[發明專利]一種玻璃基板上的黑色矩陣的制備方法及其應用在審
| 申請號： | 201910588275.4 | 申請日： | 2019-07-02 |
| 公開（公告）號： | CN110346960A | 公開（公告）日： | 2019-10-18 |
| 發明（設計）人： | 劉雪 | 申請（專利權）人： | 深圳市華星光電技術有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/1335 | 分類號： | G02F1/1335;G03F7/00 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黃威 |
| 地址： | 518132 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 黑色矩陣 玻璃基板 光阻 制程 制備 光阻層 顯影 錐角 高分辨率 開口率 變細 底切 剝落 填充 應用 曝光 | ||
1.一種玻璃基板上的黑色矩陣的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
步驟S1：提供一玻璃基板，在所述玻璃基板上涂布光阻形成光阻層；
步驟S2：在所述光阻層上形成光阻凹槽；
步驟S3：將黑色矩陣光阻填充入所述光阻凹槽；
步驟S4：對所述黑色矩陣光阻進行曝光得到黑色矩陣。
2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述步驟1中的所述光阻為正性光阻，所述步驟S2中所述光阻凹槽是通過光刻制程形成的。
3.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述步驟1中的所述光阻為正性光阻，所述步驟S2中所述光阻凹槽是通過激光切割形成的。
4.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述步驟1中的所述光阻為負性光阻，所述步驟S2中所述光阻凹槽是通過光刻制程形成的。
5.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述步驟1中的所述光阻為負性光阻，所述步驟S2中所述光阻凹槽是通過激光切割形成的。
6.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述光阻凹槽的剖面形狀為矩形形狀。
7.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述步驟S3中所述黑色矩陣光阻是通過噴墨打印的方式填充入所述光阻凹槽。
8.一種玻璃基板，其上設置有黑色矩陣；其特征在于，其中所述黑色矩陣是根據權利要求1所述制備方法制備形成。
9.根據權利要求8所述的玻璃基板，其特征在于，所述黑色矩陣的錐角為90度。
10.根據權利要求8所述的玻璃基板，其特征在于，所述黑色矩陣的線寬小于10微米。
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