[發明專利]化學機械研磨設備機臺監控系統

在審

• 申請號: 201910555218.6
• 申請日: 2019-06-25
• 公開（公告）號: CN110116365A
• 公開（公告）日: 2019-08-13
• 發明（設計）人: 張兆偉;夏俊東;何蓬勃
• 申請（專利權）人: 吉姆西半導體科技（無錫）有限公司
• 主分類號: B24B37/005
• 分類號: B24B37/005;B24B53/017
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.化學機械研磨設備機臺監控系統，其特征包括主控模塊(1)和分別與主控模塊(1)信號連接的閾值設定模塊(2)、數值顯示模塊(3)、報警模塊(4)、信號轉換模塊(5)和監控傳感器；

所述的主控模塊(1)用于監控傳感器傳輸來的采集信號并傳輸給信號轉換模塊(5)，然后接收信號轉換模塊(5)傳輸來的數值信號與閾值設定模塊(2)中的閾值信號進行比對，并將數值信號發送給數值顯示模塊(3)和將報警信號發送給報警模塊(4)；

所述的閾值設定模塊(2)用于輸入閾值信號并發送給主控模塊(1)；

所述的數值顯示模塊(3)用于接收主控模塊(1)傳輸來的數值信號進行顯示；

所述的報警模塊(4)用于接收主控模塊(1)傳輸來的報警信號；

所述的信號轉換模塊(5)用于接收主控模塊(1)傳輸來的采集信號轉換成數值信號并傳輸給主控模塊(1)。

2.如權利要求1所述的化學機械研磨設備機臺監控系統，其特征是所述的監控傳感包括研磨墊修整器上下位置偵測傳感器(9)、研磨墊修整器轉速偵測傳感器(10)、研磨頭氣室膜泄漏傳感器(11)、高壓噴淋出水管流量傳感器(12)、高壓噴淋出水閥氣壓傳感器(13)、化學品流量傳感器(14)、晶圓旋轉驅動輪速度采樣傳感器(15)和新風風扇風量傳感器(16)；

所述的研磨墊修整器上下位置偵測傳感器(9)用于偵測研磨墊修整器上下狀態信號并傳輸給信號轉換模塊(5)；

所述的研磨墊修整器轉速偵測傳感器(10)用于偵測研磨墊修整器的轉速信號并傳輸給信號轉換模塊(5)；

所述的研磨頭氣室膜泄漏傳感器(11)用于偵測研磨頭氣室濕度信號并傳輸給信號轉換模塊(5)；

所述的高壓噴淋出水管流量傳感器(12)用于偵測的高壓噴淋出水管的流量信號并傳輸給信號轉換模塊(5)；

所述的高壓噴淋出水閥氣壓傳感器(13)用于偵測的高壓噴淋出水管出水閥的氣壓信號并傳輸給信號轉換模塊(5)；

所述的化學品流量傳感器(14)用于偵測化學品流量計到位信號并傳輸給信號轉換模塊(5)；

所述的晶圓旋轉驅動輪速度采樣傳感器(15)用于偵測晶圓旋轉驅動輪速度信號并傳輸給信號轉換模塊(5)；

所述的新風風扇風量傳感器(16)用于偵測新風風扇出風風量信號并傳輸給信號轉換模塊(5)。

3.如權利要求1或2所述的化學機械研磨設備機臺監控系統，其特征是所述的主控模塊(1)還分別與機臺(5)、聲光報警模塊(6)、遠程監控端(7)和第三方信號模塊(8)信號連接。

4.如權利要求2所述的化學機械研磨設備機臺監控系統，其特征是所述的研磨墊修整器上下位置偵測傳感器(9)設置在研磨墊修整器底部驅動機構一側，研磨墊修整器轉速偵測傳感器(10)設置在研磨墊修整器一側。

5.如權利要求2所述的化學機械研磨設備機臺監控系統，其特征是所述的研磨頭氣室膜泄漏傳感器(11)為濕度傳感器、設置在研磨頭氣室真空連接管內。

6.如權利要求2所述的化學機械研磨設備機臺監控系統，其特征是所述的高壓噴淋出水管流量傳感器(12)為多普勒流量計、設置在高壓噴淋出水管上，高壓噴淋出水閥氣壓傳感器(13)為氣壓采集傳感器、設置在機臺閥組與高壓噴淋出水管出水閥之間的管路上。

7.如權利要求2所述的化學機械研磨設備機臺監控系統，其特征是所述的化學品流量傳感器(14)設置在化學品出液管流量計上浮球處。

8.如權利要求2所述的化學機械研磨設備機臺監控系統，其特征是所述的晶圓旋轉驅動輪速度采樣傳感器(15)設置在晶圓旋轉驅動輪上。

9.如權利要求2所述的化學機械研磨設備機臺監控系統，其特征是所述的新風風扇風量傳感器(16)設置在新風風扇出風口處。

10.如權利要求2所述的化學機械研磨設備機臺監控系統，其特征是所述的信號轉換模塊(5)還與環境風速傳感器、環境溫度傳感器和換機濕度傳感器信號連接。