[發(fā)明專利]一種濕法處理氮氧化物廢氣的方法和系統(tǒng)

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• 申請日: 2019-06-17
• 公開（公告）號: CN110215824A
• 公開（公告）日: 2019-09-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 秦學(xué)禮;張群;林東安;徐剛;彭定志;孫孝宏
• 申請（專利權(quán)）人: 世源科技工程有限公司;中國電子工程設(shè)計院有限公司
• 主分類號: B01D53/78
• 分類號: B01D53/78;B01D53/56
• 代理公司: 北京同達信恒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291
• 代理人: 黃志華

1.一種濕法處理氮氧化物廢氣的方法，其特征在于，包括以下步驟：

S100：將一氧化氮氧化為二氧化氮的步驟；

S101：二氧化氮還原的步驟；

S102：酸性廢氣處理的步驟。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在步驟S100中，采用氧化劑溶液進行氧化，所述氧化劑溶液中的氧化劑選自NaClO、NaClO₂、KMnO₄中的一種或一種以上。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，在步驟S100中，將一氧化氮氧化為二氧化氮時，所述氧化劑溶液的氧化還原電位在200mV～800mV之間。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在步驟S101中，采用還原劑溶液進行還原，所述還原劑溶液中的還原劑選自Na₂S、NaHS、Na₂SO₃、Na₂S₂O₃中的一種或一種以上。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，在步驟S101中，還原二氧化氮時，所述還原劑溶液的氧化還原電位在-200mV～-500mV之間。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在步驟S102中，采用氫氧化鈉溶液進行酸性廢氣處理。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述氫氧化鈉溶液的pH值為9～13。

8.一種濕法處理氮氧化物廢氣的系統(tǒng)，其特征在于，包括：從上游至下游依次設(shè)置的一氧化氮氧化裝置(1)、二氧化氮還原裝置(2)、以及酸性廢氣處理裝置(3)。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)還包括進風(fēng)管路(5)、排風(fēng)裝置(4)和排風(fēng)管路(6)；所述排風(fēng)裝置(4)設(shè)置在所述酸性廢氣處理裝置(3)的下游，所述排風(fēng)管路(6)設(shè)置在所述排風(fēng)裝置(4)的下游；所述進風(fēng)管路(5)設(shè)置在所述一氧化氮氧化裝置(1)的上游、并與所述一氧化氮氧化裝置(1)連接。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述一氧化氮氧化裝置(1)包括外殼(101)、噴淋口(120)、循環(huán)液儲存器(121)、循環(huán)液泵(104)，液位計(105)、氧化還原電位儀(106)、電導(dǎo)率儀(107)，氧化劑供液管(131)、補水管(132)、排污管(133)，用于控制補充氧化劑溶液的第一閥門(108)、用于控制補水的第二閥門(109)、用于控制污水排放的第三閥門(110)、自動控制器(111)，用于氮氧化物廢氣進入的氣體入口(141)、用于排出處理后的廢氣的氣體出口(142)、循環(huán)液收集口(143)；

所述外殼(101)內(nèi)設(shè)置有所述噴淋口(120)，所述外殼(101)的上游設(shè)置有所述氣體入口(141)，下游設(shè)置有所述氣體出口(142)；所述外殼(101)與所述循環(huán)液儲存器(121)之間設(shè)置有循環(huán)液收集口(143)，所述循環(huán)液泵(104)將所述循環(huán)液儲存器(121)內(nèi)的循環(huán)液泵入、并由噴淋口(120)進入到所述外殼(101)中；

所述循環(huán)液儲存器(121)與所述液位計(105)、所述氧化還原電位儀(106)、所述電導(dǎo)率儀(107)這三者分別連接，所述自動控制器(111)與所述液位計(105)電連接，所述自動控制器(111)與所述第二閥門(109)電連接，所述自動控制器(111)與所述氧化還原電位儀(106)電連接，所述自動控制器(111)與所述第一閥門(108)電連接，所述自動控制器(111)與所述電導(dǎo)率儀(107)電連接，所述自動控制器(111)與第三閥門(110)電連接；所述第一閥門(108)設(shè)置在所述氧化劑供液管(131)上，所述第二閥門(109)設(shè)置在所述補水管(132)上，所述第三閥門(110)設(shè)置在所述排污管(133)上；

所述二氧化氮還原裝置(2)包括外殼(201)、噴淋口(220)、循環(huán)液儲存器(221)、循環(huán)液泵(204)，液位計(205)、氧化還原電位儀(206)、電導(dǎo)率儀(207)，還原劑供液管(231)、補水管(232)、排污管(233)，用于控制補充還原劑溶液的第一閥門(208)、用于控制補水的第二閥門(209)、用于控制污水排放的第三閥門(210)、自動控制器(211)，用于經(jīng)一氧化氮氧化裝置(1)處理后的廢氣進入的氣體入口(241)、用于排出處理后的廢氣的氣體出口(242)、循環(huán)液收集口(243)；

所述外殼(201)內(nèi)設(shè)置有所述噴淋口(220)，所述外殼(201)的上游設(shè)置有所述氣體入口(241)，下游設(shè)置有所述氣體出口(242)；所述外殼(201)與所述循環(huán)液儲存器(221)之間設(shè)置有循環(huán)液收集口(243)，所述循環(huán)液泵(204)將所述循環(huán)液儲存器(221)內(nèi)的循環(huán)液泵入、并由噴淋口(220)進入到所述外殼(201)中；

所述循環(huán)液儲存器(221)與所述液位計(205)、所述氧化還原電位儀(206)、所述電導(dǎo)率儀(207)這三者分別連接，所述自動控制器(211)與所述液位計(205)電連接，所述自動控制器(211)與所述第二閥門(209)電連接，所述自動控制器(211)與所述氧化還原電位儀(206)電連接，所述自動控制器(211與所述第一閥門(208)電連接，所述自動控制器(211)與所述電導(dǎo)率儀(207)電連接，所述自動控制器(211)與第三閥門(210)電連接；所述第一閥門(208)設(shè)置在所述還原劑供液管(231)上，所述第二閥門(209)設(shè)置在所述補水管(232)上，所述第三閥門(210)設(shè)置在所述排污管(233)上；

所述酸性廢氣處理裝置(3)包括外殼(301)、噴淋口(320)、循環(huán)液儲存器(321)、循環(huán)液泵(304)，液位計(305)、pH值測試儀(306)、電導(dǎo)率儀(307)，氫氧化鈉供液管(331)、補水管(332)、排污管(333)，用于控制補充氫氧化鈉溶液的第一閥門(308)、用于控制補水的第二閥門(309)、用于控制污水排放的第三閥門(310)、自動控制器(311)，用于經(jīng)二氧化氮還原裝置(2)處理后的廢氣進入的氣體入口(341)、用于排出處理后的廢氣的氣體出口(342)、循環(huán)液收集口(343)；

所述外殼(301)內(nèi)設(shè)置有所述噴淋口(320)，所述外殼(301)的上游設(shè)置有所述氣體入口(341)，下游設(shè)置有所述氣體出口(342)；所述外殼(301)與所述循環(huán)液儲存器(321)之間設(shè)置有循環(huán)液收集口(343)，所述循環(huán)液泵(304)將所述循環(huán)液儲存器(321)內(nèi)的循環(huán)液泵入、并由噴淋口(320)進入到所述外殼(301)中；

所述循環(huán)液儲存器(321)與所述液位計(305)、所述pH值測試儀(306)、所述電導(dǎo)率儀(307)這三者分別連接，所述自動控制器(311)與所述液位計(305)電連接，所述自動控制器(311)與所述第二閥門(309)電連接，所述自動控制器(311)與所述pH值測試儀(306)電連接，所述自動控制器(311)與所述第一閥門(308)電連接，所述自動控制器(311)與所述電導(dǎo)率儀(307)電連接，所述自動控制器(311)與第三閥門(310)電連接；所述第一閥門(308)設(shè)置在所述氫氧化鈉供液管(331)上，所述第二閥門(309)設(shè)置在所述補水管(332)上，所述第三閥門(310)設(shè)置在所述排污管(333)上。