[發明專利]一種高清晰圖案耐腐蝕顯控面板生產工藝

在審

• 申請號: 201910595461.0
• 申請日: 2019-07-03
• 公開（公告）號: CN112172398A
• 公開（公告）日: 2021-01-05
• 發明（設計）人: 陳學兵;徐云鴻;張信群;何韻
• 申請（專利權）人: 滁州英諾信電器有限公司
• 主分類號: B44C5/04
• 分類號: B44C5/04;B44C1/22;B44C1/00;C08L23/06;C08L23/12;C08L27/18;C08K13/02;C08K5/098;C08K3/34;C08K3/22;C08K3/36;H05K5/02
• 代理公司: 北京權智天下知識產權代理事務所(普通合伙) 11638
• 代理人: 王新愛

1.一種高清晰圖案耐腐蝕顯控面板生產工藝，其特征在于，包括以下步驟：

步驟一：制備顯控面板基板，采用聚乙烯、聚丙烯、聚四氟乙烯、輕質硬脂酸鈣、滑石粉、納米二氧化鈦和納米二氧化硅制備出顯控面板基板，并對顯控面板基板進行定位打孔；

步驟二：采用激光打點刻蝕的方式在顯控面板基板裝飾面上刻蝕出裝飾圖案的點圖案；

步驟三：對顯控面板基板裝飾面表面進行打磨，在顯控面板基板裝飾面形成磨砂層；

步驟四：在顯控面板基板裝飾面的磨砂層上熱壓一層透明高阻隔性保護膜層，并對多余部分的透明高阻隔性保護膜層進行裁剪去除；

步驟五：制備色彩圖案片材，將選擇好的聚酯片材經過裁剪、色彩印刷后和烤制，制成色彩圖案片材，然后在色彩圖案片材上進行定位打孔，然后將制成的色彩圖案片材與顯控面板基板裝飾面采用熱壓機進行熱壓成型；

步驟六：在顯控面板基板裝飾面的色彩圖案片材上熱壓一層透明耐腐蝕性保護膜層，并對多余部分的透明耐腐蝕性保護膜層進行裁剪去除。

2.根據權利要求1所述的一種高清晰圖案耐腐蝕顯控面板生產工藝，其特征在于：所述步驟一中聚乙烯、聚丙烯、聚四氟乙烯、輕質硬脂酸鈣、滑石粉、納米二氧化鈦和納米二氧化硅的質量比成份為：35-40份聚乙烯、30-35份聚丙烯、25-28份聚四氟乙烯、12-14份輕質硬脂酸鈣、10-12份滑石粉、8-12份納米二氧化鈦和8-12份納米二氧化硅。

3.根據權利要求1所述的一種高清晰圖案耐腐蝕顯控面板生產工藝，其特征在于：所述步驟一中顯控面板基板的制備過程為：

1-1：將聚乙烯、聚丙烯、聚四氟乙烯、輕質硬脂酸鈣、滑石粉、納米二氧化鈦和納米二氧化硅加入攪拌釜內，將攪拌釜內溫度升高至120-135攝氏度，進行混合攪拌40-50分鐘，得到混合料；

1-2：將混合料導入雙螺栓擠出機內進行擠出造粒，得到母粒；

1-3：將母粒導入顯控面板基板的成型模具內進行熱壓成型，制成顯控面板基板。

4.根據權利要求1所述的一種高清晰圖案耐腐蝕顯控面板生產工藝，其特征在于：所述步驟二中具體過程為：

2-1：在顯控面板基板裝飾面的相對面上涂覆一層透光性防鍍油墨；

2-2：在顯控面板基板裝飾面上覆蓋金屬鍍膜，并對金屬鍍膜進行靜壓15-20分鐘；

2-3：在金屬鍍膜表面進行激光打點刻蝕，形成裝飾圖案的點圖案。

5.根據權利要求1所述的一種高清晰圖案耐腐蝕顯控面板生產工藝，其特征在于：所述步驟三中在顯控面板基板表面進行打磨時，采用400-450目砂紙對顯控面板基板表面進行打磨，打磨加工量為0.3-0.5毫米。

6.根據權利要求1所述的一種高清晰圖案耐腐蝕顯控面板生產工藝，其特征在于：所述步驟四中控制熱壓的透明高阻隔性保護膜層厚度為0.2-0.3毫米。

7.根據權利要求1所述的一種高清晰圖案耐腐蝕顯控面板生產工藝，其特征在于：所述步驟五中制備色彩圖案片材的具體過程為：

5-1：將選擇好的聚酯片材按照顯控面板尺寸進行裁剪，控制聚酯片材的裁剪尺寸大于顯控面板尺寸0.4-0.6毫米；

5-2：色彩印刷，對裁剪好的聚酯片材表面進行色彩印刷，保證色彩印刷圖案與步驟二中的點圖案相同且完全重合；

5-3：色彩印刷結束后將聚酯片材放入180-220攝氏度的烤箱內斤烤制3-3.8小時，制成色彩圖案片材。

8.根據權利要求1所述的一種高清晰圖案耐腐蝕顯控面板生產工藝，其特征在于：所述步驟六中控制熱壓的一層透明耐腐蝕性保護膜層厚度為0.3-0.5毫米。