[發明專利]一種強化加氫傳質的漿態床液體進料方法和裝置

有效

• 申請號: 201910598180.0
• 申請日: 2019-07-04
• 公開（公告）號: CN110339786B
• 公開（公告）日: 2020-09-18
• 發明（設計）人: 楊強;許蕭;楊健;劉凱祥;宋智博;徐松;萬錦章;張小寧
• 申請（專利權）人: 華東理工大學;濟安永藍（北京）工程技術開發有限公司
• 主分類號: B01J8/22
• 分類號: B01J8/22;C10G45/16
• 代理公司: 上海順華專利代理有限責任公司 31203
• 代理人: 顧蘭芳

1.一種強化加氫傳質的漿態床液體進料裝置，其特征在于，所述裝置從下往上依次設置有液體進料腔、渦流構件、渦流構件支撐部件、氣體分布盤和反應器腔體；

渦流構件安裝有隔板，隔板將反應器分為液體進料腔和反應器腔體，隔板位于氣體分布盤的下方；

漿態床底部液相進料入口設在裝置底部；所述氣體分布盤與氫氣入口連通；

所述渦流構件包括導流口和釋放口，所述渦流構件導流口設置在渦流構件底部，所述渦流構件釋放口設置在渦流構件頂部；渣油從漿態床底部入口進入反應器內部，液體進入導流口形成旋轉流場，然后進入在反應器截面等間隔分布的渦流構件，進入釋放口；

進入反應器的液體預混部分氣體，隔板下方的氣液形態屬于氣液混合狀態或者氣液分層狀態，隔板下方氣液進料形態不影響渦流構件的旋轉噴射速度和形態。

2.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，渦流構件安裝有液體進料分布管，液體進料分布管液體進料分布管高于氣體分布盤；所述渦流支撐部件為隔板或者液體進料分布管，均勻開孔，開孔處安裝渦流構件。

3.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，渦流構件安裝有液體進料分布管，液體進料分布管液體進料分布管不低于氣體分布盤500mm。

4.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述氣體分布盤為開孔鼓泡管、篩孔盤或泡罩形式，所產生的氣泡直徑在5～25mm范圍內。

5.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述渦流構件的釋放口當量直徑為導流口當量直徑的0.5～2.5倍；所述渦流構件釋放口和導流口當量直徑不低于6mm。

6.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，渦流構件的旋轉噴射區域高于氣體分布盤。

7.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，渦流構件的旋轉噴射區域不低于氣體分布盤300mm。

8.根據權利要求1所述強化加氫傳質的漿態床液體進料裝置的強化加氫傳質的漿態床液體進料方法，其特征在于，液體進入反應器后，首先進入一系列并聯的渦流構件，進料渦流構件的液體出口形成旋轉噴射形態，旋轉噴射形態的液體具有一定的動能耗散率，將氣體分布盤設置在旋轉噴射區域，利用旋轉噴射動能耗散將氣泡破碎和均布。

9.如權利要求8所述方法，其特征在于，每個渦流構件導流口處的液體速度為3.5-13m/s，單個渦流構件的液體流量為0.6～2.6方每小時。

10.如權利要求8所述方法，其特征在于，進入渦流構件的渣油從釋放口旋轉噴射，釋放口平均速度為5-10m/s，噴出形態為實心傘狀。

11.如權利要求8所述方法，其特征在于，經氣體分布盤形成的氣泡經過旋轉噴射區域，產生10～10000微米直徑的微細氣泡群，尺寸分布呈現準正態分布。

12.如權利要求11所述方法，其特征在于，微細氣泡群隨著液相的流動上升，并在反應器橫截面上實現再次分布。