[發明專利]一種光刻板在審
| 申請號: | 201910496669.7 | 申請日: | 2019-06-10 |
| 公開(公告)號: | CN110174814A | 公開(公告)日: | 2019-08-27 |
| 發明(設計)人: | 張軼;劉世光;李春領 | 申請(專利權)人: | 中國電子科技集團公司第十一研究所 |
| 主分類號: | G03F1/60 | 分類號: | G03F1/60 |
| 代理公司: | 工業和信息化部電子專利中心 11010 | 代理人: | 張然 |
| 地址: | 100015*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光刻板 子板 光刻圖形 母板 光刻工藝 有效解決 光刻機 把持 | ||
本發明公開了一種光刻板,本發明的光刻板由母板和子板兩部分組成,光刻圖形設置在子板上,操作人員把持母板,將光刻板安裝入光刻機進行光刻工藝,由于子板的厚度高于堆膠的高度,所以可以有效避免堆膠對光刻的影響,從而有效解決現有技術中因堆膠導致的光刻圖形失真的問題。
技術領域
本發明涉及激光探測技術領域,特別是涉及一種光刻板。
背景技術
光刻技術是半導體制造行業最為重要的技術之一,其中,接觸式光刻技術由于其較高的效率和投入產出比,被廣泛應用。但是接觸式光刻技術應用于碲鎘汞芯片制造時,在旋轉涂膠過程中會形成邊角堆膠,從而形成高點,導致光刻板不能充分與樣片表面接觸,使得部分光刻圖形失真。
對于邊角堆膠,目前只能由熟練工藝人員用手術刀刮除,耗時耗力,且工藝穩定性差。因此,如何在堆膠情況下實現光刻成為現在亟待解決的問題。
發明內容
本發明提供了一種光刻板,以解決現有技術中由于堆膠導致的光刻圖形失真的問題。
本發明提供了一種光刻板,該光刻板包括:母板和子板;
所述母板,用于供操作者進行把持;
所述子板的底面與所述母板連接,所述子板的頂面設有光刻圖形,所述子板的厚度高于芯片表面的邊角堆膠的高度;
通過所述母板和所述子板使光線垂直透過所述光刻板。
優選地,所述子板為立方體結構。
優選地,所述子板為金字塔形,金字塔的頂面設有光刻圖形,金字塔的底面與所述母板連接。
優選地,所述母板的面積大于所述芯片的面積。
優選地,所述母板面積大于所述子板的面積。
優選地,所述芯片為以下任一種芯片:硅芯片、碲化鎘芯片和碲鎘汞芯片。
本發明有益效果如下:
本發明的光刻板由母板和子板兩部分組成,光刻圖形設置在子板上,操作人員把持母板,將光刻板安裝入光刻機進行光刻工藝,由于子板的厚度高于堆膠的高度,所以可以有效避免堆膠對光刻的影響,從而有效解決現有技術中因堆膠導致的光刻圖形失真的問題。
附圖說明
圖1是本發明實施例提供的母板的結構示意圖;
圖2是本發明實施例提供的子板的結構示意圖;
圖3是本發明實施例提供的光刻板的結構示意圖;
圖4是本發明實施例提供的光刻過程的示意圖。
具體實施方式
本發明實施例的光刻板由母板1和子板2兩部分組成,光刻圖形設置在子板2上,通過子板2的厚度來避免堆膠3使光刻板翹曲,從而使得光線能夠垂直透過光刻板,從而避免了堆膠3對光刻產生的影響。以下結合附圖以及實施例,對本發明進行進一步詳細說明。應當理解,此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發明,并不限定本發明。
本發明實施例提供了一種光刻板,參見圖1,該光刻板包括:相互連接的母板1和子板2;
母板1,用于供操作者進行把持,以將光刻板安裝到光刻機上;
子板2的底面21與母板1連接,子板2的頂面22設有光刻圖形,子板2的厚度高于芯片4表面的邊角堆膠3的高度;
通過母板1和子板2使光線垂直透過光刻板。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





