[發明專利]一種超低輻射硅粉的制備裝置

在審

• 申請號: 201910585952.7
• 申請日: 2019-07-01
• 公開（公告）號: CN112169967A
• 公開（公告）日: 2021-01-05
• 發明（設計）人: 何書輝
• 申請（專利權）人: 江蘇中騰石英材料科技有限公司
• 主分類號: B02C21/00
• 分類號: B02C21/00;B02C19/00;B02C4/08;B02C4/02;B02C23/12
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種超低輻射硅粉的制備裝置，包括第二加工腔（3）與第一加工腔（6），其特征在于：所述第一加工腔（6）頂部的一側設有入料口（7），所述第一加工腔（6）的頂部設有頂部電機（8），且頂部電機（8）上設有粉碎磙（801），所述第二加工腔（3）背部的頂部設有兩組第一電機（1401），且第一電機（1401）上設有第一粉碎輪（14），所述第一電機（1401）的底部設有兩組第二電機（1201），且第二電機（1201）上設有第二粉碎輪（12），所述第二電機（1201）的底部設有第三電機（1101），且第三電機（1101）上設有第三粉碎輪（11），所述第三粉碎輪（11）底部設有過濾網（15），所述過濾網（15）的一側設有回料管（10），且回料管（10）頂部設有回料電機（1001），所述回料電機（1001）上設有提升槳（1002）。

2.根據權利要求1所述的一種超低輻射硅粉的制備裝置，其特征在于：所述第二加工腔（3）的正面固定安裝有保護罩（4），且保護罩（4）的內部固定安裝有變頻器（5）。

3.根據權利要求1所述的一種超低輻射硅粉的制備裝置，其特征在于：所述第一加工腔（6）的內部均布固定安裝有粉碎凸點（601）。

4.根據權利要求1所述的一種超低輻射硅粉的制備裝置，其特征在于：所述第二加工腔（3）的底部固定安裝有底座（2），且底座（2）的底部固定安裝有支撐腿（1）。

5.根據權利要求1所述的一種超低輻射硅粉的制備裝置，其特征在于：所述第一粉碎輪（14）底部的兩側固定安裝有擋板（13）。

6.根據權利要求1所述的一種超低輻射硅粉的制備裝置，其特征在于：所述第二加工腔（3）的底部固定安裝有出料口（9），且出料口（9）的底部固定安裝有排料軟管（901）。