[發(fā)明專利]一種基于可調(diào)雙因子的CT圖像射束硬化偽影校正系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910591978.2
• 申請日: 2019-07-02
• 公開（公告）號: CN110458762B
• 公開（公告）日: 2023-06-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳明;李剛;張秀琰;韓景奇;鄭永果;李涌
• 申請（專利權(quán)）人: 山東科技大學(xué)
• 主分類號: G06T5/00
• 分類號: G06T5/00;G06T7/13;G06T7/136;G06T7/149
• 代理公司: 青島智地領(lǐng)創(chuàng)專利代理有限公司 37252
• 代理人: 陳海濱

1.一種基于可調(diào)雙因子的CT圖像射束硬化偽影校正系統(tǒng)，其特征在于，包括邊緣信息獲取模塊、投影數(shù)據(jù)獲取模塊、偽影數(shù)據(jù)近似計算模塊和校正圖像獲取模塊，在校正過程中，具體包括以下步驟：

通過邊緣信息獲取模塊獲取CT圖像中高密度區(qū)域的邊緣信息，對帶硬化偽影的原始圖像使用閾值方法，分割出高密度區(qū)域，然后利用活動輪廓分割方法精確獲得邊緣信息，最后提取出高密度區(qū)域的輪廓τ(D)；

通過投影數(shù)據(jù)獲取模塊獲取高密度區(qū)域的投影數(shù)據(jù)，基于高密度區(qū)域輪廓τ(D)設(shè)置特征函數(shù)，利用前向投影法對特征函數(shù)進行正投影，獲得其Radon投影數(shù)據(jù)R_τ(D)(X)；

通過偽影數(shù)據(jù)近似計算模塊近似計算基于物理特性設(shè)計的偽影數(shù)據(jù)，由高密度區(qū)域引起的偽影數(shù)據(jù)近似為式(1)所示：

其中，S(E)為在整個能量段上積分是1的能譜函數(shù)，μ₁為一個與高密度區(qū)域的衰減系數(shù)和能量有關(guān)的可調(diào)因子；

通過近似積分給出可用的偽影數(shù)據(jù)表現(xiàn)形式為式(2)所示：

式(2)滿足式(3)

其中

其中，μ₂是另一個可調(diào)因子；

通過校正圖像獲取模塊獲取校正圖像，對式(2)中的偽影數(shù)據(jù)利用濾波反投影重建方法進行圖像重建，得到硬化偽影圖像，再由原圖減去偽影圖像獲得校正后的CT圖像。

2.如權(quán)利要求1所述的基于可調(diào)雙因子的CT圖像射束硬化偽影校正系統(tǒng)，其特征在于，CT圖像中高密度區(qū)域的邊緣信息獲取中，首先對帶硬化偽影的原始圖像使用閾值和活動輪廓分割相結(jié)合法方法進行分割。

3.如權(quán)利要求1所述的基于可調(diào)雙因子的CT圖像射束硬化偽影校正系統(tǒng)，其特征在于，通過偽影數(shù)據(jù)近似計算模塊近似計算基于物理特性設(shè)計的偽影數(shù)據(jù)過程中，高密度部分的質(zhì)量衰減系數(shù)只與X射線能量的吸收有關(guān)，與康普頓散射無關(guān)。