[發(fā)明專利]盤裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910584438.1
• 申請(qǐng)日: 2019-07-01
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111653293B
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-08-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 中村吉彥
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社東芝;東芝電子元件及存儲(chǔ)裝置株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G11B5/48
• 分類號(hào): G11B5/48
• 代理公司: 北京市中咨律師事務(wù)所 11247
• 代理人: 李智;段承恩

1.一種盤裝置，具備：

磁盤，其具有非記錄區(qū)域和位于所述非記錄區(qū)域的內(nèi)側(cè)的數(shù)據(jù)記錄區(qū)域；

多個(gè)頭，其對(duì)所述磁盤進(jìn)行信息的讀、寫；以及

頭致動(dòng)器，其具有致動(dòng)器塊、從所述致動(dòng)器塊延伸出的臂、以及從所述臂延伸出并支承著所述頭的懸架組件，

所述臂具有在所述頭致動(dòng)器被保持在卸載位置的狀態(tài)下在所述臂的厚度方向上與所述磁盤重疊的重疊區(qū)域，所述重疊區(qū)域中的至少與所述磁盤的數(shù)據(jù)記錄區(qū)域重疊的第1區(qū)域的厚度比所述臂的除了所述重疊區(qū)域以外的其他區(qū)域的厚度薄。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的盤裝置，

所述臂具有與所述磁盤的表面大致平行地延伸的第1面、和與所述第1面平行地相對(duì)的第2面，所述臂的所述第1區(qū)域在所述第1面和所述第2面中的至少一方具有缺口。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的盤裝置，

所述缺口包括由與所述磁盤的表面平行地延伸的底面、和與所述底面以及所述臂的表面交叉并位于比所述數(shù)據(jù)記錄區(qū)域的外周緣靠徑向外側(cè)的周面規(guī)定的臺(tái)階狀的缺口。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的盤裝置，

所述缺口的周面具有直徑比所述數(shù)據(jù)記錄區(qū)域的直徑大且比所述磁盤的外徑小的圓弧形狀。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的盤裝置，

所述缺口的深度為0.03～0.3mm。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的盤裝置，

所述臂具有位于所述磁盤側(cè)并與所述第1面以及所述第2面交叉的側(cè)面，

所述缺口包括由從所述臂的所述第1面或所述第2面傾斜地延伸至所述側(cè)面的傾斜面規(guī)定的錐狀的缺口。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的盤裝置，

位于所述第1面或所述第2面的所述缺口的端緣具有直徑比所述數(shù)據(jù)記錄區(qū)域的直徑大且比所述磁盤的外徑小的圓弧形狀。