[發明專利]一種基于飛秒激光光刻技術的光波導隔離器的制作方法在審
| 申請號: | 201910502612.3 | 申請日: | 2019-06-11 |
| 公開(公告)號: | CN110346869A | 公開(公告)日: | 2019-10-18 |
| 發明(設計)人: | 侯方;劉欣;徐智忠 | 申請(專利權)人: | 北京兆維智能裝備有限公司 |
| 主分類號: | G02B6/13 | 分類號: | G02B6/13;G02B6/12;G02F1/095 |
| 代理公司: | 北京輕創知識產權代理有限公司 11212 | 代理人: | 吳東勤 |
| 地址: | 100015 北京市朝陽*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 磁旋光玻璃 光波導隔離器 飛秒激光 旋轉檢偏器 光刻技術 拋光 光波導 起偏器 波導 制作 長方體形 光刻系統 檢測裝置 寫入光 旋光 備用 測量 側面 貫穿 加工 | ||
1.一種基于飛秒激光光刻技術的光波導隔離器的制作方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1、將長方體形的磁旋光玻璃塊(1)的六個側面均拋光,備用;
S2、將所述步驟S1得到的所述磁旋光玻璃塊(1)置于飛秒激光光刻系統中,對所述磁旋光玻璃塊(1)進行加工,具體為,在所述磁旋光玻璃塊(1)中沿其長度方向寫入光波導;
S3、搭建用于測量磁旋光玻璃中波導的旋光特性的檢測裝置,所述檢測裝置包括均沿縱向并從前至后依次設置的激光發射機構(3)、起偏器(4)、第一顯微物鏡(5)、波導(6)、第二顯微物鏡(7)、旋轉檢偏器(8)和探測器(2),然后在沿縱向在所述波導(6)所在區域施加磁場強度為A的磁場,施加磁場前后所述旋轉檢偏器(8)的讀數始終保持為零,得到施加磁場前后所述旋轉檢偏器(8)的角度差Δθ;
S4、將所述步驟S2中處理完的所述磁旋光玻璃塊(1)的長度方向的兩端拋光,使得所述磁旋光玻璃塊(1)中的光波導貫穿所述磁旋光玻璃塊(1),并在所述磁旋光玻璃塊(1)的光波導的兩側分別設置起偏器(4)和旋轉檢偏器(8),且所述起偏器(4)和旋轉檢偏器(8)之間的夾角為45°,在所述磁旋光玻璃塊(1)所在區域施加磁場強度為的磁場,所述磁旋光玻璃塊(1)及其兩側的起偏器(4)和旋轉檢偏器(8)構成所述光波導隔離器。
2.如權利要求1所述的一種基于飛秒激光光刻技術的光波導隔離器的制作方法,其特征在于,所述步驟S2中將所述步驟S1得到的磁旋光玻璃塊(1)置于飛秒激光光刻系統中,并在飛秒激光的寫入功率為3mW,寫入速度為40μm/s,縱向寫入波導(6)長度為1mm的條件下對所述磁旋光玻璃塊(1)進行加工。
3.如權利要求1所述的一種基于飛秒激光光刻技術的光波導隔離器的制作方法,其特征在于,所述步驟S2中激光發射機構(3)發出的激光的波長為980nm。
4.如權利要求1-3任一項所述的一種基于飛秒激光光刻技術的光波導隔離器的制作方法,其特征在于,所述步驟S3中第一顯微物鏡(5)為10×顯微物鏡。
5.如權利要求1-3任一項所述的一種基于飛秒激光光刻技術的光波導隔離器的制作方法,其特征在于,所述步驟S3中第二顯微物鏡(7)為10×顯微物鏡。
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