[發明專利]一種多輻照目標材料輻照考驗堆芯結構及布置和運行方法有效
| 申請號: | 201910506312.2 | 申請日: | 2019-06-12 |
| 公開(公告)號: | CN110211710B | 公開(公告)日: | 2022-03-25 |
| 發明(設計)人: | 徐濤忠;朱磊;劉水清;楊斌;鄧才玉;陳啟兵;向玉新;康長虎;張平;馬立勇 | 申請(專利權)人: | 中國核動力研究設計院 |
| 主分類號: | G21C5/12 | 分類號: | G21C5/12;G21C23/00;G21K5/00 |
| 代理公司: | 成都行之專利代理事務所(普通合伙) 51220 | 代理人: | 廖慧敏 |
| 地址: | 610000 四*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 輻照 目標 材料 考驗 結構 布置 運行 方法 | ||
1.一種多輻照目標材料輻照考驗堆芯結構,從上至下依次將HFETR堆芯的橫排柵元用A至V的字母編號,從左至右依次將HFETR堆芯的斜排柵元用1至12的數字編號,其特征在于,將G7、P15和K7位置設置為輻照孔道,在該輻照孔道內設置安裝有目標材料的輻照裝置;
與G7相鄰的位置處設置兩個強吸收體靶件,與K7相鄰的位置處設置一個強吸收體靶件和一個鈹塊,與P15相鄰的位置處設置一個鈹塊和兩個強吸收體靶件。
2.根據權利要求1所述的一種多輻照目標材料輻照考驗堆芯結構,其特征在于,與K7相鄰的強吸收體靶件設置在K7位置的陽面,與K7相鄰的鈹塊設置在K7位置的陰面,與P15相鄰的鈹塊和兩個強吸收體靶件設置在P15位置的陽面。
3.根據權利要求2所述的一種多輻照目標材料輻照考驗堆芯結構,其特征在于,所述強吸收體靶件的位置為G6、H8、K8、P14和O15,所述鈹塊的位置為K6和O14。
4.根據權利要求1所述的一種多輻照目標材料輻照考驗堆芯結構,其特征在于,所述輻照孔道的直徑為63mm。
5.根據權利要求1-4任一項所述的一種多輻照目標材料輻照考驗堆芯結構,其特征在于,所述HFETR堆芯的主要設計參數為:
其中,1ZB和2ZB的堆芯位置分別為14R和8E。
6.基于權利要求1所述堆芯結構的布置方法,其特征在于,包括:
在靠近G7和K7位置一側增加新核燃料元件布置,在靠近P15位置一側增加舊核燃料元件布置,并改變原有提棒方式,價值較大的1SB和2SB最后提升,其中,1SB和2SB的堆芯位置分別為9I和13M。
7.根據權利要求6所述的布置方法,其特征在于,新核燃料元件布置在活性區中心區域。
8.根據權利要求6所述的布置方法,其特征在于,在2ZB周圍增加新核燃料元件和淺燃耗核燃料元件布置,在1ZB周圍增加深燃耗核燃料元件布置或布置同位素靶件;其中,1ZB和2ZB的堆芯位置分別為14R和8E。
9.根據權利要求6所述的布置方法,其特征在于,在堆芯結構的活性區外圍增加反射層布置。
10.基于權利要求1所述堆芯結構的運行方法,其特征在于,采取中途停堆換面的方式,在輻照380MWd時換面。
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