[發明專利]基于折射率匹配的背光角度控制方法在審
| 申請號: | 201910519715.0 | 申請日: | 2019-06-17 |
| 公開(公告)號: | CN110262128A | 公開(公告)日: | 2019-09-20 |
| 發明(設計)人: | 王緒豐;樊衛華;高慧芳;洪乙又;吳金華;曹允;吳添德;孫磊;李忠良 | 申請(專利權)人: | 南京國兆光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/13357 | 分類號: | G02F1/13357 |
| 代理公司: | 南京天華專利代理有限責任公司 32218 | 代理人: | 瞿網蘭;徐冬濤 |
| 地址: | 211100 江蘇省南京市江寧開*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 背光 介質層 微結構 折射率匹配 角度控制 光學膜 折射率 出射 多角度觀察 光學膜表面 基材折射率 空氣介質 多位 填充 匹配 觀察 | ||
1.一種基于折射率匹配的背光角度控制方法,其特征是在光學膜表面設計一微結構,使微結構的折射率與光學膜基材折射率匹配,同時在出光微結構間隙內填充一層滿足所需折射率的介質層,調整介質層的形狀,通過上述組合中參數的調整,使經過此光學膜出射的光線經過所述的介質層后再進入空氣介質中,從而控制背光角度按照多位觀察者需要的角度出射。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征是光學膜表面微結構形狀為非對稱或者對稱。
3.根據權利要求1所述的方法,其特征是光學膜表面微結構形狀為特殊曲面、矩形、梯形或者其他形狀。
4.根據權利要求1所述的方法,其特征是所述的介質層的厚度不低于微結構的垂直高度。
5.根據權利要求1所述的方法,其特征是所述的控制角度光學膜基材折射率范圍在1.62至1.75之間,微結構折射率范圍在1.55至1.62之間,介質層的折射率介于1.2-1.4之間。
6.根據權利要求1所述的方法,其特征是所述的微結構的尺寸:20μm至150μm。
7.根據權利要求1所述的方法,其特征是所述的微結構為等節距或非等距結構。
8.根據權利要求1所述的方法,其特征是所述的介質層的透光率大于98%。
9.根據權利要求1所述的方法,其特征是所述的介質層表面形狀可以為曲面或者其他形狀。
10.根據權利要求1所述的方法,其特征是背光方式為側背光或直下式背光。
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