[發(fā)明專利]一種準(zhǔn)直光可透過新型增亮膜及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910554715.4 | 申請日: | 2019-06-25 |
| 公開(公告)號: | CN111435203A | 公開(公告)日: | 2020-07-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李剛;夏寅;周鼎;汪誠;馮金剛;高斌基;唐海江;張彥 | 申請(專利權(quán))人: | 寧波激智科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京策略律師事務(wù)所 11546 | 代理人: | 張華 |
| 地址: | 315040 *** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 準(zhǔn)直光可 透過 新型 增亮膜 及其 制備 方法 | ||
1.一種新型增亮膜,其特征在于,所述增亮膜包括基材層和結(jié)構(gòu)層,所述結(jié)構(gòu)層置于基材層之上,所述結(jié)構(gòu)層包括若干個三棱柱,所述三棱柱間隔排列,相鄰三棱柱之間為間隔區(qū)域。
2.根據(jù)權(quán)利要求書1所述的新型增亮膜,其特征在于,所述間隔區(qū)域平整光滑,所述三棱柱的橫截面是三角形,三角形的側(cè)邊均限制在底邊正上方空間內(nèi),不會阻擋間隔區(qū)域的準(zhǔn)直光透過,所述三棱柱的底面始終互相平行且縱剖面始終互相平行。
3.根據(jù)權(quán)利要求書1所述的新型增亮膜,其特征在于,所述單個三棱柱左右兩個斜面與縱剖面的夾角,橫截面三角形左右斜邊與高的夾角分別為α、β,α、β均為15~75°;α與β的和構(gòu)成三角形的頂角θ,θ為30~150°。
4.根據(jù)權(quán)利要求書1所述的新型增亮膜,其特征在于,所述單個三棱柱的高H為5~100μm;不同三棱柱的高可以相同或不同。
5.根據(jù)權(quán)利要求書1所述的新型增亮膜,其特征在于,所述單個三棱柱的寬度,單個橫截面三角形的底邊長度為W,其中左側(cè)側(cè)邊投影W=tan(α)×H,右側(cè)側(cè)邊投影Wb=tan(β)×H,W=Wa+Wb;所述三棱柱的間隔長度由單個三棱柱截面三角形底邊向兩側(cè)延長線長度構(gòu)成,延長倍率為k,其中左側(cè)延長線Ea=k×Wa,右側(cè)延長線Eb=k×Wb,k的取值范圍為[0.01,100];
所述相鄰三棱柱的間隔E為左三棱柱的右側(cè)延長線Eb與右三棱柱的左側(cè)延長線Ea之和,E可以根據(jù)E=(Wa+Wb)×k計算得出;所述三棱柱的水平距離P為相鄰三棱柱的縱剖面距離,為左三棱柱縱剖面右側(cè)的Wb、Eb與右三棱柱縱剖面左側(cè)的Wa、Ea相加所得,當(dāng)三棱柱結(jié)構(gòu)相同,P=Wa+Wb+Ea+Eb=Wa+Wb+E=(Wa+Wb)×(1+k)。
6.根據(jù)權(quán)利要求書1所述的新型增亮膜,其特征在于,所述間隔區(qū)域的表面粗糙度Ra≤250nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求書1所述的新型增亮膜,其特征在于,所述脊線在側(cè)視圖上的形態(tài)選自直線、折線、曲線中的一種或至少兩種的組合;所述脊線的振幅A’選自±[0,2]μm。
8.根據(jù)權(quán)利要求書1所述的新型增亮膜,其特征在于,所述三棱柱縱剖面在基材層上的投影為直線A,所述基材端面在基材層上的投影為直線B,直線A和直線B的夾角稱為結(jié)構(gòu)層的錯位角錯位角選自0~90°。
9.一種根據(jù)權(quán)利要求1-8中任一項所述的新型增亮膜的制備方法,其特征在于,所述方法包含下述步驟:
(1)將模具打磨、拋光至表面平整光滑,再按照三棱柱結(jié)構(gòu)、排列方式以及縱深方向雕刻出互補(bǔ)結(jié)構(gòu)的模具;
(2)在模具與基材之間填充聚合物樹脂,通過成型、脫模,微復(fù)制出在基材層上的結(jié)構(gòu)層,獲得準(zhǔn)直光可透過的新型增亮膜。
10.一種背光模組,其特征在于,所述背光模組包含反射膜、導(dǎo)光板、下擴(kuò)散膜和增亮膜,所述增亮膜是權(quán)利要求1-8中任一項所述的增亮膜片材或片材的組合;所述增亮膜片材的組合包括A片材或B片材,A片材的裁切角A選自0~90°,B片材的裁切角B選自90~180°;所述增亮膜片材組合為所述A片材和/或B片材中的至少兩張以上的組合。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





