[發(fā)明專利]一種經(jīng)緯儀支架在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910548211.1 | 申請日: | 2019-06-24 |
| 公開(公告)號: | CN110131356A | 公開(公告)日: | 2019-08-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 譚自力 | 申請(專利權(quán))人: | 四川中科成光科技有限公司 |
| 主分類號: | F16F15/02 | 分類號: | F16F15/02;F16M11/10;F16M11/22;G01C1/02 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 610000 四川省成都市*** | 國省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 第二臂 第一臂 經(jīng)緯儀支架 方位支架 俯仰支架 支座連接 經(jīng)緯 軸承 垂直 測量儀器 俯仰傾角 抗振能力 相對設(shè)置 申請 制造 | ||
本申請?zhí)峁┮环N經(jīng)緯儀支架,屬于測量儀器制造技術(shù)領(lǐng)域。經(jīng)緯儀支架包括俯仰支架和方位支架。俯仰支架包括第一臂、第二臂和支座。第一臂與第二臂相對設(shè)置,支座連接第一臂和第二臂。第一臂垂直于支座,第二臂垂直于支座。第一臂上安裝有第一軸承,第二臂相應位置安裝有第二軸承。方位支架與支座連接。俯仰支架被用于控制經(jīng)緯儀的俯仰傾角,方位支架被用于控制經(jīng)緯儀的方位。該經(jīng)緯儀支架的抗振能力好,結(jié)構(gòu)簡單。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及的是測量儀器制造技術(shù)領(lǐng)域,具體而言,涉及一種經(jīng)緯儀支架。
背景技術(shù)
現(xiàn)有技術(shù)中的經(jīng)緯儀支架抗振能力弱。申請人發(fā)現(xiàn),現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題在于:經(jīng)緯儀支架抗振能力弱。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的之一在于提供一種經(jīng)緯儀支架,以便于在一定程度上解決現(xiàn)有技術(shù)中經(jīng)緯儀支架抗振能力弱的問題。本發(fā)明所提供的經(jīng)緯儀支架抗振能力較好。
本發(fā)明的目的可以通過下列技術(shù)方案來實現(xiàn):
本發(fā)明提供的經(jīng)緯儀支架,經(jīng)緯儀支架包括俯仰支架和方位支架,俯仰支架包括第一臂、第二臂和支座,第一臂與第二臂相對設(shè)置,支座連接第一臂和第二臂,第一臂垂直于支座,第二臂垂直于支座,第一臂上安裝有第一軸承,第二臂相應位置安裝有第二軸承,方位支架與支座連接,俯仰支架被用于控制經(jīng)緯儀的俯仰傾角,方位支架被用于控制經(jīng)緯儀的方位。
作為本發(fā)明的一種優(yōu)選技術(shù)方案,第一軸承包括第一環(huán)體、第二環(huán)體、第一滾動體和第一保持架,第一環(huán)體與第二環(huán)體同軸設(shè)置,第一環(huán)體的內(nèi)徑大于第二環(huán)體的外徑,第一滾動體和第一保持架位于第一環(huán)體與第二環(huán)體之間,第一滾動體與第一環(huán)體接觸,第一滾動體與第二環(huán)體接觸,第一保持架能夠保持第一滾動體的位置,以使第一滾動體在第一保持架內(nèi)轉(zhuǎn)動,第一環(huán)體被用于與第一臂連接。
作為本發(fā)明的一種優(yōu)選技術(shù)方案,第一軸承還包括止擋環(huán),止擋環(huán)與第二環(huán)體連接,止擋環(huán)能夠止擋第一保持架。
作為本發(fā)明的一種優(yōu)選技術(shù)方案,第二環(huán)體的側(cè)面開設(shè)有第二連接位置,止擋環(huán)通過連接件連接止擋環(huán)與第二環(huán)體。
作為本發(fā)明的一種優(yōu)選技術(shù)方案,第二軸承包括第三環(huán)體、第四環(huán)體、第五環(huán)體、筒體、第二滾動體和第二保持架,第三環(huán)體、第四環(huán)體、第五環(huán)體和筒體同軸設(shè)置,第三環(huán)體與第四環(huán)體在筒體的軸向間隔設(shè)置,筒體連接第三環(huán)體與第四環(huán)體,第三環(huán)體的外徑和第四環(huán)體的外徑均大于筒體的外徑,以使第三環(huán)體與第四環(huán)體相對的表面、第四環(huán)體與第三環(huán)體相對的表面及筒體的外表面形成安裝空間,第二滾動體和第二保持架容納于安裝空間內(nèi),第五環(huán)體位于第三環(huán)體與第四環(huán)體之間,第五環(huán)體的內(nèi)徑大于筒體的外徑,第二滾動體與第三環(huán)體的與第四環(huán)體相對的表面接觸,第二滾動體與第四環(huán)體的與第三環(huán)體相對的表面接觸,第二滾動體與第五環(huán)體接觸,第三環(huán)體的內(nèi)徑等于筒體的內(nèi)徑,第四環(huán)體的內(nèi)徑小于筒體的外徑。
作為本發(fā)明的一種優(yōu)選技術(shù)方案,第三環(huán)體的外徑與第四環(huán)體的外徑相等。
作為本發(fā)明的一種優(yōu)選技術(shù)方案,第三環(huán)體、第四環(huán)體、第五環(huán)體與筒體共同形成U形的容納空間,第二滾動體與第二保持架容納于容納空間內(nèi)。
作為本發(fā)明的一種優(yōu)選技術(shù)方案,第二保持架包括第一保持環(huán)、第二保持環(huán)和保持筒,第一保持環(huán)與第二保持環(huán)沿著保持筒的軸向間隔設(shè)置,保持筒連接第一保持環(huán)和第二保持環(huán),第一保持環(huán)和第二保持環(huán)的外徑大于保持筒的外徑,第一保持環(huán)的第一側(cè)與第三環(huán)體接觸,第一保持環(huán)的第二側(cè)與第五環(huán)體接觸,第二保持環(huán)的第一側(cè)與第四環(huán)體接觸,第二保持環(huán)的第二側(cè)與第五環(huán)體接觸,保持筒的第一側(cè)與筒體的外表面接觸,保持筒的第二側(cè)與第五環(huán)體接觸,第二滾動體分布于第一保持環(huán)、第二保持環(huán)和保持筒。
作為本發(fā)明的一種優(yōu)選技術(shù)方案,方位支架包括方位軸和測量軸,方位軸與測量軸傳動連接,測量軸與支座連接。
作為本發(fā)明的一種優(yōu)選技術(shù)方案,方位支架包括第二軸承,第二軸承被設(shè)置于方位軸的兩端,并支撐方位軸。
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