[發明專利]一種在有機材料表面制備抗反射微納結構的方法在審
| 申請號： | 201910504740.1 | 申請日： | 2019-06-12 |
| 公開（公告）號： | CN110194436A | 公開（公告）日： | 2019-09-03 |
| 發明（設計）人： | 葉鑫;胡錫亨;邵婷;李青芝;唐烽;石兆華;夏漢定;孫來喜 | 申請（專利權）人： | 中國工程物理研究院激光聚變研究中心 |
| 主分類號： | B81C1/00 | 分類號： | B81C1/00;G02B1/11 |
| 代理公司： | 北京高沃律師事務所 11569 | 代理人： | 劉瀟 |
| 地址： | 621054*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 反應離子刻蝕 微納結構 有機材料表面 惰性氣體 抗反射 氧氣 制備 有機材料 再沉積物 制備技術領域 干法刻蝕 刻蝕氣體 流量比 微掩模 掩模板 | ||
【權利要求書】：
1.一種在有機材料表面制備抗反射微納結構的方法，其特征在于，包括以下步驟：
對有機材料進行反應離子刻蝕，在所述有機材料表面形成抗反射微納結構；其中，所述反應離子刻蝕所采用的刻蝕氣體為氧氣和惰性氣體，所述氧氣的流量為1～50SCCM，惰性氣體的流量為1～100SCCM，且所述氧氣和惰性氣體的流量比為1：(1～10)；所述反應離子刻蝕的功率為10～250W。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述反應離子刻蝕在工作壓強為0.5～200Pa的條件下進行。
3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述反應離子刻蝕的時間為1～60min。
4.根據權利要求1～3任一項所述的方法，其特征在于，所述惰性氣體包括氬氣或氦氣。
5.根據權利要求1～3任一項所述的方法，其特征在于，所述有機材料包括交聯聚酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、三醋酸纖維素、全氟乙烯丙烯共聚物、聚乙烯醇或聚碳酸酯。
6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述有機材料以有機物基片或有機物涂層形式進行反應離子刻蝕。
7.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述有機材料在使用前進行表面清潔處理。
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