[發(fā)明專利]一種垂直腔面發(fā)射激光器及其密集型陣列結(jié)構(gòu)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910602504.3 | 申請日： | 2019-07-05 |
| 公開（公告）號： | CN110649464A | 公開（公告）日： | 2020-01-03 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 李明欣;楊旭;張巖松 | 申請（專利權(quán)）人： | 武漢仟目激光有限公司 |
| 主分類號： | H01S5/183 | 分類號： | H01S5/183;H01S5/42 |
| 代理公司： | 11228 北京匯澤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人： | 吳靜 |
| 地址： | 430205 湖北省武漢市中國(湖北)自貿(mào)區(qū)武漢片區(qū)光谷*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 隔離層 不規(guī)則形狀 金屬層 氧化槽 延伸 垂直腔面發(fā)射激光器 電介質(zhì) 間隔排布 近似矩形 近似梯形 通孔開口 陣列結(jié)構(gòu) 圓周向 覆蓋 | ||
1.一種垂直腔面發(fā)射激光器，其特征在于，包括：
隔離層：其包括圓形部分和從所述圓形部分的圓周向外延伸的一個或多個延伸部分；
P-型金屬層：其包括一個或多個分離的不規(guī)則形狀部分，所述隔離層的延伸部分完全或部分覆蓋所述P-型金屬層的不規(guī)則形狀部分；
一個或多個電介質(zhì)通孔開口：一個或多個所述電介質(zhì)通孔開口分別位于所述P-型金屬層的一個或多個所述不規(guī)則形狀部分之上；
多個氧化槽：多個所述氧化槽沿所述隔離層的圓形部分的圓周外間隔排布且于所述隔離層的延伸部分兩側(cè)，相鄰兩所述延伸部分之間分布有至少一個氧化槽。
2.如權(quán)利要求1所述垂直腔面發(fā)射激光器，其特征在于，所述垂直腔面發(fā)射激光器的寬度在15微米至28微米之間。
3.如權(quán)利要求1所述垂直腔面發(fā)射激光器，其特征在于，所述P-型金屬層的不規(guī)則形狀部分的內(nèi)側(cè)部分向兩側(cè)延伸以形成部分圓環(huán)的形狀。
4.如權(quán)利要求1所述垂直腔面發(fā)射激光器，其特征在于，多個所述氧化槽均為不規(guī)則形狀，在中間沒有所述延伸部分的兩相鄰氧化槽連接在一起。
5.如權(quán)利要求1所述垂直腔面發(fā)射激光器，其特征在于，所述隔離層完全覆蓋所述電介質(zhì)通孔開口。
6.如權(quán)利要求1所述垂直腔面發(fā)射激光器，其特征在于，所述金屬層的不規(guī)則部分的數(shù)量等于所述電介質(zhì)通孔開口以及所述隔離層的延伸部分的數(shù)量。
7.如權(quán)利要求1所述垂直腔面發(fā)射激光器，其特征在于，所述氧化槽的數(shù)量不等于所述金屬層的不規(guī)則部分的數(shù)量。
8.如權(quán)利要求1所述垂直腔面發(fā)射激光器，其特征在于，所述金屬層的不規(guī)則部分的數(shù)量為一個、兩個、三個或四個部分。
9.如權(quán)利要求1所述垂直腔面發(fā)射激光器，其特征在于，所述金屬層、所述電介質(zhì)通孔開口和所述隔離層的延伸部分均圍繞所述圓形部分的圓周等間距或不等間距分布。
10.一種激光器的密集型陣列結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括：
多個如權(quán)利要求1-9任一項所述垂直腔面發(fā)射激光器，多個所述垂直腔面發(fā)射激光器組成陣列排列。
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