[發明專利]一種磁動式光學相干層析成像系統及其磁場調制方法

有效

• 申請號: 201910590524.3
• 申請日: 2019-07-02
• 公開（公告）號: CN110261309B
• 公開（公告）日: 2021-09-28
• 發明（設計）人: 趙玉倩;馬振鶴;劉簫笛;雙春梅
• 申請（專利權）人: 東北大學秦皇島分校
• 主分類號: G01N21/01
• 分類號: G01N21/01;G01N21/45
• 代理公司: 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙) 11350
• 代理人: 李興林

1.一種磁動式光學相干層析成像系統，其特征在于，包括OCT裝置和磁調制裝置，所述OCT裝置包括控制系統、光信號收發模塊、樣品臂和參考臂，所述光信號收發模塊發送兩路光信號，一路光信號進入所述樣品臂，一路光信號進入所述參考臂，所述磁調制裝置利用雙靜磁場交替屏蔽的方法實現對樣品臺上樣品的雙向磁場調制，所述樣品臂包括掃描振鏡、準直和聚焦透鏡組、樣品臺，所述磁調制裝置包括固定架、A磁棒、B磁棒、A扇葉盤、B扇葉盤、電機和電源裝置，所述電源裝置為所述電機提供電壓，所述固定架的上端固定安裝有所述A磁棒，所述固定架的下端設置有與所述A磁棒相對設置的B磁棒，所述固定架上還設置有所述樣品臺，所述樣品臺與所述B磁場位于同一側，所述電機的輸出軸上設置有所述A扇形盤和B扇形盤，所述A扇形盤和B扇形盤通過鍵槽周向定位在所述電機的輸出軸上，所述A扇形盤設置在所述樣品臺和A磁棒之間，所述B扇形盤設置在所述樣品臺和B磁棒之間，進入樣品臂的光信號依次通過所述掃描振鏡、準直和聚焦透鏡組入射至所述樣品臺，所述樣品臺上的樣品將經過雙向磁場調制后的光散射后依次沿所述樣品臺、準直和聚焦透鏡組、掃描振鏡反射回來和參考臂反射回來的光進行干涉，所述干涉信號進入所述光信號收發模塊，所述光信號收發模塊將所述干涉信號發射給所述控制系統，所述控制系統根據干涉信號進行數據處理后得到樣品的結構圖和樣品運動狀況的相位圖。

2.根據權利要求1所述的磁動式光學相干層析成像系統，其特征在于，所述控制系統為數據處理器。

3.根據權利要求1所述的磁動式光學相干層析成像系統，其特征在于，所述掃描振鏡包括X掃描振鏡和Y掃描振鏡。

4.根據權利要求1所述的磁動式光學相干層析成像系統，其特征在于，所述A扇葉盤和B扇葉盤采用的材質為鐵鎳合金板。

5.根據權利要求1所述的磁動式光學相干層析成像系統，其特征在于，所述A扇葉盤、B扇葉盤上均包括4個扇葉，所述A扇葉盤上相鄰扇葉之間的夾角為45°，所述所述B扇葉盤上相鄰扇葉之間的夾角為45°。

6.一種基于權利要求1所述的磁動式光學相干層析成像系統的磁場調制方法，其特征在于，所述方法包括：

步驟1：磁調制裝置利用雙靜磁場交替屏蔽的方法實現對樣品臺上樣品的雙向磁場調制；

步驟2：光信號收發模塊發送兩路光信號，一路光信號進入樣品臂，另一路光信號進入參考臂；

步驟3：進入樣品臂的光信號依次通過掃描振鏡、準直和聚焦透鏡組入射至所述樣品臺，所述樣品臺上的樣品將經過雙向磁場調制后的光散射后依次沿所述樣品臺、準直和聚焦透鏡組、掃描振鏡反射回來和參考臂反射回來的光進行干涉，并將產生的干涉信號傳輸至光信號收發模塊；

步驟4：光信號收發模塊將干涉信號傳輸至控制系統，所述控制系統對干涉信號進行數據處理后得到樣品的結構圖和反映樣品運動狀況的相位圖。

7.根據權利要求6所述的磁動式光學相干層析成像系統的磁場調制方法，其特征在于，所述步驟1：磁調制裝置利用雙靜磁場交替屏蔽的方法實現對樣品臺上樣品的雙向磁場調制，具體包括：

將A扇葉盤、B扇葉盤在葉片布局上的角度差設定為a；

將A扇葉盤、B扇葉盤通過鍵槽周向定位在電機的輸出軸上；

通過電機驅動輸出軸使A扇葉盤、B扇葉盤以設定轉速旋轉，有且僅有一個扇葉位于A磁棒和B磁棒中間，實現A磁棒、B磁棒對樣品臺上樣品的交替吸引。