[發明專利]一種橄欖核隨形雕刻方法及系統有效
| 申請號: | 201910537717.2 | 申請日: | 2019-06-20 |
| 公開(公告)號: | CN110239270B | 公開(公告)日: | 2020-12-25 |
| 發明(設計)人: | 李剛;周鳴樂;馮正乾;李敏;李旺;王明杰 | 申請(專利權)人: | 山東省計算中心(國家超級計算濟南中心) |
| 主分類號: | B44C1/22 | 分類號: | B44C1/22;B44B1/00;B44B1/06;B44B3/00;B44B3/06 |
| 代理公司: | 濟南圣達知識產權代理有限公司 37221 | 代理人: | 黃海麗 |
| 地址: | 250014 山*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 橄欖 核隨形 雕刻 方法 系統 | ||
本公開公開了一種橄欖核隨形雕刻方法及系統,包括:獲取標準雕刻工藝品外形數據,所述標準雕刻工藝品的外形數據,包括:標準雕刻工藝品的長度、每個點的切削深度和最大切削深度;獲取待雕刻橄欖核的外形數據;所述待雕刻橄欖核的外形數據,包括:待雕刻橄欖核的長度和待雕刻橄欖核的每個點的高度;根據標準雕刻工藝品外形數據和待雕刻橄欖核的外形數據,計算出實際雕刻過程中待雕刻橄欖核每個點的切削深度;將實際雕刻過程中待雕刻橄欖核每個點的切削深度發送給雕刻機,雕刻機對橄欖核完成雕刻任務。
技術領域
本公開涉及雕刻技術領域,特別是涉及一種橄欖核隨形雕刻方法及系統。
背景技術
本部分的陳述僅僅是提到了與本公開相關的背景技術,并不必然構成現有技術。
在實現本公開的過程中,發明人發現現有技術中存在以下技術問題:
橄欖核雕有手工雕刻核機器雕刻兩種方式。手工雕刻對橄欖核選擇嚴格,且雕刻費時費力、價格昂貴,并不是每個橄欖核雕愛好者財力所能承受;因此,除資深藏友外,大部人會選擇機器雕刻作為替代品。
以往機器雕刻對于橄欖核大小及形狀有嚴格要求,如此一方面導致在橄欖核雕刻生產過程會增加工序,降低效率;另一方面導致在橄欖核雕刻生產過程中產生很多廢料,造成資源浪費;現有技術亟需解決的技術問題是,如何根據橄欖核形狀大小,實現對橄欖核的隨形雕刻。
發明內容
為了解決現有技術的不足,本公開提供了一種橄欖核隨形雕刻方法及系統;
第一方面,本公開提供了一種橄欖核隨形雕刻方法;
一種橄欖核隨形雕刻方法,包括:
獲取標準雕刻工藝品外形數據,所述標準雕刻工藝品的外形數據,包括:標準雕刻工藝品的長度、每個點的切削深度和最大切削深度;
獲取待雕刻橄欖核的外形數據;所述待雕刻橄欖核的外形數據,包括:待雕刻橄欖核的長度和待雕刻橄欖核的每個點的高度;
根據標準雕刻工藝品外形數據和待雕刻橄欖核的外形數據,計算出實際雕刻過程中待雕刻橄欖核每個點的切削深度;
將實際雕刻過程中待雕刻橄欖核每個點的切削深度發送給雕刻機,雕刻機對橄欖核完成雕刻任務。
第二方面,本公開還提供了一種橄欖核隨形雕刻系統;
一種橄欖核隨形雕刻系統,包括:
第一獲取模塊,其被配置為獲取標準雕刻工藝品外形數據,所述標準雕刻工藝品的外形數據,包括:標準雕刻工藝品的長度、每個點的切削深度和最大切削深度;
第二獲取模塊,其被配置為獲取待雕刻橄欖核的外形數據;所述待雕刻橄欖核的外形數據,包括:待雕刻橄欖核的長度和待雕刻橄欖核的每個點的高度;
切削深度計算模塊,其被配置為根據標準雕刻工藝品外形數據和待雕刻橄欖核的外形數據,計算出實際雕刻過程中待雕刻橄欖核每個點的切削深度;
雕刻模塊,其被配置為將實際雕刻過程中待雕刻橄欖核每個點的切削深度發送給雕刻機,雕刻機對橄欖核完成雕刻任務。
與現有技術相比,本公開的有益效果是:
根據橄欖核形狀大小,實現對橄欖核的隨形雕刻,滿足批量雕刻的需求,提高生產效率,降低生產成本,滿足更多人對橄欖核雕的需求。
附圖說明
構成本申請的一部分的說明書附圖用來提供對本申請的進一步理解,本申請的示意性實施例及其說明用于解釋本申請,并不構成對本申請的不當限定。
圖1為本公開實施例一的橄欖核坐標構建示意圖;
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