[發明專利]孔校直設備與方法

在審

• 申請號: 201910587358.1
• 申請日: 2019-06-20
• 公開（公告）號: CN110345884A
• 公開（公告）日: 2019-10-18
• 發明（設計）人: 于大國;沈興全;祝錫晶;辛志杰
• 申請（專利權）人: 中北大學
• 主分類號: G01B11/26
• 分類號: G01B11/26;G01B11/27;B21D3/00;B21C51/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.孔校直設備包括多個專用加力器或普通加力器、導向基準、驅動裝置、探測裝置、光學裝置、支撐裝置、讀數裝置，其特征在于：沿帶孔工件表面的長度方向和圓周方向分布有多個專用加力器，形成專用加力器陣列；加力前測量各個加力部位偏離理想位置的誤差；各個專用加力器施加力的大小與所在加力部位偏離理想位置的誤差有關，誤差大則施加的力大，誤差小則施加的力?。粶y量各個部位的誤差時，驅動裝置或人手使帶孔工件或探測裝置相對于導向基準移動；測量過程中探測裝置一端有支點并繞支點在空間內擺動，另一端與孔壁接觸；光學裝置的光線及光斑隨探測裝置的擺動而變化；讀數裝置顯示光斑位置或其變換后的信息；光線從孔的外部或內部穿過；光學裝置有光發射器、光線、光接收器，光線的長度大于或小于或等于工件的長度，在一次檢測中，光發射器到光接收器之間的距離是不變的；帶孔工件立式或臥式放置；探測裝置采用對稱式結構或非對稱式結構。

2.根據權利要求1所述的孔校直設備，其特征在于：所述的導向基準有導向體，所述的驅動裝置有滑動體，所述的探測裝置有探測桿、探測頭，所述的讀數裝置有顯示器；驅動裝置帶動探測裝置或帶孔工件沿導向體運動；探測桿有支點并能夠繞支點進行空間內的擺動，探測頭位于探測桿上，與孔壁接觸；探測桿能夠隨探測頭與孔接觸部位相對導向基準的變化而擺動；光發射器位于探測桿上，所發出的光線射向光接收器；探索桿位置的變化引起光發射器、光線和光接收器上光斑位置發生變化；顯示器能夠反映光斑位置的變化；光線從孔的外部或內部射向光接收器。

3.根據權利要求1所述的孔校直設備，其特征在于所述的探測裝置擺動的支點位于孔的任意一端，其它零件位置隨支點位置而變動；所述的導向基準為機床導軌或其它導向物體，所述的驅動裝置為機床溜板或其它驅動物體。

4.根據權利要求1所述的孔校直設備，其特征在于所述的探測裝置在擺動支點部位有球副或球軸承或者其它連接結構，所述的其它連接結構使探測桿能擺動。

5.根據權利要求1所述的孔校直設備，其特征在于：所述的探測裝置在擺動支點處有間隙調整機構；探測裝置位于孔內的部分能夠自動適應孔徑的變化。

6.根據權利要求1所述的孔校直設備，其特征在于：在探測桿外部或其延伸、放大部分設置有防轉裝置。

7.根據權利要求6所述的孔校直設備，其特征在于：探測桿或其延伸、放大部分外輪廓和防轉裝置內輪廓具有圓形以外的橫截面，當防轉裝置固定時，兩者相對旋轉運動受到限制；或者防轉裝置向探測桿或其延伸、放大部分施加電磁力，電磁力矩主分量與探測桿繞孔軸線旋轉的趨勢相反；或者防轉裝置為彈性體，向探測桿或其延伸、放大部分施加摩擦力，摩擦力力矩主分量與探測桿繞孔軸線旋轉的趨勢相反。

8.根據權利要求2所述的孔校直設備，其特征在于探測桿是整體或分體式，分體式探測桿能夠被拆開、拆開后能夠被組裝為整體；當光線從孔的內部射向光接收器時，探測頭設有通孔，或者探測頭與孔壁之間有間隙，光線穿越所述的通孔或間隙。

9.孔校直方法包括孔校直設備，其特征在于：孔校直設備有多個專用加力器、導向基準、驅動裝置、探測裝置、光學裝置、支撐裝置、讀數裝置；沿帶孔工件表面的長度方向和圓周方向分布多個專用加力器，形成專用加力器陣列；光學裝置有光發射器、光線、光接收器，光線的長度大于或小于或等于工件的長度，在一次檢測中，光發射器到光接收器之間的距離是不變的；光線從孔的外部或內部穿過；帶孔工件可以立式或臥式放置；探測裝置采用對稱式結構或非對稱式結構；孔校直方法的步驟為：第一步，驅動裝置或人手使帶孔工件或探測裝置相對于導向基準移動，探測裝置的一端與孔壁接觸，另一端有支點并且因孔各個部位偏離理想位置，即存在誤差而繞支點擺動；光學裝置的光線及光斑隨探測裝置的擺動而變化；讀數裝置顯示光斑位置或其變換后的信息；第二步，多個專用加力器加力校直帶孔工件，各個專用加力器施加力的大小與所在加力部位偏離理想位置的誤差有關，誤差大則施加的力大，誤差小則施加的力?。坏谌?，必要時，重復檢測或重復加力。

10.孔校直方法包括孔校直設備，其特征在于：孔校直設備有普通加力器、導向基準、驅動裝置、探測裝置、光學裝置、支撐裝置、讀數裝置；光學裝置有光發射器、光線、光接收器，光線的長度大于或小于或等于工件的長度，在一次檢測中，光發射器到光接收器之間的距離是不變的；光線從孔的外部或內部穿過；帶孔工件可以立式或臥式放置；探測裝置采用對稱式結構或非對稱式結構；孔校直方法的步驟為：第一步，驅動裝置或人手使帶孔工件或探測裝置相對于導向基準移動，探測裝置的一端與孔壁接觸，另一端有支點并由于孔各個部位偏離理想位置，即存在誤差而繞支點擺動；光學裝置的光線及光斑隨探測裝置的擺動而變化；讀數裝置顯示光斑位置或其變換后的信息；第二步，普通加力器加力校直帶孔工件；第三步，必要時，重復檢測或重復加力。