[發明專利]導光板亮點缺陷檢測方法有效
| 申請號: | 201910513783.6 | 申請日: | 2019-06-14 |
| 公開(公告)號: | CN110530894B | 公開(公告)日: | 2022-05-13 |
| 發明(設計)人: | 樓小棟;李俊峰;李越;盧彭飛;萬超楊 | 申請(專利權)人: | 杭州舜浩科技有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/956 | 分類號: | G01N21/956 |
| 代理公司: | 杭州中成專利事務所有限公司 33212 | 代理人: | 金祺 |
| 地址: | 311215 浙江省杭州市蕭山區蕭*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 導光板 亮點 缺陷 檢測 方法 | ||
1.導光板亮點缺陷檢測方法,其特征在于:包括以下步驟:
(1)采集導光板圖像F;執行步驟(2);
(2)檢測導光板邊緣,得到導光板邊緣圖像;執行步驟(3);
步驟(2)為通過Canny邊緣檢測算法檢測出導光板圖像的邊緣,包括以下步驟:
第一步,進行高斯平滑濾波,大小為(2k+1)×(2k+1)的高斯濾波器核公式如下:
式中σ為標準差;H是高斯濾波核矩陣;Hij為高斯濾波核矩陣第i行第j列元素;i是高斯濾波核矩陣行索引;j是高斯濾波核矩陣列索引;
使用高斯濾波器與圖像進行卷積,卷積運算公式如下:
fs(x,y)=H*f(x,y)
式中fs(x,y)是高斯濾波后的圖像點(x,y)處的灰度值,H是高斯濾波器,f(x,y)是要進行高斯濾波的圖像,*表示卷積運算;
第二步,計算梯度大小與方向,確定像素點的梯度大小M(x,y)和方向α(x,y);
式中fs是第一步中高斯濾波后的圖像;gx和gy分別是水平和垂直方向的一階導數值;
第三步,應用非極大值(Non-Maximum Suppression)抑制,以消除邊緣檢測帶來的雜散響應;
此操作主要分為以下兩個步驟,
選擇最接近α(x,y)的方向dk;
若M(x,y)的值至少小于dk的兩個鄰居的梯度大小之一,則令gN(x,y)=0,gN(x,y)=0表示抑制;否則,令gN(x,y)=M(x,y),這里gN(x,y)是指非最大抑制后的圖像;
第四,用雙閾值處理和連接分析來檢測并連接邊緣;對gN(x,y)進行閾值處理,以便減少偽邊緣點;得到導光板邊緣圖像;
(3)對導光板邊緣圖像進行分區操作,得到疏區圖像與密區圖像;執行步驟(4);
(4)對疏區圖像進行檢測邊緣,得到疏區邊緣圖像;執行步驟(5);
(5)對疏區邊緣圖像和疏區圖像進行加法運算,并閾值提取可能亮點缺陷,得到疏區可能亮點缺陷圖像;執行步驟(6);
(6)求取疏區可能亮點缺陷圖像的連通域,得到疏區連通域圖像;執行步驟(7);
(7)根據特征選擇疏區連通域圖像,得到疏區可能缺陷區域圖像;執行步驟(8);
(8)提取疏區可能缺陷區域圖像的骨架,得到疏區骨架圖像;執行步驟(9);
(9)對疏區骨架圖像進行特征提取,得到特征提取后疏區圖像;執行步驟(10);
(10)使用SVM分類特征提取后疏區圖像的亮點缺陷與非亮點缺陷,得到疏區亮點缺陷圖像;執行步驟(11);
(11)檢測密區圖像缺陷,均值濾波,得到第一次密區均值濾波結果圖和第二次密區值濾波結果圖;執行步驟(12);
(12)第一次密區均值濾波結果圖減去第二次密區值濾波結果圖,得到密區缺陷圖像;執行步驟(13);
(13)對步驟(12)中的密區缺陷圖像求取標準差,進一步凸顯缺陷,得到密區灰度值處理后的標準差圖像;執行步驟(14);
(14)對密區灰度值處理后的標準差圖像消除背景影響,得到缺陷明顯的密區缺陷圖像;執行步驟(15);
(15)對缺陷明顯的密區缺陷圖像進行灰度變換和閾值分割,得到密區可能亮點缺陷圖像;執行步驟(16);
(16)對密區可能亮點缺陷圖像進行腐蝕操作,得到密區腐蝕后圖像;執行步驟(17);
(17)對密區腐蝕后圖像求取連通域,得到密區缺陷區域圖像;執行步驟(18);
(18)根據特征對密區缺陷區域圖像選擇缺陷區域,得到密區亮點缺陷圖像;執行步驟(19);
(19)顯示缺陷區域,得到導光板亮點缺陷檢測圖。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于杭州舜浩科技有限公司,未經杭州舜浩科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910513783.6/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





