[發明專利]蒸發源及蒸鍍設備

有效

• 申請號: 201910528411.0
• 申請日: 2019-06-18
• 公開（公告）號: CN110144550B
• 公開（公告）日: 2021-09-21
• 發明（設計）人: 肖昂;饒勇;羅壘壘;蘭代江;劉飛;加新星
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/54
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 黃燦;曹娜

本發明提供一種蒸發源及蒸鍍設備，該蒸發源包括：支撐體，設置有第一容置腔；坩堝，包括用于容置蒸鍍材料的第二容置腔；所述坩堝設置于所述第一容置腔內，且位于所述支撐體的支撐面上，通過所述支撐面，所述支撐體能夠支撐所述坩堝；壓力傳感器，設置于所述支撐面上，且所述坩堝抵壓在所述壓力傳感器上。采用該蒸發源，通過在用于支撐坩堝的支撐體上設置壓力傳感器，以能夠通過壓力傳感器實時監測坩堝內剩余的蒸鍍材料，獲得剩余蒸鍍材料的精確重量值，根據所獲得的剩余蒸鍍材料的精確重量值，能夠確定需要切換蒸發源的預加熱時間點和蒸發源切換時間點，以避免造成材料浪費和對蒸鍍速率造成影響。

技術領域

本發明涉及顯示器制造技術領域，尤其是指一種蒸發源及蒸鍍設備。

背景技術

真空蒸鍍是指在高真空環境下對材料進行加熱，使被加熱材料蒸發升華并在基板上形成鍍膜，主要用于有機半導體器件如有機發光二極管中的有機功能層的制作。

采用常規的環繞式的真空蒸鍍設備，在蒸鍍過程中，通常只使用一個蒸發源進行蒸鍍，當正在使用的蒸發源內的蒸鍍材料耗盡時，對另一蒸發源進行加熱，使另一蒸發源用于蒸鍍，以確保蒸鍍過程的連續性。常規蒸鍍過程中蒸發源之間的切換，通常是利用蒸鍍時間進行判斷。然而，利用蒸鍍時間進行蒸發源切換時，為避免造成蒸鍍膜層不連續，切換時需要保證蒸發源內的蒸鍍材料具有一定余量，而通過蒸鍍時間不能精確獲得蒸發源內的剩余蒸鍍材料，造成材料浪費，而且會對蒸鍍速率造成一定影響。

發明內容

本發明技術方案的目的是提供一種蒸發源及蒸鍍設備，用于解決蒸鍍過程中利用蒸鍍時間進行蒸發源切換，不能精確獲得蒸發源內的剩余蒸鍍材料，造成材料浪費和對蒸鍍速率造成影響的問題。

本發明實施例提供一種蒸發源，其中，包括：

支撐體，設置有第一容置腔；

坩堝，包括用于容置蒸鍍材料的第二容置腔；所述坩堝設置于所述第一容置腔內，且位于所述支撐體的支撐面上，通過所述支撐面，所述支撐體能夠支撐所述坩堝；

壓力傳感器，設置于所述支撐面上，且所述坩堝抵壓在所述壓力傳感器上。

可選地，所述的蒸發源，其中，所述壓力傳感器為壓電陶瓷傳感器。

可選地，所述的蒸發源，其中，所述支撐面為所述支撐體開設有所述第一容置腔的頂面，所述坩堝包括圍繞所述第二容置腔的延伸邊緣，所述延伸邊緣位于所述頂面上；通過所述頂面支撐所述延伸邊緣，所述支撐體能夠支撐所述坩堝；

其中，所述壓力傳感器設置于所述頂面與所述延伸邊緣之間。

可選地，所述的蒸發源，其中，所述壓力傳感器形成為圍繞所述坩堝的環形結構。

可選地，所述的蒸發源，其中，所述壓力傳感器的數量為至少兩個，且至少兩個的所述壓力傳感器在所述支撐面上圍繞所述坩堝均勻分布。

可選地，所述的蒸發源，其中，所述支撐面為所述支撐體開設有所述第一容置腔的頂面時，所述頂面形成為階梯形狀，所述壓力傳感器與所述頂面接觸的端面形成為與階梯形狀的所述頂面配合的結構。

可選地，所述的蒸發源，其中，所述支撐體上設置有用于對所述坩堝進行加熱的加熱源。

本發明實施例還提供一種蒸鍍設備，其中，包括如上任一項所述的蒸發源。

可選地，所述的蒸鍍設備，其中，所述蒸鍍設備還包括：

控制器，用于獲取所述壓力傳感器所檢測的壓力信號，根據所述壓力信號判斷所述蒸發源內的蒸鍍材料的重量。

可選地，所述的蒸鍍設備，其中，所述蒸鍍設備包括至少兩個所述蒸發源；