[發明專利]一種用于壓接型IGBT的絕緣框架結構在審
| 申請號: | 201910501701.6 | 申請日: | 2019-06-11 |
| 公開(公告)號: | CN110416194A | 公開(公告)日: | 2019-11-05 |
| 發明(設計)人: | 張雷;楊曉亮;杜玉杰;李金元;張西子;陳艷芳 | 申請(專利權)人: | 全球能源互聯網研究院有限公司 |
| 主分類號: | H01L25/07 | 分類號: | H01L25/07;H01L29/739;H01L23/04;H01L23/08 |
| 代理公司: | 北京安博達知識產權代理有限公司 11271 | 代理人: | 徐國文 |
| 地址: | 102209 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 立柱 絕緣框架 傘裙 導向隔板 內凹槽 壓接 機械性能 開模注塑成型 凹槽內部 并聯結構 電氣絕緣 改性塑料 固定定位 局部放電 絕緣配合 排除空氣 批量加工 受熱膨脹 豎直設置 穩定性強 依次排列 有效解決 多芯片 高電壓 灌膠口 硅凝膠 排氣孔 傘裙片 體積小 易加工 兩層 爬電 灌注 | ||
1.一種用于壓接型IGBT的絕緣框架結構,其特征在于,包括內凹槽、E極立柱、G極立柱、導向隔板和傘裙;
所述導向隔板和傘裙分別位于內凹槽的下側和外側,所述E極立柱和G極立柱均豎直設置在內凹槽內部;
所述傘裙包括至少兩層依次排列的L型傘裙片。
2.根據權利要求1所述的用于壓接型IGBT的絕緣框架結構,其特征在于,所述傘裙片的數量隨電壓等級的升高而依次遞增。
3.根據權利要求1所述的用于壓接型IGBT的絕緣框架結構,其特征在于,所述L型傘裙片的長度相等或按照從外到里的順序依次遞增。
4.根據權利要求2所述的用于壓接型IGBT的絕緣框架結構,其特征在于,所述L型傘裙片的厚度小于相鄰L型傘裙片的間距。
5.根據權利要求1所述的用于壓接型IGBT的絕緣框架結構,其特征在于,所述內凹槽包括位于底部的分隔板和位于四周的擋板;
所述分隔板上設有灌膠口和排氣孔。
6.根據權利要求4所述的用于壓接型IGBT的絕緣框架結構,其特征在于,所述灌膠口為圓形或橢圓形,用于封裝IGBT芯片時灌注硅凝膠;
所述排氣孔設有多個且均勻分布,用于灌注硅凝膠時排除空氣。
7.根據權利要求5所述的用于壓接型IGBT的絕緣框架結構,其特征在于,所述內凹槽的深度與硅凝膠的厚度相等。
8.根據權利要求4所述的用于壓接型IGBT的絕緣框架結構,其特征在于,所述E極立柱的一側與分隔板連接,其另一側與IGBT芯片設有預設距離。
9.根據權利要求4所述的用于壓接型IGBT的絕緣框架結構,其特征在于,所述E極立柱的內部設有孔,所述孔為方形孔,所述方形孔用于放置E極鉬片,并對E極引出端進行限位。
10.根據權利要求4所述的用于壓接型IGBT的絕緣框架結構,其特征在于,所述G極立柱一側與分隔板連接;
所述G極立柱的內部設有孔,所述孔對G極引出端進行限位。
11.根據權利要求1所述的用于壓接型IGBT的絕緣框架結構,其特征在于,所述E極立柱的數量與IGBT芯片數量相等;
所述G極立柱的數量至少為兩個。
12.根據權利要求4所述的用于壓接型IGBT的絕緣框架結構,其特征在于,所述導向隔板豎直設置于分隔板下側,其設有孔;
所述孔與E極立柱的孔以及G極立柱的孔相通,用于將IGBT芯片的E極引出端壓入E極立柱時對E極引出端進行導向定位和相互隔離,并用于將IGBT芯片的G極引出端壓入G極立柱時對G極引出端進行導向定位和相互隔離。
13.根據權利要求10所述的用于壓接型IGBT的絕緣框架結構,其特征在于,所述E極引出端的數量與E極立柱的數量相等,所述G極引出端的數量與G極立柱的數量相等;
所述導向隔板上孔的尺寸與G極引出端和E極引出端相匹配,所述孔的數量為E極引出端的數量與G極引出端的數量之和。
14.根據權利要求4所述的用于壓接型IGBT的絕緣框架結構,其特征在于,所述絕緣框架結構還包括支撐槽,所述支撐槽用于對IGBT芯片進行封裝時的C極鉬板進行定位和支撐;
所述支撐槽尺寸與C極鉬片相匹配,所述C極鉬片與分隔板平行。
15.根據權利要求12所述的用于壓接型IGBT的絕緣框架結構,其特征在于,所述支撐槽內部設有凹槽,所述凹槽內填充粘結劑;
所述粘結劑用于將對IGBT芯片進行封裝時的C極鉬板與支撐槽固定。
16.根據權利要求1所述的用于壓接型IGBT的絕緣框架結構,其特征在于,所述絕緣框架結構采用阻燃樹脂類改性塑料開模注塑成型,其尺寸偏差不大于0.1mm;
所述絕緣框架結構的高度高于對應電壓等級電氣間隙要求的高度,且相比漏電起痕指數大于等于600。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于全球能源互聯網研究院有限公司,未經全球能源互聯網研究院有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910501701.6/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類





