[發(fā)明專利]一種基于散射場信息的超聲蘭姆波層析成像方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910506674.1
• 申請日: 2019-06-12
• 公開（公告）號: CN112083073A
• 公開（公告）日: 2020-12-15
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 呂貴陽
• 申請（專利權(quán)）人: 戈昱科技（上海）有限公司
• 主分類號: G01N29/06
• 分類號: G01N29/06;G01N29/44
• 代理公司: 上海宏京知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31297
• 代理人: 趙朋曉

1.一種基于散射場信息的超聲蘭姆波層析成像方法，其特征在于，所述方法包括以下步驟：

步驟1：獲取待測試件缺陷的散射場數(shù)據(jù)；

步驟2：基于散射場數(shù)據(jù)，利用缺陷重構(gòu)算法重構(gòu)待測試件缺陷的形狀和大小。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于散射場信息的超聲蘭姆波層析成像方法，其特征在于：獲取待測試件缺陷的散射場數(shù)據(jù)的步驟為：

步驟1.1：確定待測試件缺陷的超聲蘭姆波入射角度，在360°范圍內(nèi)，沿著入射角度入射待測試件，進(jìn)行衍射投影；

步驟1.2：利用圓環(huán)形結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)接收模型接收各個方向的散射場數(shù)據(jù)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基于散射場信息的超聲蘭姆波層析成像方法，其特征在于：衍射投影的個數(shù)為8。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于散射場信息的超聲蘭姆波層析成像方法，其特征在于：利用缺陷重構(gòu)算法重構(gòu)待測試件缺陷的形狀和大小的步驟為：

步驟2.1：對散射場數(shù)據(jù)進(jìn)行一維傅立葉變換，得到不同入射角度下待測試件缺陷的二維傅立葉變換域在各圓弧上分布的傅立葉值；

步驟2.2：對于圓弧上分布的傅立葉值進(jìn)行二維傅立葉反變換，利用衍射層析投影定理重構(gòu)待測試件缺陷的形狀和大小。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于散射場信息的超聲蘭姆波層析成像方法，其特征在于：待測試件缺陷的形狀包括圓形、正方形、十字形、橢圓形、矩形、以及跑道形。

6.根據(jù)權(quán)利要求2或5所述的基于散射場信息的超聲蘭姆波層析成像方法，其特征在于：待測試件圓形缺陷的超聲蘭姆波入射角度為0°，正方形缺陷、十字形缺陷的超聲蘭姆波入射角度為0～45°，橢圓形缺陷、矩形缺陷、跑道形缺陷的超聲蘭姆波入射角度為0～90°。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基于散射場信息的超聲蘭姆波層析成像方法，其特征在于：正方形缺陷、十字形缺陷的超聲蘭姆波入射角度選擇為0°、11.25°、22.5°、33.75°以及45°，橢圓形缺陷、矩形缺陷、跑道形缺陷的超聲蘭姆波入射角度選擇為0°、11.25°、22.5°、33.75°、45°、56.25°、67.5°、78.75°以及90°。

8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基于散射場信息的超聲蘭姆波層析成像方法，其特征在于：利用衍射層析投影定理重構(gòu)待測試件缺陷時采用頻域內(nèi)插算法重構(gòu)待測試件缺陷的形狀和大小。