所述光照強度信號向所述介電彈性體施加相應的電壓。

12.一種根據權利要求11所述的顯示裝置的顯示方法，包括：

檢測環境光照強度；

根據所述光照強度，向所述介電彈性體施加相應的電壓，改變所述介電彈性體靠近所述反射層一側的不平坦度，從而改變所述反射層的反射率。

13.根據權利要求12所述的方法，其中，所述多個像素單元的至少之一包括透射區，所述顯示裝置還包括背光單元，

根據所述光照強度，向所述介電彈性體施加相應的電壓包括：

當所述光照強度小于第一預設光照強度時，開啟所述背光單元，并停止向所述介電彈性體施加電壓；

當所述光照強度大于或等于第一預設光照強度，并且小于第二預設光照強度時，向所述介電彈性體施加第一電壓值范圍的電壓以使所述介電彈性體的表面不平坦度大于預定不平坦度；

當所述光照強度大于或等于第二預設光照強度時，向所述介電彈性體施加第二電壓值范圍的電壓，以使所述介電彈性體的表面不平坦度小于所述預定不平坦度，

其中，所述第二預設光照強度大于所述第一預設光照強度，所述第一電壓值范圍中的電壓值大于所述第二電壓值范圍中的電壓值。