[發(fā)明專利]基于前氧化復(fù)合空穴傳輸層的鈣鈦礦太陽能電池及制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910560205.8 | 申請日: | 2019-06-26 |
| 公開(公告)號: | CN110265552A | 公開(公告)日: | 2019-09-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 馬柱;黃德軍;肖政;周薇亞;張華;張富 | 申請(專利權(quán))人: | 西南石油大學(xué) |
| 主分類號: | H01L51/48 | 分類號: | H01L51/48;H01L51/42 |
| 代理公司: | 北京中索知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11640 | 代理人: | 房立普 |
| 地址: | 610500 四*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 復(fù)合空穴傳輸層 鈣鈦礦 制備 太陽能電池 吸光層 氧化過程 前驅(qū)液 有機空穴傳輸材料 空穴傳輸層薄膜 空穴傳輸能力 透明導(dǎo)電基板 電子傳輸層 薄膜降解 空穴傳輸 溶液混合 頂電極 鈍化 晶界 通氧 瓶頸 調(diào)控 | ||
1.基于前氧化復(fù)合空穴傳輸層的鈣鈦礦太陽能電池制備方法,其特征在于,包括依次在透明導(dǎo)電基板上制備電子傳輸層、鈣鈦礦吸光層、復(fù)合空穴傳輸層、頂電極;
制備所述復(fù)合空穴傳輸層的具體過程為:通過通氧氧化的Spiro-OMeTAD溶液和無需氧化的有機空穴傳輸材料溶液混合制備成前驅(qū)液,再將前驅(qū)液在鈣鈦礦吸光層上制備復(fù)合空穴傳輸層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于前氧化復(fù)合空穴傳輸層的鈣鈦礦太陽能電池制備方法,其特征在于,所述通氧氧化的Spiro-OMeTAD溶液和有機空穴傳輸材料溶液的體積比為:1:99~99:1。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于前氧化復(fù)合空穴傳輸層的鈣鈦礦太陽能電池制備方法,其特征在于,所述通氧氧化的Spiro-OMeTAD溶液通過以下步驟制備:
步驟1、配制Spiro-OMeTAD溶液:取1mL的Spiro-OMeTAD氯苯溶液、28.8μL的TBP溶液和17.5μL的Li-TFSI乙腈溶液混合攪拌而成;其攪拌2~5小時,Spiro-OMeTAD氯苯溶液的濃度為20~100mg/mL,所述Li-TFSI乙腈溶液的濃度為400~600mg/mL;
步驟2、通氧氧化:將上述配制好的Spiro-OMeTAD溶液置于密閉腔體中,抽至1×101~1×104Pa真空后,再通入純度為99.0000~99.9999%的氧氣,在氧環(huán)境中對Spiro-OMeTAD溶液攪拌和氧化,氧化的時間為1~200分鐘。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于前氧化復(fù)合空穴傳輸層的鈣鈦礦太陽能電池制備方法,其特征在于,所述前驅(qū)液采取滴涂、旋涂、噴涂、自組裝、噴墨打印、絲網(wǎng)印刷、輥涂方法中的任意一種或者多種方式制備復(fù)合空穴傳輸層。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于前氧化復(fù)合空穴傳輸層的鈣鈦礦太陽能電池制備方法,其特征在于,所述有機空穴傳輸材料溶液的濃度為:1~100mg/mL。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于前氧化復(fù)合空穴傳輸層的鈣鈦礦太陽能電池制備方法,其特征在于,所述的有機空穴傳輸材料為有機小分子空穴傳輸材料、聚合物空穴傳輸材料中一種或者多種。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基于前氧化復(fù)合空穴傳輸層的鈣鈦礦太陽能電池制備方法,其特征在于,所述有機小分子空穴傳輸材料為NPB、β-NPB、TPD、TAPC、Spiro-TPD、NBP、VNPB、CBP、TcTa、MCP、CzSi、UGH2、Spiro-TTB、Spiro-TAD、BTR、NDTSR、DRCN5T、BTID-0F、BF-DPB、Spiro-2NPB、HMTPD、Spiro-NPB、DMFL-NPB、DPFL-TPD、DMFL-NPB、PAPB、Spiro-TTB、NPAPF、NPBAPF、TTP、TBA、Spiro-mTTB、DTAF、FK209中的一種或者多種。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基于前氧化復(fù)合空穴傳輸層的鈣鈦礦太陽能電池制備方法,其特征在于,所述聚合物空穴傳輸材料為PT、P3HT、PTB7、ITIC、PTB7-Th、PBDB-T、PBDB-T-2F、MEH-PPV、PFO、F8BT、PFO-DMP、PFD、PBTTT-C14、PDVT-10、PCMO、PTAA、DM-FTB、iPrCN、PBZ-m-CF3、PDTB-EF-T、PDCBT-2F、FTAZ、PVK、DPP、PDCBT、PCPDTBT、PDTSTTz、PDT-STTz-4中的一種或者多種。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于前氧化復(fù)合空穴傳輸層的鈣鈦礦太陽能電池制備方法,其特征在于,所述復(fù)合空穴傳輸層厚度的為30~300nm。
10.基于前氧化復(fù)合空穴傳輸層的鈣鈦礦太陽能電池,其特征在于,利用權(quán)利要求1-9任一項所述的方法制備而成。
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