[發(fā)明專利]一種四棱臺(tái)增亮膜及其制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910576132.1 | 申請(qǐng)日: | 2019-06-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111435204A | 公開(公告)日: | 2020-07-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李剛;夏寅;郭俊超;繆鍇;薛永富;羅維德;唐海江;張彥 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 寧波激智科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/13357 | 分類號(hào): | G02F1/13357;G02B5/04;G02B6/00;G02F1/1335;B29D7/01 |
| 代理公司: | 北京策略律師事務(wù)所 11546 | 代理人: | 張華 |
| 地址: | 315040 *** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 四棱臺(tái)增亮膜 及其 制備 方法 | ||
1.一種四棱臺(tái)增亮膜,其特征在于,所述增亮膜包括基材層和結(jié)構(gòu)層,所述結(jié)構(gòu)層置于基材層之上,所述結(jié)構(gòu)層包括若干個(gè)四棱臺(tái),所述四棱臺(tái)緊密排列。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的四棱臺(tái)增亮膜,其特征在于,所述四棱臺(tái)的橫截面和縱剖面均是梯形,所述四棱臺(tái)的底面和上表面均為矩形,所述上表面為平臺(tái)區(qū)域,所述平臺(tái)區(qū)域平整光滑。
四棱臺(tái)的側(cè)面均限制在底面正上方除上表面的空間內(nèi),不會(huì)阻擋平臺(tái)區(qū)域的準(zhǔn)直光透過,所述四棱臺(tái)的底面與基材始終平行且底面與底面始終互相平行,所述四棱臺(tái)的橫截面始終互相平行且縱剖面始終互相平行;
所述四棱臺(tái)的四條棱虛擬斜向延長線在平臺(tái)上方具有虛擬交點(diǎn),該虛擬交點(diǎn)與平臺(tái)構(gòu)成虛擬四棱錐,以該虛擬交點(diǎn)在平臺(tái)上的垂足對(duì)底面作垂線,即四棱臺(tái)的垂心高;所述四棱臺(tái)的平臺(tái)在底面上的投影也為矩形,投影矩形和底面矩形互相平行;所述四棱臺(tái)的橫截面和縱剖面與兩對(duì)底邊分別平行且與兩對(duì)側(cè)面分別相交,所述四棱臺(tái)的橫截面和縱剖面垂直相交于垂心高。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的四棱臺(tái)增亮膜,其特征在于,所述單個(gè)四棱臺(tái)左右兩個(gè)斜面與縱剖面的夾角,即橫截面梯形左右斜邊與垂心高的夾角,分別為α1、β1,α1、β1均為15~75o;α1與β1的和為θ1,θ1為30~150o;所述單個(gè)四棱臺(tái)前后兩個(gè)斜面與橫截面的夾角,即縱剖面梯形左右斜邊與垂心高的夾角,分別為α2、β2,α2、β2均為15~75o;α2與β2的和為θ2,θ2為30~150o。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的四棱臺(tái)增亮膜,其特征在于,所述單個(gè)四棱臺(tái)的垂心高H為5~100μm;不同四棱臺(tái)的垂心高相同或不同。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的四棱臺(tái)增亮膜,其特征在于,所述單個(gè)四棱臺(tái)的底面矩形面積為S2;所述虛擬四棱錐的高為G,G可視作H的垂直延長線,垂直延長倍率為t,G=t×H,t的取值范圍為[0.01,100],平臺(tái)矩形面積為S1=S2×t/(1+t),側(cè)面投影方環(huán)面積S4=S2-S1=S2/(1+t);所述單個(gè)四棱臺(tái)的平臺(tái)矩形的橫向?qū)挾葹長1,L1=[tan(α1)+tan(β1)]×G,底面矩形的橫向?qū)挾葹閃1,W1=[tan(α1)+tan(β1)]×(H+G);所述單個(gè)四棱臺(tái)的平臺(tái)矩形的縱向?qū)挾葹長2,L2=[tan(α2)+tan(β2)]×G,底面矩形的縱向?qū)挾葹閃2,W2=[tan(α2)+tan(β2)]×(H+G)。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的四棱臺(tái)增亮膜,其特征在于,所述四棱臺(tái)上表面的投影在底面的矩形內(nèi)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的四棱臺(tái)增亮膜,其特征在于,所述平臺(tái)區(qū)域的表面粗糙度Ra≤250 nm。
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