[發明專利]一種光催化降解水體中抗生素的方法

有效

• 申請號: 201910520175.8
• 申請日: 2019-06-17
• 公開（公告）號: CN110217850B
• 公開（公告）日: 2021-06-18
• 發明（設計）人: 王侯;張荊晶;袁興中;蔣龍波
• 申請（專利權）人: 湖南大學
• 主分類號: C02F1/28
• 分類號: C02F1/28;C02F1/30;B01J27/24;C02F101/30
• 代理公司: 北京海虹嘉誠知識產權代理有限公司 11129
• 代理人: 向群

1.一種光催化降解水體中抗生素的方法，其特征在于，包括：將光催化劑添加到含有抗生素的待處理水樣中；所述含有抗生素的待處理水樣為鹽酸金霉素廢水；所述光催化劑為一價銅離子修飾的氮化碳骨架材料，且為多孔結構；

所述一價銅離子修飾的氮化碳骨架材料為氧化亞銅負載和一價銅離子摻雜的氮化碳骨架；

所述一價銅離子修飾的氮化碳骨架材料的俄歇峰包括571.3eV；

所述光催化劑的制備方法包括如下步驟：將二水合氯化銅，三聚氰胺與硫氰酸銨混合，得到混合物前驅體；將所述混合物前驅體進行煅燒，得到一價銅離子修飾的氮化碳骨架光催化劑；

所述二水合氯化銅與三聚氰胺的質量比為20%，硫氰酸銨與三聚氰胺的質量比為2.5%~22.5%。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述一價銅離子修飾的氮化碳骨架材料的比表面積為57.4 m² g^?1。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述一價銅離子修飾的氮化碳骨架材料中的一價銅離子的存在形式為與有機氮原子鍵合的摻雜型一價銅離子與晶體氧化亞銅。

4.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述一價銅離子修飾的氮化碳骨架材料中的一價銅離子的存在形式為與有機氮原子鍵合的摻雜型一價銅離子與晶體氧化亞銅。

5.根據權利要求1-4任一所述的方法，其特征在于，還包括：將添加了光催化劑的待處理水樣在暗處攪拌達到吸附平衡后在模擬日光條件下進行光催化反應。

6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述一價銅離子修飾的氮化碳骨架材料與所述含有抗生素的待處理水樣的質量體積比為0.8g∶1L。

7.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述鹽酸金霉素廢水中鹽酸金霉素的濃度為20 mg/L，所述鹽酸金霉素廢水的pH為2～7。

8.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述鹽酸金霉素廢水中鹽酸金霉素的濃度為20 mg/L，所述鹽酸金霉素廢水的pH為2～7。

9.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，攪拌吸附過程中轉速為420 r/min，攪拌吸附時間為2h，光照時間為1h。

10.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述在暗處攪拌達到吸附平衡指，在暗處轉速為420 r/min磁力攪拌1h-2h；模擬日光條件指在λ≥420nm的可見光下照射。