[發明專利]一種顱面骨骼結構的頭影測量方法

有效

• 申請號: 201910567877.1
• 申請日: 2019-06-27
• 公開（公告）號: CN110169782B
• 公開（公告）日: 2023-06-02
• 發明（設計）人: 鄭旭
• 申請（專利權）人: 北京大學第三醫院（北京大學第三臨床醫學院）
• 主分類號: A61B6/00
• 分類號: A61B6/00;A61B90/00
• 代理公司: 北京維澳專利代理有限公司 11252
• 代理人: 金海;吳蘭柱

1.一種顱面骨骼結構的頭影測量方法，其特征在于，包括：

設置顱面骨骼的解剖標志點，所述解剖標志點包括：蝶鞍中心點S、鼻根點N、骨性外耳道上緣點Por、眶下點Or、翼上頜裂下緣點Ptm、前鼻棘點ANS、后鼻棘點PNS、上齒槽座點A、下齒槽座點B、頦前點Pog、頦下點Me；

根據解剖標志點構建前顱底平面S-N、后顱底平面S-Ar、眼耳平面Por-Or、下頜平面Go-Me和腭平面ANS-PNS；

設置眼耳平面Por-Or作為參考平面，并根據所述解剖標志點和輔助線構建輔助測量標志點；

根據所述解剖標志點和輔助測量標志點構建顱底、上下頜測量指標和對應的幾何模型以及顱面骨型測量指標；

所述根據所述解剖標志點和輔助線構建輔助測量標志點，包括：

將髁突后緣與顱底線的交點設置為第一測量標志點Ar；

過所述蝶鞍中心點S作所述眼耳平面Por-Or的第一平行線，所述鼻根點N在所述第一平行線上的垂足作為第二測量標志點N’；

所述第一測量標志點Ar在所述第一平行線上的垂足作為第三測量標志點J；

所述翼上頜裂下緣點Ptm在所述第一平行線上的垂足作為第四測量標志點E；

過所述翼上頜裂下緣點Ptm作所述眼耳平面Por-Or的垂線，與所述腭平面ANS-PNS的交點作為第五測量標志點PN；

過所述上齒槽座點A作所述眼耳平面Por-Or的垂線，與所述腭平面ANS-PNS的交點作為第六測量標志點AN；

過所述第一測量標志點Ar作下頜升支后緣的切線，過所述頦下點Me作下頜角下緣的切線，兩個切線的交點作為第七測量標志點Go；

過所述頦前點Pog作所述下頜平面Go-Me的垂線，并將對應的垂足作為第八測量標志點PO；

過所述上齒槽座點A作所述第一平行線上的垂線，并將對應的垂足作為第九測量標志位A’。

2.根據權利要求1所述的顱面骨骼結構的頭影測量方法，其特征在于，構建顱底測量指標和顱底幾何模型，所述顱底測量指標包括：

將所述蝶鞍中心點S與所述鼻根點N連接，以構建SN連線，并作為前顱底長；

構建所述SN連線與所述眼耳平面Por-Or的夾角，以作為前顱底傾斜度；

將所述蝶鞍中心點S與所述第一測量標志點Ar連接，以構建SAr連線，并作為后顱底長；

構建所述SAr連線與所述眼耳平面Por-Or的夾角，以作為后顱底傾斜度；

所述顱底幾何模型包括：構建S-N-N’直角三角形以代表前顱底和S-J-Ar直角三角形以代表后顱底。

3.根據權利要求2所述的顱面骨骼結構的頭影測量方法，其特征在于，構建上頜測量指標和上頜幾何模型，所述上頜測量指標包括：

將所述第五測量標志點PN與所述第四測量標志點E連接，以構建PN-E連線，并作為上頜后部高度；

將所述第四測量標志點E與所述第九測量標志位A’連接，構建EA’連線，以作為上頜長度；

將所述第四測量標志點E與所述蝶鞍中心點S相連，以構建ES連線，作為上頜后緣到蝶鞍中心的距離；

構建所述腭平面ANS-PNS?所述眼耳平面Por-Or的夾角，以作為腭平面角；

所述上頜幾何模型包括：構建E-A’-AN-PN直角梯形。

4.根據權利要求3所述的顱面骨骼結構的頭影測量方法，其特征在于，構建下頜測量指標和下頜幾何模型，所述下頜測量指標包括：

將所述第一測量標志點Ar與所述第七測量標志點Go連接，以構建ArGo連線，并作為下頜升支長；

將所述第七測量標志點Go與第八測量標志點PO連接，以構建GoPO連線，并作為下頜體長；

構建所述ArGo連線與所述GoPO連線的夾角，以作為下頜角；

將所述第一測量標志點Ar與第八測量標志點PO連接，以構建ArPO連線，并作為下頜總長；

將所述蝶鞍中心點S與所述第三測量標志點J連接，以構建SJ連線，并作為蝶鞍顳下頜關節水平距離；

將所述第三測量標志點J與所述第一測量標志點Ar連接，以構建JAr連線，并作為顳下頜關節顱底垂直高度；

構建所述ArPO連線與所述眼耳平面Por-Or的夾角，以作為下頜旋轉角；

所述下頜幾何模型包括：構建Ar-Go-PO不規則三角形。