[發明專利]一種全息防偽元件、制備方法及制備裝置

在審

• 申請號: 201910595590.X
• 申請日: 2019-07-03
• 公開（公告）號: CN110254069A
• 公開（公告）日: 2019-09-20
• 發明（設計）人: 王笑冰;黃燕燕;闞凌雁;柯華恒;成剛;鄭邦堅
• 申請（專利權）人: 深圳市深大極光科技有限公司
• 主分類號: B42D25/45
• 分類號: B42D25/45;B42D25/328
• 代理公司: 深圳市科進知識產權代理事務所(普通合伙) 44316
• 代理人: 曹衛良

1.一種全息防偽元件，包括從上至下依次層疊設置的薄膜基材、感光聚合物防偽層和保護層，其特征在于，所述感光聚合物防偽層記錄有體積反射全息圖和透射型彩虹全息圖，所述體積反射全息圖具有全視差及三維立體效果，所述彩虹全息圖具有彩色及水平立體視差效果。

2.如權利要求1所述的全息防偽元件，其特征在于，所述薄膜基材為聚乙烯、聚丙烯、尼龍、聚酰胺、聚碳酸酯、聚酯、聚氨酯中的一種或幾種共混合物或共聚物。

3.根據權利要求1所述的全息防偽元件，其特征在于，所述感光聚合物防偽層為全息光記錄材料，所述全息光記錄材料為光致聚合物。

4.根據權利要求1所述的全息防偽元件，其特征在于，所述薄膜基材厚度為6-30微米。

5.根據權利要求1所述的全息防偽元件，其特征在于，所述感光聚合物防偽層可通過涂布方式設置于所述薄膜基材表面，所述薄膜基材的厚度為5-50微米。

6.一種如權利要求1至5任一項所述的全息防偽元件的制備方法，其特征在于，包括下述步驟：

根據菲涅爾全息圖母版，搭建菲涅爾全息圖拍攝光路；

根據彩虹全息圖母版，搭建彩虹全息圖拍攝光路；

所述彩虹全息圖拍攝光路及菲涅爾全息圖拍攝光路分別由兩側照射在所述感光聚合物防偽層上，并于參考光同時匯射到所述感光聚合物防偽層上發生干涉，在所述感光聚合物防偽層形成記錄有體積反射全息圖和透射型彩虹全息圖。

7.根據權利要求6所述的全息防偽元件，其特征在于，所述菲涅爾全息圖拍攝光路及所述彩虹全息圖拍攝光路形成透反射一體全息圖光路系統，所述透反射一體全息圖光路系統包括：激光器、第一平面反射鏡、第二平面反射鏡、第三平面反射鏡、第四平面反射鏡、第五平面反射鏡、第一分束器、第二分束器、第一擴束器、第二擴束器、第三擴束器、第一準直透鏡、第二準直透鏡、菲涅爾全息母版、彩虹全息母版及光致聚合物全息記錄材料，其中：

所述激光器出射的激光光束依次經所述第一平面反射鏡、第二平面反射鏡、第一分束器、第四平面反射鏡、第一擴束器、第一準直透鏡準直于所述彩虹全息母版上形成彩虹全息圖拍攝光路；

所述激光器出射的激光光束依次經所述第一平面反射鏡、第二平面反射鏡、第一分束器、第二分束器、第五平面反射鏡、第三擴束器、第二準直透鏡準直于所述菲涅爾全息母版上形成菲涅爾全息圖拍攝光路；

所述激光器出射的激光光束依次經所述第一反射鏡、第二平面反射鏡、第一分束器、第二分束器、第三平面反射鏡、第二擴束器聚集于所述光致聚合物全息記錄材料上，以形成參考光；

所述彩虹全息圖拍攝光路及菲涅爾全息圖拍攝光路分別由兩側照射在所述感光聚合物防偽層上，并于所述參考光同時匯射到所述光致聚合物全息記錄材料上發生干涉，在所述感光聚合物防偽層形成記錄有體積反射全息圖和透射型彩虹全息圖。

8.一種如權利要求1至5任一項所述的全息防偽元件的制備裝置，其特征在于，包括菲涅爾全息圖母版的菲涅爾全息圖拍攝光路、包括彩虹全息圖母版的彩虹全息圖拍攝光路；其中：

所述彩虹全息圖拍攝光路及菲涅爾全息圖拍攝光路分別由兩側照射在所述感光聚合物防偽層上，并于參考光同時匯射到所述感光聚合物防偽層上發生干涉，在所述感光聚合物防偽層形成記錄有體積反射全息圖和透射型彩虹全息圖。

9.根據權利要求8所述的全息防偽元件的制備裝置，其特征在于，所述菲涅爾全息圖拍攝光路及所述彩虹全息圖拍攝光路形成透反射一體全息圖光路系統，所述透反射一體全息圖光路系統包括：激光器、第一平面反射鏡、第二平面反射鏡、第三平面反射鏡、第四平面反射鏡、第五平面反射鏡、第一分束器、第二分束器、第一擴束器、第二擴束器、第三擴束器、第一準直透鏡、第二準直透鏡、菲涅爾全息母版、彩虹全息母版及光致聚合物全息記錄材料，其中：

所述激光器出射的激光光束依次經所述第一平面反射鏡、第二平面反射鏡、第一分束器、第四平面反射鏡、第一擴束器、第一準直透鏡準直于所述彩虹全息母版上形成彩虹全息圖拍攝光路；

所述激光器出射的激光光束依次經所述第一平面反射鏡、第二平面反射鏡、第一分束器、第二分束器、第五平面反射鏡、第三擴束器、第二準直透鏡準直于所述菲涅爾全息母版上形成菲涅爾全息圖拍攝光路；

所述激光器出射的激光光束依次經所述反射鏡、第二平面反射鏡、第一分束器、第二分束器、第三平面反射鏡、第二擴束器聚集于所述光致聚合物全息記錄材料上，以形成參考光；

所述彩虹全息圖拍攝光路及菲涅爾全息圖拍攝光路分別由兩側照射在所述感光聚合物防偽層上，并于所述參考光同時匯射到所述光致聚合物全息記錄材料上發生干涉，在所述感光聚合物防偽層形成記錄有體積反射全息圖和透射型彩虹全息圖。